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真空间隙中经臭氧化水处理的铜电极的表面状况及电击穿特性
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作者 s.kobay ashi 《真空电器技术》 2001年第3期24-28,共5页
氧化水处理有一优点,即可除去有机污染,从而在表面上产生一钝化氧化膜,且经处理的表面状况可在空气中保持。这一技术已被应用在无氧铜电极的表面处理中。实验结果表明:在无任何防护下,首次电压施加时,击穿场并不总是提高的,但在... 氧化水处理有一优点,即可除去有机污染,从而在表面上产生一钝化氧化膜,且经处理的表面状况可在空气中保持。这一技术已被应用在无氧铜电极的表面处理中。实验结果表明:在无任何防护下,首次电压施加时,击穿场并不总是提高的,但在击穿处得到显著的老炼效应。此外,在经臭氧水处理的表面上附加的溅射净化提高了首次击穿场,表面分析证明,在经臭氧化水处理后,电极表面覆盖了一层氧化膜(CuO),经过由脉冲电压产生的500次重复击穿的老炼后,这一薄膜被去除,暴露出大部分铜,这些结果是根据处理后的表面能在空气中保持的特点得出的。 展开更多
关键词 真空灭弧度 真空间隙 臭氧化水处理 铜电极 电击穿特性
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