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p型掺杂Si/Ge量子点的电子拉曼散射(英文)
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作者 谭平恒 周霞 +5 位作者 杨富华 BOUGEARD D sabathil h VOGL P ABSTREITER G BRUNNER K 《光散射学报》 2004年第1期44-47,共4页
在本文中我们首次报道了p型掺杂的自组织Si/Ge量子点中空穴能级子带间的电子拉曼散射,此电子跃迁的能量为105meV。Si/Ge量子点Ge Ge模的共振拉曼散射表明此空穴能级间的电子拉曼散射与Γ点附近的E0(≈2.52eV)发生了共振,而E1的能量小于2... 在本文中我们首次报道了p型掺杂的自组织Si/Ge量子点中空穴能级子带间的电子拉曼散射,此电子跃迁的能量为105meV。Si/Ge量子点Ge Ge模的共振拉曼散射表明此空穴能级间的电子拉曼散射与Γ点附近的E0(≈2.52eV)发生了共振,而E1的能量小于2.3eV.变温实验和偏振实验进一步证实了我们的指认。所有观测的实验数据与6 bandk·p能带结构理论的计算结果吻合得很好。 展开更多
关键词 硅/锗量子点 电子拉曼散射 共振拉曼散射 P型掺杂 电子跃迁能量 能带结构
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