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p型掺杂Si/Ge量子点的电子拉曼散射(英文)
1
作者
谭平恒
周霞
+5 位作者
杨富华
BOUGEARD D
sabathil h
VOGL P
ABSTREITER G
BRUNNER K
《光散射学报》
2004年第1期44-47,共4页
在本文中我们首次报道了p型掺杂的自组织Si/Ge量子点中空穴能级子带间的电子拉曼散射,此电子跃迁的能量为105meV。Si/Ge量子点Ge Ge模的共振拉曼散射表明此空穴能级间的电子拉曼散射与Γ点附近的E0(≈2.52eV)发生了共振,而E1的能量小于2...
在本文中我们首次报道了p型掺杂的自组织Si/Ge量子点中空穴能级子带间的电子拉曼散射,此电子跃迁的能量为105meV。Si/Ge量子点Ge Ge模的共振拉曼散射表明此空穴能级间的电子拉曼散射与Γ点附近的E0(≈2.52eV)发生了共振,而E1的能量小于2.3eV.变温实验和偏振实验进一步证实了我们的指认。所有观测的实验数据与6 bandk·p能带结构理论的计算结果吻合得很好。
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关键词
硅/锗量子点
电子拉曼散射
共振拉曼散射
P型掺杂
电子跃迁能量
能带结构
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职称材料
题名
p型掺杂Si/Ge量子点的电子拉曼散射(英文)
1
作者
谭平恒
周霞
杨富华
BOUGEARD D
sabathil h
VOGL P
ABSTREITER G
BRUNNER K
机构
半导体超晶格国家重点实验室
Walter Schottky Institut
出处
《光散射学报》
2004年第1期44-47,共4页
文摘
在本文中我们首次报道了p型掺杂的自组织Si/Ge量子点中空穴能级子带间的电子拉曼散射,此电子跃迁的能量为105meV。Si/Ge量子点Ge Ge模的共振拉曼散射表明此空穴能级间的电子拉曼散射与Γ点附近的E0(≈2.52eV)发生了共振,而E1的能量小于2.3eV.变温实验和偏振实验进一步证实了我们的指认。所有观测的实验数据与6 bandk·p能带结构理论的计算结果吻合得很好。
关键词
硅/锗量子点
电子拉曼散射
共振拉曼散射
P型掺杂
电子跃迁能量
能带结构
Keywords
quantum dots
electronic Raman scattering
分类号
O657.37 [理学—分析化学]
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作者
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1
p型掺杂Si/Ge量子点的电子拉曼散射(英文)
谭平恒
周霞
杨富华
BOUGEARD D
sabathil h
VOGL P
ABSTREITER G
BRUNNER K
《光散射学报》
2004
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