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氢辅助脉冲直流溅射沉积的碳化硼薄膜的红外光学性质与机械性质的研究
1
作者
陈儒婷
SHIGENG SONG
+4 位作者
DES GIBSON
LEWIS FLEMING
sam ahmadzadeh
HIN ON CHU
XIAOLING ZHANG
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2020年第7期7039-7044,共6页
采用氢气为辅助气体,在不同氢气流速下用微波等离子体辅助脉冲直流磁控溅射系统制备碳化硼薄膜。碳化硼薄膜的设计厚度为1200 nm,过渡层非晶硅的设计厚度为500 nm。所用的基板为载玻片、Ge、Si、Si wafer、GaAs和JGS3。之后,采用傅里叶...
采用氢气为辅助气体,在不同氢气流速下用微波等离子体辅助脉冲直流磁控溅射系统制备碳化硼薄膜。碳化硼薄膜的设计厚度为1200 nm,过渡层非晶硅的设计厚度为500 nm。所用的基板为载玻片、Ge、Si、Si wafer、GaAs和JGS3。之后,采用傅里叶红外光谱(FT-IR),X射线衍射(XRD)、维氏硬度计(Vicker indenter),分析了氢气流速(0、3、7和10 mL/min)对碳化硼薄膜的光学性质和机械性质的影响。结果表明,氢气流速的增加,可以明显提高红外光学透过率,降低红外光光吸收率。与此同时,氢气的增加还能降低薄膜应力,使薄膜易于附着在基底上。然而,氢气也会使得碳化硼薄膜硬度降低。
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关键词
碳化硼薄膜
红外性质
机械性质
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职称材料
题名
氢辅助脉冲直流溅射沉积的碳化硼薄膜的红外光学性质与机械性质的研究
1
作者
陈儒婷
SHIGENG SONG
DES GIBSON
LEWIS FLEMING
sam ahmadzadeh
HIN ON CHU
XIAOLING ZHANG
机构
西安工业大学光电工程学院
Institute of Thin Films
Teer Coatings Ltd
出处
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2020年第7期7039-7044,共6页
文摘
采用氢气为辅助气体,在不同氢气流速下用微波等离子体辅助脉冲直流磁控溅射系统制备碳化硼薄膜。碳化硼薄膜的设计厚度为1200 nm,过渡层非晶硅的设计厚度为500 nm。所用的基板为载玻片、Ge、Si、Si wafer、GaAs和JGS3。之后,采用傅里叶红外光谱(FT-IR),X射线衍射(XRD)、维氏硬度计(Vicker indenter),分析了氢气流速(0、3、7和10 mL/min)对碳化硼薄膜的光学性质和机械性质的影响。结果表明,氢气流速的增加,可以明显提高红外光学透过率,降低红外光光吸收率。与此同时,氢气的增加还能降低薄膜应力,使薄膜易于附着在基底上。然而,氢气也会使得碳化硼薄膜硬度降低。
关键词
碳化硼薄膜
红外性质
机械性质
Keywords
boron carbide thin films
infrared optical properties
mechanical properties
分类号
TB32 [一般工业技术—材料科学与工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
氢辅助脉冲直流溅射沉积的碳化硼薄膜的红外光学性质与机械性质的研究
陈儒婷
SHIGENG SONG
DES GIBSON
LEWIS FLEMING
sam ahmadzadeh
HIN ON CHU
XIAOLING ZHANG
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2020
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