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更低温度下和重复再生时NiO/SiO_2催化剂上甲苯完全氧化反应(英文)
1
作者
sang wook han
Myung-Geun Jeong
+2 位作者
Il Hee Kim
Hyun Ook Seo
Young Dok Kim
《Chinese Journal of Catalysis》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2016年第11期1931-1940,共10页
采用原子层沉积法将NiO沉积到粒径约为100 mm、平均孔径为14 nm的中孔SiO_2颗粒的壳层(壳层厚度11 nm)区域,并分别在450和600°C进行热处理.将制得的这两种Ni/SiO_2样品用于催化甲苯分子吸附及其氧化为CO_2的反应中.结果发现,在450&...
采用原子层沉积法将NiO沉积到粒径约为100 mm、平均孔径为14 nm的中孔SiO_2颗粒的壳层(壳层厚度11 nm)区域,并分别在450和600°C进行热处理.将制得的这两种Ni/SiO_2样品用于催化甲苯分子吸附及其氧化为CO_2的反应中.结果发现,在450°C热处理的样品在甲苯吸附及其随后氧化为CO_2的反应中表现出更高的活性;当将该样品暴露在160°C甲苯蒸气中,然后加热到450°C时,排放出CO_2,而几乎没有甲苯脱附出来.这表明该催化剂可用于在200°C以下操作的、用于消除建筑物内有味气体的设备中,且该催化剂可以在450°C下经过热处理得到再生.
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关键词
多相催化
化学吸附
热脱附
中孔材料
甲苯氧化
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职称材料
题名
更低温度下和重复再生时NiO/SiO_2催化剂上甲苯完全氧化反应(英文)
1
作者
sang wook han
Myung-Geun Jeong
Il Hee Kim
Hyun Ook Seo
Young Dok Kim
机构
韩国成均馆大学化学系
韩国化学技术研究所(KRICT)纳米催化剂研究中心
出处
《Chinese Journal of Catalysis》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2016年第11期1931-1940,共10页
基金
supported by the National Research Council of Science and Technology(NST)through Degree and Research Center(DRC)Program(2015)
文摘
采用原子层沉积法将NiO沉积到粒径约为100 mm、平均孔径为14 nm的中孔SiO_2颗粒的壳层(壳层厚度11 nm)区域,并分别在450和600°C进行热处理.将制得的这两种Ni/SiO_2样品用于催化甲苯分子吸附及其氧化为CO_2的反应中.结果发现,在450°C热处理的样品在甲苯吸附及其随后氧化为CO_2的反应中表现出更高的活性;当将该样品暴露在160°C甲苯蒸气中,然后加热到450°C时,排放出CO_2,而几乎没有甲苯脱附出来.这表明该催化剂可用于在200°C以下操作的、用于消除建筑物内有味气体的设备中,且该催化剂可以在450°C下经过热处理得到再生.
关键词
多相催化
化学吸附
热脱附
中孔材料
甲苯氧化
Keywords
Heterogeneous catalysis
Chemisorption
Thermal desorption
Mesoporous material
Toluene oxidation
分类号
O643.36 [理学—物理化学]
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题名
作者
出处
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1
更低温度下和重复再生时NiO/SiO_2催化剂上甲苯完全氧化反应(英文)
sang wook han
Myung-Geun Jeong
Il Hee Kim
Hyun Ook Seo
Young Dok Kim
《Chinese Journal of Catalysis》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2016
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