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石英玻璃的MeV离子注入效应(英文)
1
作者
石成儒
t.a.tombrello
《核技术》
CAS
CSCD
北大核心
1989年第10期587-593,共7页
用电子顺磁共振和光吸收法研究了1—17MeV^(35)Cl和^(19)F离子注入石英玻璃产生的缺陷的特性,并与2MeV质子注入和0.633MeVγ射线辐照的结果作了比较。观察到MeV重离子轰击下石英表面发生分裂和密度变化现象。对于17MeV^(35)Cl^(+4)离子...
用电子顺磁共振和光吸收法研究了1—17MeV^(35)Cl和^(19)F离子注入石英玻璃产生的缺陷的特性,并与2MeV质子注入和0.633MeVγ射线辐照的结果作了比较。观察到MeV重离子轰击下石英表面发生分裂和密度变化现象。对于17MeV^(35)Cl^(+4)离子,注入通量约为1×10^(11)Clcm^(-2)下,体收缩率约为0.36 %。
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关键词
石英玻璃
离子注入
辐射损伤
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职称材料
题名
石英玻璃的MeV离子注入效应(英文)
1
作者
石成儒
t.a.tombrello
机构
兰州大学原子核研究所
加州理工学院
出处
《核技术》
CAS
CSCD
北大核心
1989年第10期587-593,共7页
基金
Supported in part by the American National Science Foundation [DMR86-15641]
文摘
用电子顺磁共振和光吸收法研究了1—17MeV^(35)Cl和^(19)F离子注入石英玻璃产生的缺陷的特性,并与2MeV质子注入和0.633MeVγ射线辐照的结果作了比较。观察到MeV重离子轰击下石英表面发生分裂和密度变化现象。对于17MeV^(35)Cl^(+4)离子,注入通量约为1×10^(11)Clcm^(-2)下,体收缩率约为0.36 %。
关键词
石英玻璃
离子注入
辐射损伤
Keywords
Ion-implantation effect Radiation damage Fused silica
分类号
TQ171.731 [化学工程—玻璃工业]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
石英玻璃的MeV离子注入效应(英文)
石成儒
t.a.tombrello
《核技术》
CAS
CSCD
北大核心
1989
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