低压等离子喷涂钨薄膜及纳米粉末

本文采用了一种新的等离子化学工艺来制备钨薄膜。这种工艺采用超细粉或前驱体作为原料,利用低压下等离子使原料气化,蒸发沉积成纳米尺寸颗粒,形成等轴晶和柱状晶结构,这与传统的等离子喷涂差异很大,传统的等离子喷涂得到的颗粒为典型的扁平化结构。颗粒尺寸分析表明这种技术制备的钨粉末粒度为30～150nm,制备的沉积层中的钨颗粒尺寸较大,这主要是因为晶粒长大引起的。