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基于硅的锗外延技术实现高性能CMOS器件
1
作者
C.Werkhoven
C.Arena M.Bauer
+2 位作者
P.Brabant
M.Meuris
t.valentina l.souriau
《集成电路应用》
2006年第11期35-37,共3页
相对于采用选择性锗硅外延的应变硅而言,基于锗工艺制造的 PMOS 能够进一步提高其驱动能力。将适当的锗前驱物安装在标准硅外延设备上就可以生产锗硅(GOS)晶圆。
关键词
CMOS器件
应变硅
锗硅
技术实现
性能
驱动能力
PMOS
工艺制造
下载PDF
职称材料
题名
基于硅的锗外延技术实现高性能CMOS器件
1
作者
C.Werkhoven
C.Arena M.Bauer
P.Brabant
M.Meuris
t.valentina l.souriau
机构
ASM America
IMEC
出处
《集成电路应用》
2006年第11期35-37,共3页
文摘
相对于采用选择性锗硅外延的应变硅而言,基于锗工艺制造的 PMOS 能够进一步提高其驱动能力。将适当的锗前驱物安装在标准硅外延设备上就可以生产锗硅(GOS)晶圆。
关键词
CMOS器件
应变硅
锗硅
技术实现
性能
驱动能力
PMOS
工艺制造
分类号
TN386.1 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
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作者
出处
发文年
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1
基于硅的锗外延技术实现高性能CMOS器件
C.Werkhoven
C.Arena M.Bauer
P.Brabant
M.Meuris
t.valentina l.souriau
《集成电路应用》
2006
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