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用扩散理论解释激光选择性催化的原理(英文)
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作者 张阳 Hansen HansNφrgaard +3 位作者 Hattel Jesper Henri tang peter torben Nielsen Jakob Skov Tutum Cem Celal 《纳米技术与精密工程》 CAS CSCD 2013年第2期97-104,共8页
激光选择性催化(LISA)技术可用于高分子的选择性电镀,本文主要研究了Pd/Sn催化系统在这个过程中的原理.实验表明在催化后的清洗步骤对电镀的选择性有很大影响,由于激光处理后在高分子表面产生了多孔结构,相对于在未被激光处理的表面上,P... 激光选择性催化(LISA)技术可用于高分子的选择性电镀,本文主要研究了Pd/Sn催化系统在这个过程中的原理.实验表明在催化后的清洗步骤对电镀的选择性有很大影响,由于激光处理后在高分子表面产生了多孔结构,相对于在未被激光处理的表面上,Pd/Sn催化胶团需要更长的时间才能被清洗掉.本文中,采用扩散理论描述催化和清洗后在样品表面催化胶团的浓度分布,其中催化胶团在多孔介质中的扩散系数是研究的难点.采用NanosightR颗粒检测仪器测量胶粒的尺寸,用AliconaInfiniteFocus显微镜对激光处理后的表面多孔结构进行了测量和表征.最后测得催化胶团的浓度百分比曲线,可用于表征催化和清洗时间对浓度的影响. 展开更多
关键词 激光选择性催化 选择性电镀 多孔介质扩散 多孔性
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