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对高纯度硅烷中气态杂质和金属杂质的纯化技术和分析方法
1
作者
tayl.
,
pa
李承耀
《低温与特气》
CAS
1996年第3期43-49,54,共8页
对高纯度硅烷中气态杂质和金属杂质的纯化技术和分析方法PatrickATaylor半导体制造商已经长期用硅烷制成硅的薄膜或者硅化合物。将来更高集成度的和更复杂的集成电路,以及如光生伏打电池等新器件,都要求硅烷有非常高的...
对高纯度硅烷中气态杂质和金属杂质的纯化技术和分析方法PatrickATaylor半导体制造商已经长期用硅烷制成硅的薄膜或者硅化合物。将来更高集成度的和更复杂的集成电路,以及如光生伏打电池等新器件,都要求硅烷有非常高的纯度,其规定杂质为10-12(pp...
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关键词
硅烷
气态杂质
金属杂质
纯化
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职称材料
题名
对高纯度硅烷中气态杂质和金属杂质的纯化技术和分析方法
1
作者
tayl.
,
pa
李承耀
出处
《低温与特气》
CAS
1996年第3期43-49,54,共8页
文摘
对高纯度硅烷中气态杂质和金属杂质的纯化技术和分析方法PatrickATaylor半导体制造商已经长期用硅烷制成硅的薄膜或者硅化合物。将来更高集成度的和更复杂的集成电路,以及如光生伏打电池等新器件,都要求硅烷有非常高的纯度,其规定杂质为10-12(pp...
关键词
硅烷
气态杂质
金属杂质
纯化
分类号
TQ264.1 [化学工程—有机化工]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
对高纯度硅烷中气态杂质和金属杂质的纯化技术和分析方法
tayl.
,
pa
李承耀
《低温与特气》
CAS
1996
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