期刊文献+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
共找到1篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
已选择0条
导出题录 引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
显示方式：
CoO驱动存储器转向铜工艺
1
作者 tom caulfield 《集成电路应用》 2009年第1期27-27,共1页
铜采用电化学沉积(ECD)金属工艺,其生产率要高得多,即便在先进的技术节点,最新的ECD系统填充22nm特征尺寸线条时,其吞吐量仍高于80
关键词 铜工艺 存储器 COO 芯片制造商 驱动 技术节点 逻辑器件 铜金属
下载PDF
已选择0条
导出题录 引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
上一页 1 下一页 到第 页
使用帮助 返回顶部