颗粒磁带压光过程中粗糙度和形变状况

磁带的压光是为了得到光滑的磁层。本研究的目的是为了更好地了解压光工艺过程。本研究涉及了未压光涂层、带基以及依从辊材料的粗糙度和弹性塑变。业己发现这些特性在很大程度上决定了压光的效果。利用实际的涂层和带基的弹性塑变特性所进行的模拟计算证实了实验结果。研制一个小规模压光机,用它可采用所谓滚球的方法对涂层进行压光。利用这种方法,可采用很小磁样品并莸得很大的灵活性。为了评价压光的效果,测试了表面粗糙度和调制噪声;用超微压痕测量法确定了弹性塑变特性。本研究结果的实施得出了4nm 的实验室规模的平均表面粗糙度和6nm 的半生产规模的平均表面粗糙度。