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稀土离子注入的硅材料MOS结构高效率电致发光器件 被引量:5
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作者 孙甲明 张俊杰 +4 位作者 杨阳 张新霞 刘海旭 w.skorupa M.Helm 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2009年第1期121-124,共4页
本文介绍了在稀土离子Re(Re=Er、Eu、Tb、Ce和Gd)注入的SiO2金属-氧化物-硅(MOS)结构高效率电致发光器件的研究进展情况。通过将不同的稀土离子注入到SiO2薄膜,相继获得了发射光谱峰值分别位于红外(1.54μm)、可见光(618 nm5、43 nm、44... 本文介绍了在稀土离子Re(Re=Er、Eu、Tb、Ce和Gd)注入的SiO2金属-氧化物-硅(MOS)结构高效率电致发光器件的研究进展情况。通过将不同的稀土离子注入到SiO2薄膜,相继获得了发射光谱峰值分别位于红外(1.54μm)、可见光(618 nm5、43 nm、440 nm)至紫外(316 nm)光谱范围的MOS结构电致发光器件,并系统研究了SiO2:Re薄膜中稀土离子的电致发光特性。在SiO2:Re有效发光层的厚度为50 nm,掺杂浓度为1-3%的条件下,稀土Er、Tb和Gd离子注入掺杂的硅材料MOS结构电致发光器件在红外、绿光和紫外的量子效率分别达到14%、16%和5%,接近了商品化III-V族半导体发光二极管的水平。 展开更多
关键词 半导体光电子 电致发光 MOS器件 稀土离子 二氧化硅
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纳米硅微晶对于Er离子掺杂的SiO2薄膜的光致发光和电致发光的不同影响 被引量:4
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作者 张俊杰 孙甲明 +4 位作者 杨阳 张新霞 刘海旭 w.skorupa M.Helm 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2009年第1期135-138,共4页
本文利用Er和硅离子共注入热氧化SiO2薄膜的方法制备出Er离子掺杂的含纳米硅微晶的SiO2发光薄膜,在此基础上制备出ITO/SiON/Si-rich SiO2:Er/Si MOS结构电致发光器件,比较研究了硅微晶密度的变化对于MOS结构的电致发光和光致发光特性的... 本文利用Er和硅离子共注入热氧化SiO2薄膜的方法制备出Er离子掺杂的含纳米硅微晶的SiO2发光薄膜,在此基础上制备出ITO/SiON/Si-rich SiO2:Er/Si MOS结构电致发光器件,比较研究了硅微晶密度的变化对于MOS结构的电致发光和光致发光特性的影响。随着纳米硅微晶的增多,Er离子在1.54μm处的红外光致发光显著增强,显示出纳米硅微晶对Er离子光致发光的敏化作用。相反,对于电致发光来说,增加纳米硅微晶数量的同时也增加了SiO2薄膜中的电子俘获陷阱,电子在纳米硅微晶之间的隧穿降低了过热电子的数量和平均能量,因而降低了碰撞激发Er离子产生的电致发光效率。 展开更多
关键词 电致发光 光致发光 二氧化硅 纳米硅
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六方碳化硅中的深能级缺陷 被引量:2
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作者 凌志聪 陈旭东 +7 位作者 冯汉源 C.D.Beling 龚敏四川大学物理学院 葛惟锟 王建农 G.Brauer W.Anwand w.skorupa 《物理》 CAS 北大核心 2004年第11期786-790,共5页
文章作者利用深能级瞬态谱 (DLTS) ,正电子湮灭谱 (PAS)和光致荧光谱 (PL)等谱分析技术研究了六方碳化硅中具有电活性的深能级缺陷 .这些深能级缺陷分别通过不同能量的电子辐照、中子辐照 ,或氦离子注入等产生 .经过研究和分析各种实验... 文章作者利用深能级瞬态谱 (DLTS) ,正电子湮灭谱 (PAS)和光致荧光谱 (PL)等谱分析技术研究了六方碳化硅中具有电活性的深能级缺陷 .这些深能级缺陷分别通过不同能量的电子辐照、中子辐照 ,或氦离子注入等产生 .经过研究和分析各种实验测试的相关图谱 ,作者给出了六方碳化硅中一些重要的深能级缺陷在可控辐照条件下产生和退火行为的研究结果以及这些深能级缺陷相关结构的实验依据 . 展开更多
关键词 能级 可控 湮灭 氦离子 正电子 电子辐照 光谱 六方 研究结果 PL
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Highly efficient silicon light emitting diodes produced by doping engineering 被引量:1
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作者 Jiaming SUN M.HELM +2 位作者 w.skorupa B.SCHMIDT A.MVCKLICH 《Frontiers of Optoelectronics》 2012年第1期7-12,共6页
This paper reviews our recent progress on silicon (Si) pn junction light emitting diodes with locally doping engineered carrier potentials. Boron implanted Si diodes with dislocation loops have electroluminescence ... This paper reviews our recent progress on silicon (Si) pn junction light emitting diodes with locally doping engineered carrier potentials. Boron implanted Si diodes with dislocation loops have electroluminescence (EL) quantum efficiency up to 0.12%, which is two orders of magnitude higher than those without dislocations. Boron gettering along the strained dislocation lines produces locally p-type spike doping at the dislocations, which have potential wells for bounding spatially indirect excitons. Thermal dissociation of the bound excitons releases free carriers, leading to an anomalous increase of the band to band luminescence with increasing tempera- ture. Si light emitting diodes with external quantum efficiency of 0.2% have been also demonstrated by implementation of pnpn modulation doping arrays. 展开更多
关键词 silicon (Si) light emitting diodes dopingengineering DISLOCATION modulation doping
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