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GaN薄膜的太赫兹光谱响应研究
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作者 韩烨 王党会 许天旱 《电子与封装》 2024年第1期56-60,共5页
目前,太赫兹时域光谱(THz-TDS)已经成为研究固体光学参数及色散关系的有效工具。采用太赫兹时域光谱仪对纤锌矿结构GaN薄膜在0~8.0 THz范围内的吸收光谱、介电常数、折射率以及介电损耗等进行了研究。研究结果表明,频率为4.65 THz的太... 目前,太赫兹时域光谱(THz-TDS)已经成为研究固体光学参数及色散关系的有效工具。采用太赫兹时域光谱仪对纤锌矿结构GaN薄膜在0~8.0 THz范围内的吸收光谱、介电常数、折射率以及介电损耗等进行了研究。研究结果表明,频率为4.65 THz的太赫兹响应是由GaN的E2(low)声子振动模式主导的,获得的低频介电常数8.9和高频介电常数6.0与理论值接近;进一步研究了频率在4.24~4.40 THz之间的太赫兹介电常数响应谱,获得的GaN薄膜的中心振动频率与太赫兹吸收光谱一致,介电损耗值很小且逐渐趋近于0,表明GaN有良好的介电特性。得出的结论拓展了GaN基电子元器件在THz波段中的应用,对进一步研究GaN基电子元器件在THz波段的质量与可靠性具有借鉴意义。 展开更多
关键词 太赫兹时域光谱 GAN薄膜 光学性质
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生长在图形化蓝宝石衬底上的GaN薄膜光学性质研究
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作者 郑俊娜 王党会 许天旱 《电子与封装》 2023年第4期75-79,共5页
图形化蓝宝石衬底(PSS)技术作为提高LED发光效率的方法之一,一直备受关注。研究了PSS上生长的GaN薄膜的表面形貌、吸收光谱、红外光谱、拉曼散射(Raman)和太赫兹光谱等,并与常规蓝宝石衬底上的GaN外延薄膜进行对比。结果表明,PSS上生长... 图形化蓝宝石衬底(PSS)技术作为提高LED发光效率的方法之一,一直备受关注。研究了PSS上生长的GaN薄膜的表面形貌、吸收光谱、红外光谱、拉曼散射(Raman)和太赫兹光谱等,并与常规蓝宝石衬底上的GaN外延薄膜进行对比。结果表明,PSS上生长的GaN外延薄膜的表面形貌、光提取效率(LEE)得到明显改善。此研究成果对进一步提高GaN基短波(蓝/紫光)发光二极管(LED)的发光效率具有一定的借鉴意义,为进一步拓展PSS器件的太赫兹响应提供了依据。 展开更多
关键词 图形化蓝宝石衬底 GAN薄膜 光学性质
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磷酸双乙酸胍分子中基团间作用的量子化学从头算研究
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作者 王磊 王党会 肖美霞 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第20期3508-3511,共4页
基于磷酸胍基作用在晶体特异性与生物化学功能中的重要意义,含有类似基团间作用的磷酸双乙酸胍(PBGA)晶体引起关注。本研究根据PBGA分子的基团组成建立四个相关分子模型(PBGA、PGA1、PGA2、BGA),采用量子化学从头算研究了不同基团组合... 基于磷酸胍基作用在晶体特异性与生物化学功能中的重要意义,含有类似基团间作用的磷酸双乙酸胍(PBGA)晶体引起关注。本研究根据PBGA分子的基团组成建立四个相关分子模型(PBGA、PGA1、PGA2、BGA),采用量子化学从头算研究了不同基团组合模型的结构、前线分子轨道、偶极矩、极化率以及一阶超极化率。研究结果表明,基团间作用会吸引带电乙酸胍分子胍基端,使其构象与分子取向发生明显转变,也会使磷氧四面体发生对称性变形;磷酸与胍基间作用能够影响由胍基贡献的LUMO能级,降低PBGA分子轨道能级间隙,增大分子内电子跃迁概率;带电乙酸胍对偶极矩和一阶超极化率的贡献最大,而磷酸根为负贡献。PBGA分子的一阶超极化率为1.717 24×10^(-30)esu,约为尿素分子的2.3倍,是一种潜在的非线性光学材料,该研究对理解和研究晶体中磷酸胍基间的作用奠定了一定的理论基础。 展开更多
关键词 非线性光学晶体 L-精氨酸磷酸盐 磷酸双乙酸胍 前线分子轨道 一阶超极化率
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基于忆阻器的PIM结构实现深度卷积神经网络近似计算 被引量:2
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作者 李楚曦 樊晓桠 +4 位作者 赵昌和 张盛兵 王党辉 安建峰 张萌 《计算机研究与发展》 EI CSCD 北大核心 2017年第6期1367-1380,共14页
忆阻器(memristor)能够将存储和计算的特性融合,可用于构建存储计算一体化的PIM(processing-in-memory)结构.但是,由于计算阵列以及结构映射方法的限制,基于忆阻器阵列的深度神经网络计算需要频繁的AD/DA转换以及大量的中间存储,导致了... 忆阻器(memristor)能够将存储和计算的特性融合,可用于构建存储计算一体化的PIM(processing-in-memory)结构.但是,由于计算阵列以及结构映射方法的限制,基于忆阻器阵列的深度神经网络计算需要频繁的AD/DA转换以及大量的中间存储,导致了显著的能量和面积开销.提出了一种新型的基于忆阻器的深度卷积神经网络近似计算PIM结构,利用模拟忆阻器大大增加数据密度,并将卷积过程分解到不同形式的忆阻器阵列中分别计算,增加了数据并行性,减少了数据转换次数并消除了中间存储,从而实现了加速和节能.针对该结构中可能存在的精度损失,给出了相应的优化策略.对不同规模和深度的神经网络计算进行仿真实验评估,结果表明,在相同计算精度下,该结构可以最多降低90%以上的能耗,同时计算性能提升约90%. 展开更多
关键词 忆阻器 PIM 卷积神经网络 近似计算 模拟存储
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MOSFET器件质量与可靠性的互补表征体系研究 被引量:1
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作者 张阳 王党会 郑俊娜 《电子与封装》 2021年第11期70-77,共8页
尺寸缩小效应会导致金属-氧化物半导体场效应晶体管(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor,MOSFET)的性能变化,引发质量与可靠性等问题,进而制约微电子器件性能和使用寿命。对插入厚度为5 nm的Al_(2)O_(3)帽层结构的nMOS... 尺寸缩小效应会导致金属-氧化物半导体场效应晶体管(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor,MOSFET)的性能变化,引发质量与可靠性等问题,进而制约微电子器件性能和使用寿命。对插入厚度为5 nm的Al_(2)O_(3)帽层结构的nMOSFET器件进行电学性能和低频噪声性能测试,并提取了阈值电压、栅极关态电流、亚阈摆幅、载流子迁移率及迁移率衰减系数等参数。通过分析栅极电压噪声功率谱密度和栅极缺陷密度,建立了MOSFET器件电学表征方法和低频噪声表征方法的互补表征体系。结果表明,栅极结构中插入5 nm Al_(2)O_(3)帽层能有效地调制器件的阈值电压,关态泄漏电流密度降低了97%,器件的输出功率提高了26%;但由于Al_(2)O_(3)帽层的插入,在栅极氧化物界面处引入了陷阱,导致载流子在界面处的散射几率增大,迁移率降低了49%。 展开更多
关键词 MOSFET 伏安特性 低频噪声 质量与可靠性 互补表征体系
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Synthesis and properties of a Pr(III) complex with 2-acetyl- benzimidazoledehyde-glycine Schiff-base ligand 被引量:3
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作者 wang danghui YANG Yixin +5 位作者 YANG Yiqin ZHAO Tiancheng WU Xing wang Shaokang HOU Yao CHEN Weizong 《Chinese Science Bulletin》 SCIE EI CAS 2006年第7期785-790,共6页
The 2-acetyl-benzimidazoledehyde-gly- cine Schiff-base ligand and the corresponding Pr(III) complex Pr2L3(NO3)3·2CH3OH (L=C11H10N3O2) were synthesized in methanol and characterized by a series of methods, includi... The 2-acetyl-benzimidazoledehyde-gly- cine Schiff-base ligand and the corresponding Pr(III) complex Pr2L3(NO3)3·2CH3OH (L=C11H10N3O2) were synthesized in methanol and characterized by a series of methods, including chemical analysis, elemental analysis, TOF-MS, 1H NMR, UV-, IR-, Raman spectra, thermal analysis, and the three-dimension fluores- cence excitation and emission spectra. The Pr(III) complex exhibits extraordinary water-solubility and the Pr(III) hydroxide appears at pH≥13. The complex also possesses specific fluorescent properties. Thus, at the excitation wavelengths 200.0-280.0 and 260-350 nm the fluorescence bands were observed at 290.0 and 400.0 nm, respectively. 展开更多
关键词 稀土 配合物 荧光光谱 发射光谱
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Study on growing thick AlGaN layer on c-plane sapphire substrate and free-standing GaN substrate 被引量:3
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作者 wang danghui ZHOU Hao +5 位作者 ZHANG JinCheng XU ShengRui ZHANG LinXia MENG FanNa AI Shan HAO Yue 《Science China(Physics,Mechanics & Astronomy)》 SCIE EI CAS 2012年第12期2383-2388,共6页
In this study,the thick AlGaN epilayers have been grown on the c-plane sapphire substrate and the free-standing GaN substrate using low-temperature AlN nucleation layers by low-pressure metal-organic chemical vapor de... In this study,the thick AlGaN epilayers have been grown on the c-plane sapphire substrate and the free-standing GaN substrate using low-temperature AlN nucleation layers by low-pressure metal-organic chemical vapor deposition(LPMOCVD).High resolution X-ray diffraction(HRXRD),atom force microscopy(AFM),scanning electron microscopy(SEM),photoluminescence(PL) and Raman scattering measurements have been employed to study the crystal quality,threading dislocation density,surface morphology,optical properties and phonon properties of thick AlGaN epifilms.The results indicate that AlGaN epifilms crystal quality can be improved greatly when grown on the free-standing GaN substrate.We calculated the threading dislocation density and found that thick AlGaN epifilm grown on the free-standing GaN substrate is much lower in total threading dislocation density than that grown on the sapphire substrate,although the surface morphology is rougher than that of sapphire substrate. 展开更多
关键词 metal-organic chemical vapor deposition crystal quality surface morphology AlN nucleation layer
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