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工艺参数对硫化锌薄膜光学性能和结晶特性的影响 被引量:3
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作者 李坤 熊玉卿 +4 位作者 王虎 何延春 王兰喜 周超 周晖 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第6期184-192,共9页
目的研究离子源偏压和沉积温度的变化对硫化锌薄膜光学性能和结晶性能的影响规律。方法采用电子束蒸发技术,在K9玻璃基片上制备了硫化锌薄膜。采用分光光度计测试了薄膜的光学性能,利用光谱反演法得出薄膜的折射率和消光系数随波长的变... 目的研究离子源偏压和沉积温度的变化对硫化锌薄膜光学性能和结晶性能的影响规律。方法采用电子束蒸发技术,在K9玻璃基片上制备了硫化锌薄膜。采用分光光度计测试了薄膜的光学性能,利用光谱反演法得出薄膜的折射率和消光系数随波长的变化规律。采用X射线衍射法测试薄膜的结晶状态。结果随着离子源偏压的增加,薄膜折射率逐渐减小,但变化幅度不大,当离子源偏压为160 V时,1000 nm波长处的薄膜折射率达到最小值2.210。开启加热之后,薄膜折射率显著提高,且随着沉积温度的升高,薄膜折射率逐渐增大,沉积温度为210℃时,1000 nm波长处薄膜折射率达到最大值2.312。两种工艺参数下制备的薄膜,其消光系数均很小。单纯的离子源辅助沉积时,薄膜生长择优取向是(220)晶向,而基底加热状态下沉积的薄膜生长择优取向是(111)晶向。随着离子源偏压增加,薄膜(220)峰的衍射强度降低。沉积温度越高,薄膜(111)峰的衍射强度越大。结论硫化锌薄膜的光学特性对沉积温度的变化更为敏感,离子源偏压和沉积温度的改变均能显著影响硫化锌薄膜的结晶状态。 展开更多
关键词 电子束蒸发 硫化锌 薄膜 偏压 温度 折射率 结晶
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真空退火对氧化石墨烯纸的还原特性研究 被引量:2
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作者 王兰喜 何延春 +7 位作者 卯江江 左华平 王虎 王艺 胡汉军 刘兴光 张凯锋 周晖 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第10期186-193,共8页
目的获得真空退火对氧化石墨烯纸的还原特性,为制备石墨烯纸柔性功能材料提供有效的还原方法。方法通过不同温度真空退火对氧化石墨烯纸进行还原。利用X射线光电子能谱仪分析还原氧化石墨烯纸中的含氧基团及其含量,利用X射线衍射仪、拉... 目的获得真空退火对氧化石墨烯纸的还原特性,为制备石墨烯纸柔性功能材料提供有效的还原方法。方法通过不同温度真空退火对氧化石墨烯纸进行还原。利用X射线光电子能谱仪分析还原氧化石墨烯纸中的含氧基团及其含量,利用X射线衍射仪、拉曼光谱仪和扫描电子显微镜表征还原氧化石墨烯纸的晶体质量,利用高阻计和四探针测试还原氧化石墨烯纸的电阻率。研究了真空退火还原氧化石墨烯纸中含氧基团、晶体质量和电阻率随退火温度的演化规律。结果200℃真空退火可有效去除氧化石墨烯纸中的主要含氧基团——环氧基,使氧化石墨烯纸的电阻率大幅下降;600℃以下真空退火主要以含氧基团相互作用形成羰基,并形成原子空位缺陷;600~1000℃真空退火主要去除缺陷边缘的羰基和羧基,侵蚀原子空位形成较大的孔洞,使晶体质量变差;1200℃真空退火能够使石墨烯重结晶,同时修复缺陷,促进sp^(2)结构的恢复,但仍残留少量含氧基团不易去除,晶体质量和电阻率与石墨比较也存在一定的差距。结论真空退火是一种还原氧化石墨烯纸的有效方法,退火温度在1000℃以上具有良好的还原特性。为了获得深度还原的氧化石墨烯纸,需要进一步提高真空退火温度或发展较低温度下氧化石墨烯纸的增强还原方法。 展开更多
关键词 氧化石墨烯纸 真空退火 还原 含氧基团 晶体质量 电阻率
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蒸发速率对ZnS薄膜性能的影响 被引量:2
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作者 李坤 熊玉卿 +3 位作者 王虎 张凯锋 王兰喜 周晖 《真空》 CAS 2021年第2期15-19,共5页
为了研究蒸发速率对ZnS薄膜的折射率、表面形貌和应力等性能的影响,本文采用电子束蒸发技术进行了ZnS薄膜的制备。首先在K9玻璃基片上镀制薄膜,采用分光光度计进行透射率曲线的测试,利用光谱反演法得出薄膜的折射率,采用原子力显微镜表... 为了研究蒸发速率对ZnS薄膜的折射率、表面形貌和应力等性能的影响,本文采用电子束蒸发技术进行了ZnS薄膜的制备。首先在K9玻璃基片上镀制薄膜,采用分光光度计进行透射率曲线的测试,利用光谱反演法得出薄膜的折射率,采用原子力显微镜表征了样品的表面形貌。最后在聚酰亚胺基底上镀制薄膜,利用Stoney公式计算出薄膜的应力。结果表明,随着蒸发速率的增加,薄膜折射率先增大后减小,在2000nm波长处薄膜的折射率最大值为2.21,最小值为2.07。蒸发速率越大,薄膜样品表面结构越疏松。不同蒸发速率下制备的薄膜均呈现压应力,增大蒸发速率可以显著降低薄膜应力。ZnS薄膜的性能受蒸发速率影响显著,蒸发速率为1.5nm/s时折射率可达到最大值,蒸发速率为2.5nm/s时薄膜应力最小。 展开更多
关键词 蒸发速率 ZNS 薄膜 折射率 应力
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氟化度及单轴应力对氟化石墨烯结构稳定性和能带的影响 被引量:1
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作者 梁泽芬 马生凌 +3 位作者 薛红涛 汤富领 王兰喜 樊丁 《兰州理工大学学报》 CAS 北大核心 2020年第2期29-34,共6页
采用基于密度泛函数理论的第一性原理,通过计算研究了四种(Chair、Zigzag、Boat、Armchair)双面全氟化石墨烯(NC∶NF=1∶1)构型,发现Chair型氟化后的石墨烯构型最稳定。在此基础上,系统研究了以Chair形式氟化时不同氟化度和单轴应力对... 采用基于密度泛函数理论的第一性原理,通过计算研究了四种(Chair、Zigzag、Boat、Armchair)双面全氟化石墨烯(NC∶NF=1∶1)构型,发现Chair型氟化后的石墨烯构型最稳定。在此基础上,系统研究了以Chair形式氟化时不同氟化度和单轴应力对氟化石墨烯结构稳定性与能带的影响.计算结果表明:氟化度越高氟化石墨烯结构越稳定,且双面氟化石墨烯较单面氟化更稳定。对构造的全氟化石墨烯体系沿X方向施加压(拉)应变时,石墨烯体系的起伏高度随单轴应变的增加而减小,导带底和价带顶均发生微小移动、带隙逐渐减小,带隙在轴向压应力作用下减小得更快. 展开更多
关键词 第一性原理 氟化石墨烯 应力
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A GaN p-i-p-i-n Ultraviolet Avalanche Photodiode
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作者 ZHENG Ji-Yuan wang Lai +3 位作者 HAO Zhi-Biao LUO Yi wang lan-xi CHEN Xue-Kang 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2012年第9期193-195,共3页
A separated absorption and multiplication GaN p–i–p–i–n avalanche photo-diode(APD)with a 25μm diameter mesa is proposed and demonstrated.Compared to the conventional p–i–n APD,the p–i–p–i–n structure reduce... A separated absorption and multiplication GaN p–i–p–i–n avalanche photo-diode(APD)with a 25μm diameter mesa is proposed and demonstrated.Compared to the conventional p–i–n APD,the p–i–p–i–n structure reduces the probability of premature micro-plasma breakdown,raises the gain from 30 to 400 and reduces the work voltage from 93 to 48 V.The temperature test is set on p–i–p–i–n APDs,and the positive coefficient of 30 mV/K shows that avalanche breakdown happens in the devices.The peak responsivity of p–i–p–i–n APDs is 0.11 A/W under a wavelength of 358 nm. 展开更多
关键词 BREAKDOWN GAN AVALANCHE
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