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气相沉积技术制备氧化锰薄膜及其组分调控的研究进展 被引量:1
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作者 任家轩 方弘历 +3 位作者 杨斗豪 刘博文 王正铎 刘忠伟 《北京印刷学院学报》 2024年第3期67-72,共6页
本文介绍了利用气相沉积技术,包括物理气相沉积、化学气相沉积、原子层沉积等技术制备氧化锰薄膜以及组分调控的研究现状,重点介绍了等离子体辅助化学气相沉积/原子层沉积氧化锰薄膜的研究进展,对所使用的锰前驱体做了总结,并展望了氧... 本文介绍了利用气相沉积技术,包括物理气相沉积、化学气相沉积、原子层沉积等技术制备氧化锰薄膜以及组分调控的研究现状,重点介绍了等离子体辅助化学气相沉积/原子层沉积氧化锰薄膜的研究进展,对所使用的锰前驱体做了总结,并展望了氧化锰薄膜的发展趋势。 展开更多
关键词 氧化锰薄膜 物理气相沉积 化学气相沉积 原子层沉积
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等离子体技术制备高阻隔薄膜作用方式和应用现状(一) 被引量:1
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作者 刘忠伟 杨丽珍 +5 位作者 桑利军 王正铎 张海宝 程久珊 刘博文 陈强 《真空与低温》 2023年第4期315-326,共12页
近年来,在食品和药品包装、可穿戴有机电子封装、有机发光二极管(OLED)和量子点封装、真空绝缘板密封、生物医学和可再生能源防护等方面,以柔性塑料为基体的阻湿、阻氧、高透明的薄膜得到了广泛的应用,促进了阻隔膜制备技术的发展。等... 近年来,在食品和药品包装、可穿戴有机电子封装、有机发光二极管(OLED)和量子点封装、真空绝缘板密封、生物医学和可再生能源防护等方面,以柔性塑料为基体的阻湿、阻氧、高透明的薄膜得到了广泛的应用,促进了阻隔膜制备技术的发展。等离子体技术在阻隔膜制备中显示出独特的优势,包括:可以大规模生产制备阻隔膜、薄膜性能优异、产品成本低廉等。这些等离子体技术包括等离子体增强物理气相沉积(PEPVD)、等离子体增强/辅助化学气相沉积(PECVD/PACVD)和等离子体增强/辅助原子层沉积(PEALD/PAALD)技术等。本文综述了基于等离子体技术制备阻隔膜的方法和理论,主要介绍等离子体源、等离子体作用方式、等离子体诊断和等离子体增强沉积阻隔膜的生长机制,以阐明等离子体参数和阻隔膜制备及性能之间的内在联系,为阻隔薄膜乃至类似柔性功能材料的制备和应用提出指导性建议。 展开更多
关键词 等离子体 特性和诊断 阻隔膜 结构表征和性能测量 柔性聚合物
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等离子体技术制备高阻隔薄膜作用方式和应用现状(二)
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作者 刘忠伟 杨丽珍 +5 位作者 桑利军 王正铎 张海宝 程久珊 刘博文 陈强 《真空与低温》 2023年第5期425-438,共14页
近年来,在食品和药品包装、可穿戴有机电子封装、有机发光二极管(OLED)和量子点封装、真空绝缘板密封、生物医学和可再生能源防护等方面,以柔性塑料为基体的阻湿、阻氧、高透明的薄膜得到了广泛的应用,促进了阻隔膜制备技术的发展。等... 近年来,在食品和药品包装、可穿戴有机电子封装、有机发光二极管(OLED)和量子点封装、真空绝缘板密封、生物医学和可再生能源防护等方面,以柔性塑料为基体的阻湿、阻氧、高透明的薄膜得到了广泛的应用,促进了阻隔膜制备技术的发展。等离子体技术在阻隔膜制备中显示出独特的优势,包括:可以大规模生产制备阻隔膜、薄膜性能优异、产品成本低廉等。这些等离子体技术包括等离子体增强物理气相沉积(PEPVD)、等离子体增强/辅助化学气相沉积(PECVD/PACVD)和等离子体增强/辅助原子层沉积(PEALD/PAALD)技术等。综述了基于等离子体技术制备阻隔膜的方法和理论,主要介绍等离子体源、等离子体作用方式、等离子体诊断和等离子体增强沉积阻隔膜的生长机制,以阐明等离子体参数和阻隔膜制备及性能之间的内在联系,为阻隔薄膜乃至类似柔性功能材料的制备和应用提出指导性建议。 展开更多
关键词 等离子体 特性和诊断 阻隔膜 结构表征和性能测量 柔性聚合物
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碳化镍薄膜的制备及其作为石墨烯制备中间相的研究进展 被引量:1
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作者 陈森 杨斗豪 +3 位作者 任家轩 王正铎 刘博文 刘忠伟 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第11期791-802,共12页
碳化镍薄膜具有良好的催化活性、低电阻率、高的硬度以及可以作为石墨烯制备过程中的理想中间体等特点引起了人们的广泛关注。物理气相沉积技术制备的碳化镍薄膜多是微晶相嵌入碳基体中的复合结构薄膜,然而,通过化学气相沉积技术制备的... 碳化镍薄膜具有良好的催化活性、低电阻率、高的硬度以及可以作为石墨烯制备过程中的理想中间体等特点引起了人们的广泛关注。物理气相沉积技术制备的碳化镍薄膜多是微晶相嵌入碳基体中的复合结构薄膜,然而,通过化学气相沉积技术制备的薄膜是均匀相薄膜,电阻率低、电催化活性较好。此外,在高质量石墨烯的制备方面,碳化镍相起到提供碳源作用。本文从物理溅射技术、化学气相沉积技术和原子层沉积技术综述了碳化镍薄膜的制备方法,并且总结了碳化镍中间相对石墨烯形成的影响。 展开更多
关键词 碳化镍 石墨烯 原子层沉积 磁控溅射
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N2流量对HiPIMS制备Al-N共掺杂ZnO薄膜的性能影响 被引量:1
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作者 李倩 张玉琛 +4 位作者 王正铎 杨丽珍 张海宝 刘忠伟 陈强 《真空与低温》 2019年第6期361-367,共7页
采用高功率脉冲反应磁控溅射(HiPIMS)在玻璃基底上沉积Al-N共掺氧化锌(ZnO)薄膜,研究氮气(N2)流量对Al-N共掺杂ZnO薄膜的晶体结构、表面形貌和电学性质的影响。测量结果表明,N2流量对掺杂的ZnO薄膜电导率类型转变和光电性能有很大影响:... 采用高功率脉冲反应磁控溅射(HiPIMS)在玻璃基底上沉积Al-N共掺氧化锌(ZnO)薄膜,研究氮气(N2)流量对Al-N共掺杂ZnO薄膜的晶体结构、表面形貌和电学性质的影响。测量结果表明,N2流量对掺杂的ZnO薄膜电导率类型转变和光电性能有很大影响:当N2流量为8 mL/min时,掺杂ZnO薄膜在可见光波段透过率大于85%,薄膜导电类型为n型;随着N2流量的增加,薄膜经历n-p-n型的转变过程。当N2流量为20 mL/min时,掺杂的ZnO结晶性最好,晶体缺陷少、XRD衍射峰半峰宽(FWHM)最小、表面粗糙度也低,为p-ZnO。薄膜电学性能测量显示:载流子浓度、迁移率、电阻率分别为5.47×10^17 cm^-3、2.7 cm^2/Vs、4.51Ωcm。 展开更多
关键词 高功率脉冲反应磁控溅射 氧化锌 Al-N共掺 p型导电
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石英微晶天平技术在原子层沉积碳化镍薄膜过程中的应用研究
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作者 胡玉莲 郭群 +4 位作者 樊启鹏 王正铎 王院民 刘忠伟 杨丽珍 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第11期990-995,共6页
采用等离子体增强原子层沉积技术分别以Ni(amd)2、Ni(dad)2为镍、碳前驱体,氢等离子体为还原剂成功沉积了碳化镍薄膜。两个沉积过程中,碳化镍薄膜厚度都随着反应循环次数的增加而线性增加。利用石英微晶天平技术对碳化镍薄膜的沉积过程... 采用等离子体增强原子层沉积技术分别以Ni(amd)2、Ni(dad)2为镍、碳前驱体,氢等离子体为还原剂成功沉积了碳化镍薄膜。两个沉积过程中,碳化镍薄膜厚度都随着反应循环次数的增加而线性增加。利用石英微晶天平技术对碳化镍薄膜的沉积过程进行了原位在线测量。初步提出碳化镍薄膜的沉积机理,其中由等离子体作用产生的氢原子对沉积过程有重要作用。一方面,在等离子体中原子氢与Ni(amd)2或Ni(dad)2发生化学反应,生成Ni、挥发性的N-叔丁基乙酰胺盐和碳氢化合物,这些镍在镍表面上有吸附和分解的趋势。此外,原子氢对吸附的碳氢化合物脱氢生成碳化镍和大量碳物种具有促进作用。另一方面,预计它还会刻蚀碳化镍表面的无定形碳和石墨,或者将碳化镍分解成具有催化活性的金属镍。 展开更多
关键词 石英微晶天平 碳化镍 原子层沉积
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Characterization of W Coating on Cu Substrate Prepared by Double-Glow Discharge
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作者 ZHANG Fubin wang zhengduo +1 位作者 CHEN Qiang CAI Huiping 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2012年第1期71-74,共4页
In this study, tungsten (W) was coated on a copper (Cu) substrate by using doubleglow discharge technique using a pure W panel as the target and argon (Ar) as the discharge and sputtering gas. The crystal struct... In this study, tungsten (W) was coated on a copper (Cu) substrate by using doubleglow discharge technique using a pure W panel as the target and argon (Ar) as the discharge and sputtering gas. The crystal structure of the W coating was examined by X-ray diffraction (XRD). Scanning electron microscopy (SEM) was performed with cross-section images to investigate the penetration depth of W into the Cu body. Additionally, the properties of wearability resistance, corrosion resistance and mechanical strength of the W coated Cu matrix were also measured. It is concluded that in double-glow plasma, W coated Cu can be facilely prepared. It is noticed that the treatment temperature heavily dominates the properties of the W-Cu composite. 展开更多
关键词 double-glow discharge W-CU CHARACTERIZATIONS
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深圳市一起花鸟市场相关鹦鹉热聚集性疫情调查 被引量:1
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作者 夏天龙 王颖 +6 位作者 钟苑芳 汪正铎 冯晶 罗国强 梅树江 江敏 戴传文 《中国公共卫生》 CAS CSCD 北大核心 2023年第8期1057-1060,共4页
目的调查处置一起花鸟市场相关鹦鹉热聚集性疫情,为深圳市鹦鹉热相关聚集性疫情预防控制提供参考。方法收集2021年2月8日—2021年4月10日在深圳市3所医院就诊的9例鹦鹉热病例患者的临床信息、流行病学信息及生物样本,对病例家、店铺等... 目的调查处置一起花鸟市场相关鹦鹉热聚集性疫情,为深圳市鹦鹉热相关聚集性疫情预防控制提供参考。方法收集2021年2月8日—2021年4月10日在深圳市3所医院就诊的9例鹦鹉热病例患者的临床信息、流行病学信息及生物样本,对病例家、店铺等进行现场调查并采集鸟类生物样本、环境样本等进行鹦鹉热嗜衣原体检测。结果聚集性疫情确诊病例8例,均有某花鸟市场购买鹦鹉饲养史;9例病例发病日期主要集中在2021年2月15日—3月8日;平均年龄37.4岁,以女性为主,职业以无业或退休为主;7例有症状的成人病例临床表现以高热、畏寒、头痛、乏力、肌肉痛为主,胸部CT表现以左肺感染为主,低龄儿童临床表现及胸部CT炎症表现不典型;购鸟至发病间隔在16~40天,平均28天;花鸟市场3家店铺鹦鹉肛拭子阳性率为43.44%(26/60);存在无鹦鹉饲养史感染病例和购鸟至发病间隔超长病例(>250天)。结论此聚集性疫情与花鸟市场鹦鹉感染有关,不能排除野鸟感染的可能。 展开更多
关键词 鹦鹉热 聚集性疫情 花鸟市场 野鸟感染
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2020年广东省深圳市一起由人冠状病毒NL63引起的上呼吸道感染聚集性疫情流行病学分析 被引量:2
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作者 王颖 黄燕飞 +1 位作者 汪正铎 戴传文 《疾病监测》 CAS CSCD 北大核心 2021年第11期1212-1216,共5页
目的分析一起由人冠状病毒NL63(HCoV-NL63)感染引起的上呼吸道感染聚集性疫情的流行病学特点,为今后针对冠状病毒的预防控制提供依据。方法对2020年广东省深圳市一起由HCoV-NL63感染引起的上呼吸道感染聚集性疫情进行现场流行病学调查,... 目的分析一起由人冠状病毒NL63(HCoV-NL63)感染引起的上呼吸道感染聚集性疫情的流行病学特点,为今后针对冠状病毒的预防控制提供依据。方法对2020年广东省深圳市一起由HCoV-NL63感染引起的上呼吸道感染聚集性疫情进行现场流行病学调查,并采用描述性流行病学方法进行分析。结果2020年8月24—29日,某看守所A、B两个监仓120名在押人员中,出现上呼吸道感染症状病例43例,发病高峰在27—29日。A、B监仓罹患率分别为55.0%(33/60)、16.7%(10/60),差异有统计学意义。两个监仓检出HCoV-NL63病毒阳性者43例,感染率为35.8%(43/120),其中A仓为51.7%(31/60),B仓为20.0%(12/60),差异有统计学意义。两个监仓的隐性感染率为16.7%(20/120),其中A仓为20.0%(12/60),B仓为13.3%(8/60)。病例临床症状以咽痛、咳嗽、流涕等为主。50~59岁年龄组人群的罹患率和感染率较高,但各年龄组差异无统计学意义。结论HCoV-NL63在密集环境人群中易引起上呼吸道感染暴发,需加强此类场所HCoV-NL63等人冠状病毒的防控。 展开更多
关键词 人冠状病毒NL63 暴发疫情 看守所 上呼吸道感染
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The Characterization of W-Cu Composite Coating Prepared by Double-Glow Discharge 被引量:1
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作者 Zhang Fubin wang zhengduo +1 位作者 Cai Huiping Chen Qiang 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2012年第S1期323-326,共4页
In this paper,a W-Cu composite coating was prepared on the Cu substrate through the double-glow discharge technology using a pure W plate as a target.In here argon gas was input into the chamber as the discharge and s... In this paper,a W-Cu composite coating was prepared on the Cu substrate through the double-glow discharge technology using a pure W plate as a target.In here argon gas was input into the chamber as the discharge and sputtering gas.The crystal composition and microstructure of W-Cu composite coating were examined by x-ray diffraction(XRD),scanning electron microscopy(SEM).The compose in the cross section was detected by energy dispersive spectrometer(EDS),the distribution of elements along the penetration thickness was then obtained.Then the friction coefficient,the polarization electrochemical corrosion test and the microhardness of W-Cu composite coating was measured.The results indicated that a thick and no-delaminated W-Cu composite coating could be prepared on the Cu substrate by the double-glow plasma technology. 展开更多
关键词 double-glow discharge W-CU composite coating CHARACTERIZATIONS
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Application of Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition for Fingerprint Resistance
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作者 Lei Wenwen Chen Qiang +3 位作者 Qi Fengyang Yang Lizhen Liu Zhongwei wang zhengduo 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2012年第S1期433-438,共6页
SiOx and diamond-like carbon(DLC)coatings as the fingerprint resistance and corrosion resistance layers were deposited by capacitively coupled plasma(CCP)-enhanced chemical vapor deposition powered by radio frequency(... SiOx and diamond-like carbon(DLC)coatings as the fingerprint resistance and corrosion resistance layers were deposited by capacitively coupled plasma(CCP)-enhanced chemical vapor deposition powered by radio frequency(RF-PECVD).In here hexamethyldisiloxane(HMDSO)as monomer for SiOx coating,C2H2 as the carbon source for DLC growth precursor,and Ar as the dilution gas were utilized.The important factors affected fingerprint resistance was explored in detail.Besides,the corrosion resistant test on coatings and substrates were then examined by the potentiodynamic polarization measurement and salt-spray corrosion test,respectively.The chemical structure and composition of SiOx and DLC films were analyzed by FTIR,and the relationship between them and anti-corrosion property was discussed.The results show that the DLC coating demonstrates a better anti-fingerprint behavior than that of coated SiOx,especially in acidic solution environment. 展开更多
关键词 SIOX and DLC COATINGS CCP FINGERPRINT RESISTANCE CORROSION RESISTANCE
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