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氧化铝的直接电镀
1
作者
wernerjillek
ManfredBrunnacker
祝晔南
《上海航天》
1999年第5期37-42,共6页
讨论了在氧化铝基板上的厚膜应用领域中采取直接电镀的方法。研究了建立在钯涂层、碳涂层和导电聚合物基础上的三种直接电镀的方法,测定和比较了它们与传统电镀/ 化学镀技术的操作步序、电镀速度和膜层结合力等技术指标。
关键词
直接电镀
氧化铝陶瓷
激光辅助沉积
下载PDF
职称材料
题名
氧化铝的直接电镀
1
作者
wernerjillek
ManfredBrunnacker
祝晔南
机构
德国纽伦堡欧姆工业学院
上海航天技术研究院
出处
《上海航天》
1999年第5期37-42,共6页
基金
德国巴伐利亚研究基金会的资助
文摘
讨论了在氧化铝基板上的厚膜应用领域中采取直接电镀的方法。研究了建立在钯涂层、碳涂层和导电聚合物基础上的三种直接电镀的方法,测定和比较了它们与传统电镀/ 化学镀技术的操作步序、电镀速度和膜层结合力等技术指标。
关键词
直接电镀
氧化铝陶瓷
激光辅助沉积
Keywords
Direct plating
Alumina ceramic substrate
Laser deposition
分类号
TQ153.3 [化学工程—电化学工业]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
氧化铝的直接电镀
wernerjillek
ManfredBrunnacker
祝晔南
《上海航天》
1999
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