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基于改进冲突系数的证据理论组合新方法 被引量:9
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作者 席在芳 令狐强 +3 位作者 易畅 吴笑峰 李劲 唐志军 《中南大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第7期1700-1709,共10页
通过对D-S证据理论冲突系数和组合规则进行研究,发现导致证据组合结果与事实相悖的另一个因素,为此,提出一种新的冲突系数表示方法和证据理论组合规则。新的方法针对证据冲突系数处理和组合规则不合理的情况,用自冲突系数和互冲突系数这... 通过对D-S证据理论冲突系数和组合规则进行研究,发现导致证据组合结果与事实相悖的另一个因素,为此,提出一种新的冲突系数表示方法和证据理论组合规则。新的方法针对证据冲突系数处理和组合规则不合理的情况,用自冲突系数和互冲突系数这2种方式的加权表示新的全局冲突系数。新的组合规则根据基本概率分配原则建立,并推导得出多点集焦元证据理论的组合情况。研究结果表明:本文所提方法与传统算法相比,规则更简便,更精确,在处理证据冲突和正常证据方面更具优势。 展开更多
关键词 D-S证据理论 冲突系数 组合规则 收敛效果
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Fabrication of 150-nm Al_(0.48)In_(0.52)As/Ga_(0.47)In_(0.53)As mHEMTs on GaAs substrates 被引量:3
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作者 WU xiaoFeng LIU Hongxia +4 位作者 LI HaiOu LI Qi HU ShiGang xi zaifang ZHAO Jin 《Science China(Physics,Mechanics & Astronomy)》 SCIE EI CAS 2012年第12期2389-2391,共3页
High performance 150-nm gate-length metamorphic Al0.48In0.52As/Ga0.47In0.53 As high electron mobility transistors(mHEMTs) with very good device performance have been successfully fabricated.A T-shaped gate is fabricat... High performance 150-nm gate-length metamorphic Al0.48In0.52As/Ga0.47In0.53 As high electron mobility transistors(mHEMTs) with very good device performance have been successfully fabricated.A T-shaped gate is fabricated by using a combined technique of optical and e-beam photolithography,which is beneficial to decreasing parasitic capacitance and parasitic resistance of the gate.The ohmic contact resistance R c is as low as 0.03 mm when using a novel ohmic contact metal system(Ni/Ge/Ti/Au).The devices exhibit excellent DC and RF performance.A peak extrinsic transconductance of 775 mS/mm and a maximum drain current density of 720 mA/mm are achieved.The unity current gain cut-off frequency(fT) and the maximum oscillation frequency(f max) are 188.4 and 250 GHz,respectively. 展开更多
关键词 AlInAs/GaInAs mHEMTs GaAs substrate T-GATE
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