注入在表面含氧的硼膜中氘的行为研究

硼是非常有潜力的聚变堆第一壁涂层材料。对氢同位素在硼膜中的滞留和释放性能已经作了大量研究。本文用X射线电子能谱（XPS）和热解释谱（TDS）方法研究了注入在表面含氧的硼膜中氘的行为。