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注入在表面含氧的硼膜中氘的行为研究
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作者 王明旭 H.Miyauchi +4 位作者 T.Nakahata y.nishikawa y.Oya N.Noda K.Okuno 《核工业西南物理研究院年报》 2004年第1期38-39,共2页
硼是非常有潜力的聚变堆第一壁涂层材料。对氢同位素在硼膜中的滞留和释放性能已经作了大量研究。本文用X射线电子能谱(XPS)和热解释谱(TDS)方法研究了注入在表面含氧的硼膜中氘的行为。
关键词 硼膜 涂层 聚变堆 涂层材料 X射线电子能谱 热解释谱
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