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In-Situ Rs and Improvement in Thermal Stability of Nickel Silicides Using Different Interlayer Films
1
作者
Chi-Ting Wu
Wen-Hsi Lee
+1 位作者
ying-lang wang
Shih-Chieh Chang
《材料科学与工程（中英文A版）》
2015年第3期164-170,共7页
关键词
高热稳定性
硅化镍
原位
镍硅化物
膜
腐蚀速率
NISI
电阻率
下载PDF
职称材料
题名
In-Situ Rs and Improvement in Thermal Stability of Nickel Silicides Using Different Interlayer Films
1
作者
Chi-Ting Wu
Wen-Hsi Lee
ying-lang wang
Shih-Chieh Chang
机构
Department of Electrical Engineering
Institute of Lighting and Energy Photonics
出处
《材料科学与工程（中英文A版）》
2015年第3期164-170,共7页
关键词
高热稳定性
硅化镍
原位
镍硅化物
膜
腐蚀速率
NISI
电阻率
Keywords
Interlayer, in-situ Rs, NiSi, silieide.
分类号
TN304 [电子电信—物理电子学]
TS106.62 [轻工技术与工程—纺织工程]
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1
In-Situ Rs and Improvement in Thermal Stability of Nickel Silicides Using Different Interlayer Films
Chi-Ting Wu
Wen-Hsi Lee
ying-lang wang
Shih-Chieh Chang
《材料科学与工程（中英文A版）》
2015
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