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负离子源及其应用
被引量:
1
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作者
yoshiharu mori
Junzo Ishikawa
罗应明
《微细加工技术》
1993年第2期82-88,共7页
本文简要介绍了近年研制出的几种主要类型负离子源及其工作原理,重点是等离子溅射型重金属负离子源。概述了这些负离子源在材料科学中的应用前景,如离子注入和薄膜淀积等。
关键词
离子束
等离子体
溅射
负离子源
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职称材料
题名
负离子源及其应用
被引量:
1
1
作者
yoshiharu mori
Junzo Ishikawa
罗应明
出处
《微细加工技术》
1993年第2期82-88,共7页
文摘
本文简要介绍了近年研制出的几种主要类型负离子源及其工作原理,重点是等离子溅射型重金属负离子源。概述了这些负离子源在材料科学中的应用前景,如离子注入和薄膜淀积等。
关键词
离子束
等离子体
溅射
负离子源
分类号
TN305.3 [电子电信—物理电子学]
TN405.98 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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1
负离子源及其应用
yoshiharu mori
Junzo Ishikawa
罗应明
《微细加工技术》
1993
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