期刊导航
期刊开放获取
河南省图书馆
退出
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
共找到
1
篇文章
<
1
>
每页显示
20
50
100
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
显示方式:
文摘
详细
列表
相关度排序
被引量排序
时效性排序
高k栅介质中电荷俘获行为的脉冲特征分析
被引量:
1
1
作者
yuegang zhao
Chadwin D Young
+1 位作者
Rino Choi
Byoung Hun Lee
《电子设计应用》
2010年第1期76-78,共3页
本文介绍了电荷俘获的原理以及直流特征分析技术对俘获电荷进行定量分析的局限性,同时介绍了脉冲I-V分析技术,其能够对具有快速瞬态充电效应(FTCE)的高k栅晶体管的本征(无俘获)性能进行特征分析。
关键词
电荷俘获
脉冲
高k栅
下载PDF
职称材料
题名
高k栅介质中电荷俘获行为的脉冲特征分析
被引量:
1
1
作者
yuegang zhao
Chadwin D Young
Rino Choi
Byoung Hun Lee
机构
吉时利仪器公司
SEMATECH高k材料研究小组
出处
《电子设计应用》
2010年第1期76-78,共3页
文摘
本文介绍了电荷俘获的原理以及直流特征分析技术对俘获电荷进行定量分析的局限性,同时介绍了脉冲I-V分析技术,其能够对具有快速瞬态充电效应(FTCE)的高k栅晶体管的本征(无俘获)性能进行特征分析。
关键词
电荷俘获
脉冲
高k栅
分类号
TN386 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
高k栅介质中电荷俘获行为的脉冲特征分析
yuegang zhao
Chadwin D Young
Rino Choi
Byoung Hun Lee
《电子设计应用》
2010
1
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
上一页
1
下一页
到第
页
确定
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部