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基于PREF的扫描磁铁电源设计与实现
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作者 樊琪 臧航 +4 位作者 郭旗 燕宏斌 史成城 上官靖斌 张云 《强激光与粒子束》 CAS CSCD 北大核心 2024年第3期106-111,共6页
PREF装置是中国科学院新疆理化技术研究所与近代物理研究所联合设计建造的10~60 MeV质子同步加速器,属于国内唯一的位移损伤效应模拟试验专用装置。针对该装置的扫描磁铁电源输出电流频率200 Hz、跟踪误差小于≤±5×10^(-3)的... PREF装置是中国科学院新疆理化技术研究所与近代物理研究所联合设计建造的10~60 MeV质子同步加速器,属于国内唯一的位移损伤效应模拟试验专用装置。针对该装置的扫描磁铁电源输出电流频率200 Hz、跟踪误差小于≤±5×10^(-3)的技术要求,采用三组H桥串联拓扑方案,通过移相控制,基于脉宽调制实现技术要求。经仿真与测试结果表明:电源能够输出峰-峰值为±420 A,幅值与频率均连续可调的高精度三角波电流,满足工程应用要求。 展开更多
关键词 扫描磁铁电源 跟踪误差 三组H桥串联 移相控制 脉宽调制
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质子入射Al_(x)Ga_(1-x)N材料的位移损伤模拟
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作者 何欢 白雨蓉 +5 位作者 田赏 刘方 臧航 柳文波 李培 贺朝会 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第5期92-99,共8页
氮化镓材料由于优良的电学特性以及耐辐照性能,其与不同含量Al_(x)Ga_(1-x)N材料组成的电子器件,有望应用于未来空间电子系统中.然而目前关于氮化镓位移损伤机理研究多关注于氮化镓材料,对于Al_(x)Ga_(1-x)N材料位移损伤研究较少.本文... 氮化镓材料由于优良的电学特性以及耐辐照性能,其与不同含量Al_(x)Ga_(1-x)N材料组成的电子器件,有望应用于未来空间电子系统中.然而目前关于氮化镓位移损伤机理研究多关注于氮化镓材料,对于Al_(x)Ga_(1-x)N材料位移损伤研究较少.本文通过两体碰撞近似理论模拟了10 keV-300 MeV质子在不同Al元素含量的Al_(x)Ga_(1-x)N材料中的位移损伤机理.结果表明质子在Al_(x)Ga_(1-x)N材料中产生的非电离能损随质子能量增大而下降,当质子能量低于40 MeV时,非电离能损随着Al含量的增大而变大,当质子能量升高时该趋势相反;分析由质子导致的初级撞出原子以及非电离能量沉积,发现不同Al_(x)Ga_(1-x)N材料初级撞出原子能谱虽然相似,然而Al元素含量越高,由弹性碰撞产生的自身初级撞出原子比例越高;对于质子在不同深度造成的非电离能量沉积,弹性碰撞导致的能量沉积在径迹末端最大,而非弹性碰撞导致的能量沉积在径迹前端均匀分布,径迹末端减小,并且低能质子主要是通过弹性碰撞造成非电离能量沉积,而高能质子恰好相反.本研究揭示了不同Al元素含量的Al_(x)Ga_(1-x)N材料质子位移损伤机理,为GaN器件在空间辐射环境下的应用提供参考依据. 展开更多
关键词 Al_(x)Ga_(1-x)N 质子 位移损伤 两体碰撞近似
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基于GEANT4模拟分析不同能量质子在CMOS APS中的位移损伤研究
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作者 臧航 刘方 +4 位作者 贺朝会 谢飞 白雨蓉 黄煜 王涛 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第3期546-553,共8页
本文针对图像传感器在空间辐射环境中电学性能退化问题,采用蒙特卡罗方法基于互补金属氧化物半导体(CMOS)APS器件建立几何模型,开展不同能量质子与靶原子的相互作用过程研究。通过研究不同能量质子辐照下初级碰撞原子的能谱分布及平均... 本文针对图像传感器在空间辐射环境中电学性能退化问题,采用蒙特卡罗方法基于互补金属氧化物半导体(CMOS)APS器件建立几何模型,开展不同能量质子与靶原子的相互作用过程研究。通过研究不同能量质子辐照下初级碰撞原子的能谱分布及平均位移损伤能量沉积随质子能量的变化,讨论不同能量质子及空间站轨道质子能谱下在CMOS APS器件中位移损伤的差异。计算结果表明:随着入射质子能量的增大,辐照产生的初级碰撞原子的最大能量及核反应产生的初级碰撞原子(PKA)对位移损伤能量沉积的贡献逐步增加;对于大于1 MeV的质子辐照,CMOS APS器件中位移损伤研究可忽略氧化层的影响;不同能量的质子和CREME96程序中空间站轨道质子能谱下器件中位移损伤能量沉积分布结果显示,3.5 MeV质子与该空间站轨道质子能谱在器件敏感区中产生的总位移损伤能量沉积相近。该工作对模拟空间站轨道质子辐照下电子器件暗电流增长研究中辐照实验的能量选择,提供了参考依据。 展开更多
关键词 位移损伤 互补金属氧化物半导体APS 非电离能量损失 空间站轨道
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AlGaN基宽禁带半导体光电材料与器件 被引量:3
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作者 贲建伟 孙晓娟 +6 位作者 蒋科 陈洋 石芝铭 臧行 张山丽 黎大兵 吕威 《人工晶体学报》 EI CAS 北大核心 2020年第11期2046-2067,共22页
AlGaN基材料是带隙可调的直接带隙宽禁带半导体材料,是制备紫外(UV)光电子器件的理想材料。经过数十年的研究,目前已经在异质衬底外延生长AlGaN基材料、高效掺杂等方面取得了巨大进展。以此为基础,AlGaN基紫外光电器件制备领域也得到长... AlGaN基材料是带隙可调的直接带隙宽禁带半导体材料,是制备紫外(UV)光电子器件的理想材料。经过数十年的研究,目前已经在异质衬底外延生长AlGaN基材料、高效掺杂等方面取得了巨大进展。以此为基础,AlGaN基紫外光电器件制备领域也得到长足发展。在本综述中,主要介绍了高质量AlGaN基材料的MOCVD外延生长方法、掺杂方法以及近年来在紫外发光、紫外探测器件方面取得的进展。 展开更多
关键词 AlGaN基材料 外延生长 掺杂 紫外发光器件 紫外探测
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GaN中质子辐照损伤的分子动力学模拟研究 被引量:1
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作者 何欢 贺朝会 +3 位作者 廖文龙 张家辉 臧航 柳文波 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第6期1117-1121,共5页
本文利用分子动力学方法研究了GaN在质子辐照下的损伤。对不同能量(1~10keV)初级离位原子(PKA)引起的级联碰撞进行了研究,分析了点缺陷与PKA能量的关系、点缺陷随时间的演化规律、点缺陷的空间分布及点缺陷团簇的尺寸特征。研究结果表明... 本文利用分子动力学方法研究了GaN在质子辐照下的损伤。对不同能量(1~10keV)初级离位原子(PKA)引起的级联碰撞进行了研究,分析了点缺陷与PKA能量的关系、点缺陷随时间的演化规律、点缺陷的空间分布及点缺陷团簇的尺寸特征。研究结果表明,点缺陷的产生与PKA能量呈线性关系,不同类型的点缺陷随时间演化规律相似,点缺陷多产生在PKA径迹旁,点缺陷团簇多为孤立的点缺陷和小团簇。 展开更多
关键词 分子动力学 GAN 点缺陷 辐照损伤
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氮化镓在不同中子辐照环境下的位移损伤模拟研究 被引量:7
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作者 谢飞 臧航 +3 位作者 刘方 何欢 廖文龙 黄煜 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2020年第19期45-53,共9页
电子器件中的半导体材料经过中子辐照后产生大量位移损伤,进而影响器件性能,氮化镓(GaN)材料是第三代宽禁带半导体, GaN基电子器件在国防、空间和航天等辐射服役环境中具有重要应用.本文利用蒙特卡罗软件Geant4模拟了中子在GaN材料中的... 电子器件中的半导体材料经过中子辐照后产生大量位移损伤,进而影响器件性能,氮化镓(GaN)材料是第三代宽禁带半导体, GaN基电子器件在国防、空间和航天等辐射服役环境中具有重要应用.本文利用蒙特卡罗软件Geant4模拟了中子在GaN材料中的输运过程,对在大气中子、压水堆、高温气冷堆和高通量同位素堆外围辐照区四种中子辐照环境下GaN中的初级反冲原子能谱及加权初级反冲原子能谱进行了分析.研究发现:在四种辐照环境下GaN中初级反冲原子能谱中,均在0.58 MeV附近处出现不常见的"尖峰",经分析该峰为核反应产生的H原子峰,由于低能中子(n, p)反应截面较大,该峰的强弱和低能中子占总能谱的比例有关;通过对比四种中子辐照环境下GaN中初级反冲原子能谱分布可知,大气中子能谱辐照产生的初级反冲原子能量更低、分布范围更广,裂变堆能谱下较高能量的初级反冲原子的比例较大,大气中子和高通量同位素堆辐照环境下的初级反冲原子能谱与加权初级反冲原子谱形状更相似,结合核反应产物对电学性能的影响,高通量同位素堆外围辐照区更适合用于模拟GaN在大气中子环境下的辐照实验.该结果对GaN基电子器件在辐射环境下长期服役评估研究和GaN材料的反应堆模拟中子辐照环境实验研究具有参考价值. 展开更多
关键词 GEANT4 氮化镓 初级反冲原子能谱 中子辐照效应
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高温热处理a面AlN表面形貌演变机理
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作者 隋佳恩 贲建伟 +8 位作者 臧行 蒋科 张山丽 郭冰亮 陈洋 石芝铭 贾玉萍 黎大兵 孙晓娟 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第6期810-817,共8页
非极性a面AlN(a-AlN)能够从根本上解决极性AlN引起的量子限制斯塔克效应问题,是提升AlGaN发光器件效率的有效途径。但是,非极性AlN生长面临更大的挑战,目前难以实现低缺陷密度、高平整表面的非极性a-AlN。高温热处理是一种提高AlN质量... 非极性a面AlN(a-AlN)能够从根本上解决极性AlN引起的量子限制斯塔克效应问题,是提升AlGaN发光器件效率的有效途径。但是,非极性AlN生长面临更大的挑战,目前难以实现低缺陷密度、高平整表面的非极性a-AlN。高温热处理是一种提高AlN质量的有效方法,但在热处理过程中,非极性a-AlN的表面形貌演变的物理机理尚不明确,直接影响了a-AlN表面改善与质量提升。本研究通过对a-AlN薄膜在不同条件下进行高温热处理,对样品的表面形貌演变过程进行了表征与分析,并结合第一性原理计算,揭示了高温热处理对非极性a-AlN表面的影响及其物理机理。结果表明,在高温热处理过程中Al、N原子更趋向于从a面与m面分解,而在c面吸附,使得a-AlN样品表面在高温热处理过程中出现了沿c轴方向的高取向性条纹原子台阶形貌,进而提高a-AlN材料质量。本研究为实现高质量非极性a-AlN材料及紫外发光器件提供了重要基础。 展开更多
关键词 a-AlN 高温热处理 表面形貌演变 结合能
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The Structural Modification of LiTaO_(3) Crystal Induced by 100-keV H-ion Implantation
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作者 庞立龙 王志光 +9 位作者 姚存峰 臧航 李远飞 孙建荣 申铁龙 魏孔芳 朱亚滨 盛彦斌 崔明焕 金运范 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2012年第6期235-237,共3页
The effects of 100 keV H-ion implantation on the structure of LiTaO3 crystal are investigated by Raman and UV/VIS/NIR spectroscopies.The implantation fluence is in the range from 1.0 × 10^(13) to 1.0 × 10^(1... The effects of 100 keV H-ion implantation on the structure of LiTaO3 crystal are investigated by Raman and UV/VIS/NIR spectroscopies.The implantation fluence is in the range from 1.0 × 10^(13) to 1.0 × 10^(17) H^(+)/cm^(2).The experimental results show the dependence of the crystal structure on ion fluence.It is found that the structural modification of the LiTaO3 crystal is due to two processes.One is H-ions occupying lithium vacancies (VLi),which is predominant at a fluence less than 1.0 × 10^(14) H^(+) /cm^(2).This process causes the reduction of negative charge centers in the crystal and relaxation of distortion in the local lattice structure.The other is the influence of defects created during implantation,which plays a dominant role gradually in the structural modification at a fluence larger than 1.0 × 10^(15) H^(+)/cm^(2). 展开更多
关键词 IMPLANTATION STRUCTURE CRYSTAL
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Synthesis and Magnetic Properties of Prussian Blue Analogue Hollow Microcubes in a Low Temperature Hydrothermal Process
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作者 Sun Jianrong Wei Kongfang +7 位作者 zang hang Yao Cunfeng Shen Tielong Shen Yanbin Ma Yizhun Gou Jie Wang Zhiguang Li Fashen 《近代物理研究所和兰州重离子加速器实验室年报:英文版》 2008年第1期64-64,共1页
关键词 磁学性质 热过程模拟 空心 蓝水 低温 合成 普鲁士蓝 过渡金属
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Effect of Heavy Ion Irradiation on Magnetic Properties of Fe304 Ferrite Thin Films
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作者 Sun Jianrong Wei Kongfang +7 位作者 zang hang Shen Tielong Yao Cunfeng Ma Yizhun Gou Jie Shen Yanbin Wang Zhiguang Li Fashen 《近代物理研究所和兰州重离子加速器实验室年报:英文版》 2008年第1期63-63,共1页
关键词 重离子辐照 铁氧体薄膜 Fe304 磁性薄膜 兰州重离子加速器 扫描电子显微镜 辐照实验 四氧化三铁
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Application of Heavy Ion Physics and Nuclear Technique——FTIR Investigation of C-implanted Crystalline SiO2 after 950 MeV Pb-ion irradiation
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作者 Wang Zhiguang Zhao Zhiming +6 位作者 A. Benyagoub M. Toulemonde Song Yin Liu Chunbao zang hang Wei Kongfang Jin Yunfan 《近代物理研究所和兰州重离子加速器实验室年报:英文版》 2005年第1期57-57,59,60,共3页
<正>Crystalline SiO2(c-SiO2) samples were firstly implanted at room temperature (RT) with 120 keV Cions and then irradiated at RT with 950 MeV Pb ions. The C-ion irradiation experiments were performed on the 200... <正>Crystalline SiO2(c-SiO2) samples were firstly implanted at room temperature (RT) with 120 keV Cions and then irradiated at RT with 950 MeV Pb ions. The C-ion irradiation experiments were performed on the 200 kV heavy ion implanter of IMP and the selected implantation doses are 2. 0×1017 , 5. 0×1017, 8. 6×1017 and 1. 2×1017C/cm2. The Pb ion irradiation was carried out at the IRASME (CIRIL-GANIL, Caen) and the irradiation fluencies are 5.0×1011,1. 0×1012 and 1..0×1012 Pb/cm2 , respectively. The chemical bonds formation in the samples was investigated by using a Spectrum GX IR spectroscopy. 展开更多
关键词 重离子物理 二氧化硅 MEV 铅离子 红外光谱 离子辐照 植入 核技术
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Inter-mixing of Ni/c-SiO2 after High Energy Ion Irradiations
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作者 Liu Chunbao Wang Zhiguang +5 位作者 Peng Xinping Song Yin zang hang Wei Kongfang Yao Cunfeng M. Toulemonde 《近代物理研究所和兰州重离子加速器实验室年报:英文版》 2006年第1期62-62,共1页
关键词 二氧化硅 混合物 高能离子照射 磁电管反应溅射法
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XRD Investigation of Ti/c-SiO2 Interface after Pb-ion Irradiation
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作者 Liu Chunbao Wang Zhiguang +5 位作者 Peng Xinping Song Yin zang hang Wei Kongfang Yao Cunfeng M. Toulemonde 《近代物理研究所和兰州重离子加速器实验室年报:英文版》 2006年第1期64-64,共1页
关键词 二氧化硅 铅离子照射 磁电管反应溅射法
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Raman Scattering Investigation of C-doped a-SiO2 after High Energy Heavy Ion Irradiation
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作者 Liu Chunbao Wang Zhiguang +8 位作者 Song Yin zang hang Wei Kongfang A. Benyagoub M. Toulemonde Zhang Chonghong Yao Cunfeng Zhou Lihong Sheng Yanbin 《近代物理研究所和兰州重离子加速器实验室年报:英文版》 2006年第1期61-61,共1页
关键词 喇曼散射 碳掺杂 二氧化硅 高能重离子 离子照射
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Soft error reliability in advanced CMOS technologies—trends and challenges 被引量:3
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作者 TANG Du HE ChaoHui +3 位作者 LI YongHong zang hang XIONG Cen Zhang JinXin 《Science China(Technological Sciences)》 SCIE EI CAS 2014年第9期1846-1857,共12页
With the decrease of the device size,soft error induced by various particles becomes a serious problem for advanced CMOS technologies.In this paper,we review the evolution of two main aspects of soft error-SEU and SET... With the decrease of the device size,soft error induced by various particles becomes a serious problem for advanced CMOS technologies.In this paper,we review the evolution of two main aspects of soft error-SEU and SET,including the new mechanisms to induced SEUs,the advances of the MCUs and some newly observed phenomena of the SETs.The mechanisms and the trends with downscaling of these issues are briefly discussed.We also review the hardening strategies for different types of soft errors from different perspective and present the challenges in testing,modeling and hardening assurance of soft error issues we have to address in the future. 展开更多
关键词 CMOS技术 发展趋势 可靠性 加工硬化 按比例缩小 器件尺寸 微控制器 SEU
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Structural and photoluminescent properties of ZnO films deposited by radio frequency reactive sputtering 被引量:1
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作者 PENG XingPing WANG ZhiGuang +4 位作者 SONG Yin JI Tao zang hang YANG YingHu JIN YunFan 《Science China(Physics,Mechanics & Astronomy)》 SCIE EI CAS 2007年第3期281-286,共6页
Zinc oxide films with c-axis preferred orientation were deposited on silicon (100) substrates by radio frequency (RF) reactive sputtering. The properties of the sam- ples were characterized by X-ray diffractometer, X-... Zinc oxide films with c-axis preferred orientation were deposited on silicon (100) substrates by radio frequency (RF) reactive sputtering. The properties of the sam- ples were characterized by X-ray diffractometer, X-ray photoelectron spectroscopy and fluorescent-spectrophotometer. The effect of sputtering power and substrate temperature on the structural and photoluminescent (PL) properties of the ZnO films was investigated. The results indicated that when the sputtering power is 100 W and the substrate temperature is 300-400℃, it is suitable for the growth of high c-axis orientation and small strain ZnO films. A violet peak at about 380 nm and a blue band at about 430 nm were observed in the room temperature photolumines- cence spectra, and the origin of blue emission was investigated. 展开更多
关键词 ZnO films XRD SPECTRA PL SPECTRA substrate temperature RF REACTIVE SPUTTERING
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Proton-induced current transient in SiGe HBT and charge collection model based on Monte Carlo simulation 被引量:1
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作者 WEI JiaNan LI Yang +6 位作者 YANG WeiTao HE ChaoHui LI YongHong zang hang LI Pei Zhang JinXin GUO Gang 《Science China(Technological Sciences)》 SCIE EI CAS CSCD 2020年第5期851-858,共8页
The study presents an investigation into the proton-induced current transient in a silicon-germanium heterojunction bipolar transistor(SiGe HBT).The temporal information of the proton-induced current transients is fir... The study presents an investigation into the proton-induced current transient in a silicon-germanium heterojunction bipolar transistor(SiGe HBT).The temporal information of the proton-induced current transients is first measured and then compared with results from heavy ion microbeam experiment.Additionally,a model for proton-induced charge collection based on Geant4 Monte Carlo simulation tools is constructed by using the information from heavy ion experiment and 3D TCAD simulation.The results obtained by the validated model exhibit good consistency with the proton experiment. 展开更多
关键词 silicon-germanium HBT proton irradiation single event transient charge collection model
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Structural stability of C_(60) films under the bombardment of 1.95 GeV Kr ions
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作者 YAO CunFeng FU YunChong +6 位作者 JIN YunFan WANG ZhiGuang zang hang WEI KongFang GOU Jie MA YiZhun SHEN TieLong 《Chinese Science Bulletin》 SCIE EI CAS 2010年第31期3533-3537,共5页
The structural stability of C60 films under the bombardment of 1.95 GeV Kr ions is investigated.The irradiated C60 films were analyzed by Fourier Transform Infrared(FTIR) spectroscopy and Raman scattering technique.Th... The structural stability of C60 films under the bombardment of 1.95 GeV Kr ions is investigated.The irradiated C60 films were analyzed by Fourier Transform Infrared(FTIR) spectroscopy and Raman scattering technique.The analytical results indicate that the irradiation induced a decrease of icosahedral symmetry of C60 molecule and damage of C60 films;different vibration modes of C60 molecule have different irradiation sensitivities;the mean efficient damage radius obtained from experimental data is about 1.47 nm,which is in good agreement with thermal spike model prediction. 展开更多
关键词 C60薄膜 离子轰击 结构稳定性 傅立叶变换红外光谱 C60分子 伏特 电子
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