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Ni-CeO_(2)黑色防护镀层的光助动电位沉积及光热性能
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作者 吴世伟 杨雨萌 +4 位作者 段雪佳 蓝世锋 李舒铭 朱本峰 卫国英 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第14期77-85,共9页
镍镀层作为一种重要的工程材料,已经在金属涂装等领域得到了广泛的应用,而二氧化铈作为一种重要的稀土氧化物也引起了学者们极大的关注。本工作利用光助动电位沉积法制备了Ni-CeO_(2)复合黑色镀层,分别研究了光照条件、沉积电位范围和... 镍镀层作为一种重要的工程材料,已经在金属涂装等领域得到了广泛的应用,而二氧化铈作为一种重要的稀土氧化物也引起了学者们极大的关注。本工作利用光助动电位沉积法制备了Ni-CeO_(2)复合黑色镀层,分别研究了光照条件、沉积电位范围和沉积温度对镀层结构、组成和性能的影响。采用循环伏安法、塔菲尔极化曲线、接触角测量仪、台阶仪、紫外-可见-近红外分光光度计、发射率测量仪、扫描电子显微镜及附属能谱对不同条件下制备的镀层进行了系列表征。结果表明,光照条件下,沉积电位范围为0~-1.5 V、沉积温度为50℃时制备的Ni-CeO_(2)复合黑色镀层具有最佳的综合性能,其腐蚀电流密度为9.642×10^(-6)A·cm^(-2),水接触角达到125.95°,各波段吸收率均在94%以上且具有0.592的发射率。当沉积电位范围为0~-3.5 V时,镀层具有最高的发射率,达0.757;光照条件除了对CeO_(2)的沉积产生影响之外,也显著提升了Ni的沉积速率。该研究为制备具有高吸收率和发射率的黑色复合镀层提供了一个思路,有望在光热转换和光学仪器中得到应用。 展开更多
关键词 动电位沉积 镍-二氧化铈 复合黑色镀层 沉积电位 沉积温度 光照
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粉煤灰制备沸石分子筛及其吸附脱除氨氮性能
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作者 刘欣蕾 龚禄稍 +4 位作者 邵艳祥 郑易帆 杨雨萌 朱本峰 卫国英 《环境科学与技术》 CAS CSCD 北大核心 2024年第4期87-96,共10页
当前大量含氮废水的排入不仅使湖泊水体富营养化加剧,更对各类生物的生存和健康造成了很大威胁。由于沸石分子筛具有良好的吸附选择性和离子交换性,可以用来吸附脱除水中的氨氮,因此成为当前研究的热点。文章以粉煤灰为主要原料,采用碱... 当前大量含氮废水的排入不仅使湖泊水体富营养化加剧,更对各类生物的生存和健康造成了很大威胁。由于沸石分子筛具有良好的吸附选择性和离子交换性,可以用来吸附脱除水中的氨氮,因此成为当前研究的热点。文章以粉煤灰为主要原料,采用碱熔融-水热法制备Na-X型沸石分子筛,通过正交试验得到沸石分子筛的最佳制备工艺条件,探索了氨氮溶液初始浓度、pH值、吸附时间、吸附温度以及阳离子对沸石分子筛吸附氨氮性能的影响。结果表明:Na-X型分子筛的最佳饱和氨氮吸附率为74.89%;Na-X型沸石分子筛吸附过程符合准二级动力学模型,吸附等温线符合Freundlich模型;其氨氮吸附量与初始浓度和吸附时间呈正相关,与温度呈负相关;强酸或强碱环境会使分子筛吸附性能下降。Na-X型分子筛氨氮吸附率较高、可多次循环使用,在废水治理方面有着广泛的应用前景。 展开更多
关键词 粉煤灰 沸石分子筛 碱熔融水热法 氨氮吸附
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氟硅改性聚丙烯酸酯/SiO_(2)超疏水涂层的制备及耐蚀性能研究
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作者 欧如杰 朱本峰 +2 位作者 刘姣 李转雷 张昭 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 2023年第10期188-191,196,共5页
采用“二步聚合”法和纳米粒子沉积法相结合制备超疏水涂层,并通过调节涂层中纳米粒子含量调控涂层的结构和性能。结果表明:纳米粒子团聚使涂层表面呈微纳米多级粗糙结构,在满足应用要求的前提下,所得涂层接触角最大能达157.7°、... 采用“二步聚合”法和纳米粒子沉积法相结合制备超疏水涂层,并通过调节涂层中纳米粒子含量调控涂层的结构和性能。结果表明:纳米粒子团聚使涂层表面呈微纳米多级粗糙结构,在满足应用要求的前提下,所得涂层接触角最大能达157.7°、滚动角仅为4°。该超疏水涂层在3.5%NaCl溶液中表现出良好的耐蚀性能。 展开更多
关键词 纳米粒子 微纳米多级结构 超疏水 耐蚀性能
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硅丙烯酸树脂/CeO_(2)涂层的一步电合成制备及其防护性能研究
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作者 刘春阳 杨雨萌 +4 位作者 蔡思婷 蒋馨怡 应钧亿 朱本峰 卫国英 《功能材料》 CAS CSCD 北大核心 2023年第10期10030-10038,共9页
为提高低碳钢的防护性能,采用一步电合成法在低碳钢上制备了硅丙烯酸树脂/CeO_(2)涂层。采用塔菲尔极化曲线、电化学阻抗谱、接触角测量仪、SEM及EDS研究了主要电合成工艺参数(沉积电压、沉积温度、沉积时间等)及不同硅单体(乙烯基三甲... 为提高低碳钢的防护性能,采用一步电合成法在低碳钢上制备了硅丙烯酸树脂/CeO_(2)涂层。采用塔菲尔极化曲线、电化学阻抗谱、接触角测量仪、SEM及EDS研究了主要电合成工艺参数(沉积电压、沉积温度、沉积时间等)及不同硅单体(乙烯基三甲氧基硅烷(A171)和乙烯基二甲基乙氧基硅烷(C_(6)H_(14)OSi))对涂层组成、结构以及性能(疏水性、耐蚀性等)的影响。结果表明,涂层最佳制备电压为-20 V,温度为50℃,时间为3 h,该条件下制得的涂层表面均匀平整,含有少量凹陷,疏水性最强,接触角达到110.5°;与基体相比腐蚀电流密度降低两个数量级,达到2.052×10^(-7)A/cm^(2)。选用A171作为硅单体制备的涂层具有更优异的防污耐蚀性能,其接触角比使用C_(6)H_(14)OSi作为硅单体所制备的涂层大30.3°,腐蚀电流密度也降低了约两个数量级。 展开更多
关键词 硅丙烯酸树脂 二氧化铈 电合成 耐蚀性 疏水性 涂层
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氟/硅丙烯酸树脂防污涂层的制备及性能研究 被引量:2
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作者 丰少伟 朱本峰 +1 位作者 刘姣 张昭 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 2018年第6期160-164,共5页
以全氟烷基乙基甲基丙烯酸酯为功能单体,采用自由基聚合法制备了具有防污性能的低表面能氟/硅丙烯酸树脂涂层,重点探讨了有机氟含量对树脂涂层的接触角、玻璃化转变温度、附着力、硬度等性能及单体转化率的影响,确定了氟/硅丙烯酸涂层... 以全氟烷基乙基甲基丙烯酸酯为功能单体,采用自由基聚合法制备了具有防污性能的低表面能氟/硅丙烯酸树脂涂层,重点探讨了有机氟含量对树脂涂层的接触角、玻璃化转变温度、附着力、硬度等性能及单体转化率的影响,确定了氟/硅丙烯酸涂层的最佳制备条件。结果表明,氟/硅单体成功与丙烯酸单体发生共聚,当氟/硅丙烯酸涂层中的氟质量分数为14.60%时,树脂涂膜的接触角为103.7°,与基体结合力优异,同时具有良好的防腐性能。 展开更多
关键词 氟/硅改性 低表面能 防污 防腐
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铝青铜在不同流速海水泥浆下的冲刷腐蚀行为 被引量:1
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作者 彭昊 张昭 +4 位作者 陈思安 陈纳 赵飞燕 朱本峰 卫国英 《腐蚀与防护》 CAS 北大核心 2022年第12期11-20,共10页
通过扫描电镜、电化学阻抗谱和电化学噪声和腐蚀测试,研究了铝青铜在静态海水、2m/s和4m/s海水泥浆下的冲刷腐蚀行为。结果表明:在静态海水中,腐蚀前期铝青铜表面以点蚀为主,腐蚀后期铝青铜表面腐蚀产物的积累使腐蚀性粒子传输困难,电... 通过扫描电镜、电化学阻抗谱和电化学噪声和腐蚀测试,研究了铝青铜在静态海水、2m/s和4m/s海水泥浆下的冲刷腐蚀行为。结果表明:在静态海水中,腐蚀前期铝青铜表面以点蚀为主,腐蚀后期铝青铜表面腐蚀产物的积累使腐蚀性粒子传输困难,电化学腐蚀速率逐渐降低;在2m/s海水冲刷下,铝青铜表面点蚀较严重,腐蚀主要受扩散控制,腐蚀产物的脱落使其腐蚀速率增大;在4m/s海水冲刷下,腐蚀初期铝青铜表面以点蚀为主,受扩散影响,腐蚀后期,成核生长能量上升,铝青铜的腐蚀速率先降低后保持稳定。 展开更多
关键词 铝青铜 冲刷腐蚀 电化学噪声 点蚀
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Early Stages of CeO_(2) Thin-film Nucleation and Growth with Photo Irradiation
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作者 JIN Tongzheng JIANG Xinyi +5 位作者 YANG Yumeng zhu benfeng LIU Jiao JIANG Li WEI Guoying ZHANG Zhao 《Chemical Research in Chinese Universities》 SCIE CAS CSCD 2021年第3期696-703,共8页
In this paper,the early stages of nucleation and photoirradiation growth of CeO_(2) thin films have been studied.Cyclic voltammetry,chronoamperometry and scanning electron microscopy were used to analyze the nucleatio... In this paper,the early stages of nucleation and photoirradiation growth of CeO_(2) thin films have been studied.Cyclic voltammetry,chronoamperometry and scanning electron microscopy were used to analyze the nucleation process of CeO_(2) thin films deposited on the anode with photo irradiation.Experimental results show that the anodic deposition process with photo illumination is controlled by diffusion.Compared with the dark state,photo illumination mainly contributed to increase the current density of the three-dimensional nucleation process,because photo illumination is helpful to create active sites and accelerate the nucleation progress on the surface that a thin ceria film has been formed.Two-dimensional nucleation process mainly exists within the initial 2 s,and then only three-dimensional instantaneous nucleation process continues,which may be the main reason why the thickness of the CeO_(2) film can continue to grow with photo illumination but not in the dark state.Increasing the deposition overpotential can promote two-dimensional nucleation and growth rate,whilst when the potential exceeds 0.65 V,three-dimensional current density decreases.The limiting factor at that time may be the diffusion rate of cerium ions in the solution towards the electrode substrate. 展开更多
关键词 Photo illumination Anodic electrodeposition CeO_(2)film Nucleation and growth
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