WC直流磁控溅射法表面镀铬研究

采用直流磁控溅射技术在WC微粒表面包覆一层Cr膜,通过光学显微镜和X射线衍射仪(XRD)观察分析Cr膜的厚度和粉末的成分,其结果表明:合理的工艺参数控制,可以获得厚3～5!m,均匀、完整的Cr膜,微粒中Cr的成分明显提高,这对WC微粒在高温工艺使用上,提高其磨损性能有很大的帮助。

铬过渡层对氮化铬/镁合金膜基界面结合强度的影响

为了提高磁控溅射氮化铬膜与镁合金基底的结合强度,在两者之间以不同工艺溅射沉积铬过渡层,分析并讨论了铬过渡层对膜基界面结合强度的影响及其机制。结果表明,在镁合金/氮化铬之间增加铬过渡层可提高表征膜基结合强度的膜层破裂临界载荷,且当铬过渡层的溅射工艺为溅射功率100 W、负偏压30 V、基底温度25℃、溅射时间4 min时膜层破裂临界载荷最大,此工艺下铬过渡层表面在微观上具有最大的粗糙度和最小的突起间隔;铬过渡层增强界面结合的作用主要表现为改善了氮化铬与镁合金基底之间的结合状况,与铬/氮化铬接界面积较大且能有效机械互锁、铬过渡层缓减了界面应力等机制有关。

表面技术在进口设备零配件修复中的应用

表面技术在进口设备零配件修复中的应用冯金峙，金玉昌（抚钢机动处；邮编：１１３００１）（中国人民解放军抚顺六四○九厂；邮编：１１３０００）Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｏｆｓｕｒｆａｃｅｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙｉｎｓｐａｒｅｐａｒｔｓｒｅｐａｉｒｏｆｉｍｐｏｒｔｅ...