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题名热辐射处理制备VC涂层的温度-应力场有限元分析
被引量:1
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作者
周朝政
孔德军
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机构
常州大学机械工程学院
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出处
《润滑与密封》
CAS
CSCD
北大核心
2012年第2期69-72,78,共5页
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基金
常州市应用基础研究计划项目(CJ20110019)
江苏省普通高校研究生科研创新计划项目(XM2010-243)
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文摘
利用ANSYS有限元软件对热辐射处理制备VC(碳化钒)涂层进行建模,分析了涂层厚度、加热温度及加热时间对VC涂层温度场-应力场的影响规律。结果表明,不同温度下涂层沿x轴方向温度变化的趋势均呈上升趋势;涂层最高温度(837℃)与加热温度(850℃)相差15℃左右,温度差值约1.52%;不同厚度下温度的变化趋势均为递减,当厚度为6μm时,温度递减的趋势较平稳,未出现峰值,当涂层厚度增加时,应力值先增加然后减小,在厚度为6.3μm时发生突变,而后呈递增趋势;考虑应力、厚度因素对涂层性能的影响,涂层最佳厚度应为5~6μm。
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关键词
有限元分析
TD处理
VC涂层
温度场
应力场
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Keywords
finite element analysis
thermal diffusion process
VC coating
temperature field
stress field
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分类号
O242.21
[理学—计算数学]
O343.61
[理学—固体力学]
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