利用荧光X射线吸收精细结构(X-ray absorption fine structure,XAFS)方法研究了分子束外延生长的自组装Ge/Si(001)量子点的扩散效应.原子力显微镜结果表明,在550℃的生长温度下形成了面密度为5.2×1011cm-2的高密度小尺寸量子点.XAF...利用荧光X射线吸收精细结构(X-ray absorption fine structure,XAFS)方法研究了分子束外延生长的自组装Ge/Si(001)量子点的扩散效应.原子力显微镜结果表明,在550℃的生长温度下形成了面密度为5.2×1011cm-2的高密度小尺寸量子点.XAFS结果表明,生长的Ge量子点样品覆盖Si层后在550℃温度退火,对Ge/Si之间的热扩散混合的影响较小.随着退火温度升高到800℃,Ge原子的第一近邻配位壳层中的Ge-Si配位的无序度由4.0×10-5nm2降低到2.9×10-5nm2,配位数由3.3升高到3.8,这表明Ge量子点样品中的Ge原子的近邻主要为Si配位原子,高温退火显著增加了Ge原子在Si层中的扩散.展开更多
文摘利用荧光X射线吸收精细结构(X-ray absorption fine structure,XAFS)方法研究了分子束外延生长的自组装Ge/Si(001)量子点的扩散效应.原子力显微镜结果表明,在550℃的生长温度下形成了面密度为5.2×1011cm-2的高密度小尺寸量子点.XAFS结果表明,生长的Ge量子点样品覆盖Si层后在550℃温度退火,对Ge/Si之间的热扩散混合的影响较小.随着退火温度升高到800℃,Ge原子的第一近邻配位壳层中的Ge-Si配位的无序度由4.0×10-5nm2降低到2.9×10-5nm2,配位数由3.3升高到3.8,这表明Ge量子点样品中的Ge原子的近邻主要为Si配位原子,高温退火显著增加了Ge原子在Si层中的扩散.