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ITO膜的制备及性能研究
被引量:
1
1
作者
赵亚丽
刘伟
+2 位作者
李旭峰
贾琨
谷建宇
《应用化工》
CAS
CSCD
北大核心
2019年第S01期70-72,77,共4页
采用直流磁控溅射技术,在玻璃上沉积了30 nm~700 nm厚的系列透明导电ITO(In_(2)O_(3)∶Sn)薄膜。研究膜厚对透光率、方阻和屏效的影响。可见光的平均透光率在79%~87%,方阻在1.4Ω/~44Ω/之间变化,在低频的时候,屏蔽效能和膜厚没有多大...
采用直流磁控溅射技术,在玻璃上沉积了30 nm~700 nm厚的系列透明导电ITO(In_(2)O_(3)∶Sn)薄膜。研究膜厚对透光率、方阻和屏效的影响。可见光的平均透光率在79%~87%,方阻在1.4Ω/~44Ω/之间变化,在低频的时候,屏蔽效能和膜厚没有多大的关系,在高频阶段屏蔽效能随膜厚的增加而增大。
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关键词
ITO薄膜
膜厚
透光率
方块电阻
电磁屏蔽
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职称材料
题名
ITO膜的制备及性能研究
被引量:
1
1
作者
赵亚丽
刘伟
李旭峰
贾琨
谷建宇
机构
中国电子科技集团第三十三研究所
太原科技大学应用科学学院
出处
《应用化工》
CAS
CSCD
北大核心
2019年第S01期70-72,77,共4页
基金
山西省应用基础研究计划(批准号:201701D121007,201701D121050)
装备预研联合基金6141B08110304。
文摘
采用直流磁控溅射技术,在玻璃上沉积了30 nm~700 nm厚的系列透明导电ITO(In_(2)O_(3)∶Sn)薄膜。研究膜厚对透光率、方阻和屏效的影响。可见光的平均透光率在79%~87%,方阻在1.4Ω/~44Ω/之间变化,在低频的时候,屏蔽效能和膜厚没有多大的关系,在高频阶段屏蔽效能随膜厚的增加而增大。
关键词
ITO薄膜
膜厚
透光率
方块电阻
电磁屏蔽
Keywords
ITO film
sheet resistivity
transmittance
square resistance
electromagnetic shield
分类号
Q484.3 [生物学—生理学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
ITO膜的制备及性能研究
赵亚丽
刘伟
李旭峰
贾琨
谷建宇
《应用化工》
CAS
CSCD
北大核心
2019
1
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