离子镀膜技术的进展

本文概括地介绍了五十年来离子镀膜技术的发展概况,介绍了离子镀膜技术的意义、原理、特点、发展和应用范围。从D.M.Mattox发明离子镀膜技术以来的五十年中,离子镀膜技术适应高端产品加工和高新技术发展的要求,得到了飞速发展。各种激励气体放电过程技术,提高等离子体密度的措施层出不穷,满足各种需要的新的薄膜材料在各个应用领域得到了广泛的应用。对国防事业、宇航事业、高新技术产品和美化人民生活做出了突出贡献。我们期待离子镀膜技术继往开来,在新的五十年中再放光彩。

电离规离子流可编程增益放大器的设计

采用前置微电流放大器和可编程增益放大器两级运放,实现电离规离子流的可编程增益放大,以满足在真空度迅速变化且动态范围较宽时对真空度的快速准确测量。介绍了微弱电流信号的放大原理、器件选择原则、单片机控制可编程增益放大器的实现方法、电路抗干扰措施等,并给出了部分测试结果。本文设计的电离规离子流放大电路具有增益动态范围宽、精度高、响应速度快等优点,为托卡马克装置的真空度快速测量系统中离子流测量电路提供了设计参考。

抗强干扰快速测量真空规管及仪器的研究

托卡马克装置中存在强磁场、强电场,放电过程中真空度变化迅速。为满足这种特殊环境的真空测量要求,开展了抗强干扰快速测量真空规及仪器的研究。快规使用平板电极结构,在普通热阴极电离规管的基础上增加了调制极;仪器电路除完成稳发射、为加速极供电、离子流放大等基本功能外,它可以提供更大的灯丝电流,为调制极提供周期性脉冲电压,离子流和电子流放大器、调制/解调电路和锁相环电路相互配合,确保快速准确测量。仪器的主控制单元以微处理器为核心,可以设定系统运行的相关参数,离子流、发射电流、灯丝电流可供主控单元采集,以配合完成自动调整和相应控制。

多级真空机组噪声源定位研究

机器噪声源定位是机器低噪声设计的基础。本文以真空行业广为使用的罗茨真空机组为对象,并在机组的周围对应各主要部位布置测点,利用声压法并逐级定位的方法,采用手持式精密噪声分析仪对各测点进行噪声测试分析,从而定位与排列噪声源,确定各主要部位对机组噪声贡献大小。在噪声贡献较大部位处再次细化并进行噪声测量,从而确定该部位各结构的噪声贡献大小并找出优势频率辐射产生的原因,为进一步进行多级真空机组噪声源机理研究和低噪声设计提供依据。