XY-101显影机的喷头

介绍ＸＹ—１０１显影机雾状显影喷射喷头的设计原理及工作原理。

XYZ860显影机的工作特点及维护

工作原理 XYZ-860 PS版自动显影冲洗机的工作过程为：将药液温度给定值（25℃）和烘版温度给定值，分别通过1RJ，2RJ数码拨盘置入温度控制器，打开钥匙开关．使机器通电．主回路药液泵自动启动．药液箱温度逐步提高，等温度继电器出现恒温指示时，即开始正常工作。

XYZ860显影机调整及故障排除

PS版自动显影机可完成感光PS版自动显影、水洗，涂胶．干燥收版等工作，但如果调整不好．容易出现小故障．

简易自动恒温显影装置

低温环境下,如何控制显影液温度,尤其对于大盆内药液的温控,可以说是软片冲洗过程中一个较难解决的问题。对此,我们自制了一种简便的自动恒温显影装置,较好地解决了这一问题。实践证明,此装置不但有效地提高了工作效率及产品质量(因显影时,药液不断地流动,所以只需将软片置于显影盆中,

咨询专家系统在软片自动显影机中的应用

咨询专家系统在软片自动显影机中的应用ＴｈｅＡｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｏｆＣｏｎｓｕｌｔｉｎｇＥｘｐｅｒｔＳｙｓｔｅｍｔｏＡｕｔｏｍａｔｉｃＤｅｖｅｌｏｐｉｎｇＭａｃｈｉｎｅ●王燕琳韦子枝ＷａｎｇＹａｎｌｉｎＷｅｉＺｉｚｈｉ１引言软片自动显影机是与激光照排...

高反差显影系统的某些研究和进展

本文扼要介绍了几种高反差（里斯）显影系统及其发展历程，如：对苯二酚—甲醛—亚硫酸氢钠系统、米吐尔或菲尼酮—对苯二酚系统、菲尼酮—对苯二醋系统加入含烷基取代基四氮华化合物、含β－酰基苯肼衍生物的PQ、MQ系统和取代基吡啶化合物显影系统。

富林特集团将推出nyloflex自动印版显影机

富林特集团近日推出了一款nyloflex自动印版显影机，从而实现了印刷成本的降低和生产力的提高。

LOGO!在显影机控制中的应用

PS版显影机是制版、印刷厂广泛使用的一种小型自动化设备。新一代的显影机对控制提出了如下要求：显影速度(时间)可调；显影液温度能稳定在设定值；显影液能够根据损耗量进行补加；可以退版；可以二次冲版；上胶系统可以自动清洗；胶辊系统能够定时寸动；上胶可单独开停。

网屏推出CTP过桥加快印版的显影速度

近日．网屏欧洲公司推出了一款最新多方向CTP到显影机的搭桥．使Platerite的产品用户有机会将一条或多条生产线内的不同类型的版材的显影组合起来。最新的AT-M8001搭桥适用于网屏的B1 Platerite8100、8600和8800系统．据称允许用户大大减少全自动Platerite系统的占地面积．

SW-1010AU系列全自动网版显影机

上海硕星丝印设备有限公司推出的SW--1010AU系列全自动网版显影机，主要用于晒版后网版冲洗及显影。其主要特点为：可根据不同制版调节水压，采用过滤循环方式，可节约投影液；可同时在丝网正、反面喷雾，准确地显影图案；核心部位由不锈钢材料构成，使用寿命长。

晒版中的五点体会

（1）晒版中常遇到晒出的版上有脏点的现象．若要求不高可用刻针在脏点上均匀“点”几下：若底片太脏，应用酒精对底片正反面进行擦拭或用静电刷。 （2）显影机输出的版要及时拿走，以防划伤（烤版机也如此）。印版空白部位有轻微划伤可用手蘸少量润湿粉涂抹。显影后的印版两边经常会看到有浅色蓝边，这是厂家在生产PS版时两边涂布感光膜过厚（可用修版膏除去），不影响印刷。

SUSS MicroTec推出300mm涂胶／显影机，进一步用于三维集成

2009年韩国的Semicon展，SUSS MicroTec推出了第二代ACS300。这个模块化的系统可用于直径达300mm晶片的涂胶、烘烤和显影。ACS300Gen2拥有无可比拟的配置灵活性，所以购置成本相对较低。先进封装和三维集成行业通常使用100μm及以上的厚胶层，而ACS300Gen2的系统构造和工艺模块正迎合了这种需要。

双道涂胶显影机

DUO平台能够在双通道上同时对晶圆进行光刻胶涂布和显影，它能将晶圆吞吐率快速地提升N250-300wph。相比其它显影系统通过加快晶圆处理速度，从而将吞吐率提高到150—180wph；Sokudo Duo通过分配载入量提高产能，实际上降低了晶圆处理速度，这提高了系统的可靠性。当一个显影机停机维修时，另一个可以继续工作。该系统集成了可选的晶圆清洗工艺，保持了高的成品率。

上海硕星丝印新推全自动网版显影机

上海硕星专业开发生产网版印刷设备和相关设备，产品主要应用于手机面板、广告印刷、陶瓷、PCB与LCD、纺织印花、玻璃等行业。其中新推出的产品为全自动网版显影机，其适用范围：该设备用于网版制作过程晒版后对网版的冲洗以及显影。

涂胶／显影系统

RF3T是一款转速可达200wph的涂胶／显影轨道系统，主要用于全程光刻应用。该系统的特征是额外的平行工艺模块以及更高的晶圆周转效率。显影单元已经经过重新规划，可在同样的工艺平台上支持八个显影模块，其显影和清洗工艺能力比先前的系统提高了60％。涂胶分散系统还减少了化学品的消耗。