Al含量对电弧离子镀共沉积Ti_(1-x)Al_xN涂层性能的影响

利用扫描电镜、X射线衍射仪、显微硬度计、划痕仪、磨损实验仪等,研究了不同铝含量的Ti1-xAlxN涂层性能。结果表明:当铝含量约为52%时,经涂层处理试样的显微硬度、摩擦磨损性能都得到了很大的提高,能达到使用钛铝合金靶离子镀Ti1-xAlxN涂层的相应性能,而从经济性来说,利用独立钛、铝靶比钛铝合金靶制备Ti1-xAlxN涂层的成本要低得多,从而具有降低生产成本,提高生产效益的优势。

多弧离子镀制备TiN/AlN纳米多层膜及其超硬效应

采用多弧离子镀技术在高速钢表面制备TiN/AlN纳米多层膜,并对TiN/AlN纳米多层膜的表面形貌、调制机构进行表征。通过对薄膜显微硬度的测试发现,纳米多层膜的显微硬度明显高于TiN或AlN单层薄膜的显微硬度,具有明显的超硬效应。对比试验表明,TiN/AlN纳米多层膜涂层刀具比TiN涂层刀具具有更长的使用寿命。

高速钢表面多弧离子镀(Ti,Al)N薄膜及性能研究

采用多弧离子镀技术在W18Cr4V表面制备出(Ti,Al)N硬质薄膜,研究了Al含量对(Ti,Al)N薄膜的形貌、硬度、膜基结合力、耐磨性、摩擦系数的影响。并利用扫描电镜、X射线衍射仪对薄膜进行了分析。结果表明Al含量在25%左右的(Ti,Al)N薄膜硬度达到2780HV0.05,耐磨性好,摩擦系数仅为0.168,且与钢基体结合良好,具有最佳的综合性能。

Al含量对Ti_(1-X)Al_XN涂层组织结构的影响

通过不同 Al含量的 Ti- Al粉末冶金靶 ,采用多弧离子镀技术制备了 Ti1 - XAl XN涂层。用 SEM、 XRD、 GAXRD以及 XTEM等手段研究了 Al元素对涂层组织结构的影响。研究表明 ,Ti Al N涂层呈柱状多晶组织 ,(Ti,Al) N为涂层的主要组成相 ;随着 Al含量的增加 ,涂层中的 (Ti,Al) N相减少 ,且其晶格常数降低。

Ti过渡层与高速钢基底间的界面结构研究

将Ti Al粉末冶金靶用多弧离子镀技术制备了TiAlN/Ti涂层。用XTEM等手段研究了涂层的界面结构。研究表明,TiAlN及Ti层均呈柱状多晶组织,在Ti过渡层与高速钢基底之间存在界面相FeTi,它与基底中的α Fe相具有一定的取向关系。

Ti_(1-x)AI_xN涂层低压化学气相沉积(CVD)技术

随着高速干式切削工艺以及硬质材料切削需求的增加，对切削工具的需求也随之增大。这类材料包括高强度钢、铸造材料以及用于汽车以及航空工程的高强度合金材料。当切削工具高速运转时，

高速钢表面离子镀TiC薄膜及其耐磨性研究

采用多弧离子镀技术在W18Cr4V高速钢表面沉积TiC薄膜,通过场发射电镜、能谱及X射线衍射研究了薄膜表面及界面的结构与组成,并利用微量磨损仪对TiC薄膜的耐磨性进行了对比。结果表明,多弧离子镀在高速钢表面获得的TiC薄膜硬度达2900HV0.05,薄膜表面平整致密,在TiC薄膜与基体之间存在一扩散并不明显的伪扩散层。由于TiC膜的硬度高于TiN膜且具有更低的摩擦系数,TiC膜的耐磨性优于TiN膜。