一种高效铜钼蚀刻液及蚀刻方法

专利申请号:CN201811013298公开号:CN109136931A申请日:2018.08.31公开日:2019.01.04申请人:深圳市华星光电技术有限公司本发明提供一种高效铜钼蚀刻液。蚀刻液的主要成分包括7%~15%(占蚀刻液总质量,下同)的过氧化氢、2%~7%的调节剂、1%~3%的稳定剂、3%~10%的有机酸、0.001%~1%的抑制剂以及1%~10%的pH调节剂,余量为去离子水;本发明还提供一种用于铜钼金属膜层的蚀刻方法。有益效果:本发明所提供的高效铜钼蚀刻液及蚀刻方法,将含有过氧化氢的蚀刻液在蚀刻前通过微波辐射保持特定温度不变,增强了对铜钼金属膜层的氧化能力,进一步加快了蚀刻反应速率,更进一步提升了蚀刻品质。

用于铜钼膜层的刻蚀方法及刻蚀装置

专利申请号:CN201811013179公开号:CN109136926A申请日:2018.08.31公开日:2019.01.04申请人:深圳市华星光电技术有限公司一种用于铜钼膜层的刻蚀方法和刻蚀装置,刻蚀方法包括:步骤S10,在基板上形成铜钼膜层;步骤S20,在铜钼膜层上形成预定图案的光刻胶;步骤S30,将形成有光刻胶的基板置于刻蚀装置中;步骤S40,对刻蚀装置内部进行紫外线照射,以及向刻蚀装置内充注臭氧;步骤S50,利用刻蚀液对铜钼膜层进行刻蚀。本发明能够提高刻蚀效率和产能,另外,也能够减少刻蚀液的用量,进而降低刻蚀液的成本。

铜及钼含有膜的蚀刻液组合物

专利申请号:CN201810996546公开号:CN109136925A申请日:2014.09.22公开日:2019.01.04申请人:易安爱富科技有限公司本发明涉及一种蚀刻铜及钼含有膜时,控制钼或钼合金膜的侧蚀,实现稳定的蚀刻工程,并可改善蚀刻锥角、蚀刻偏差和蚀刻直线度等蚀刻特性的蚀刻液组合物。所述蚀刻液组合物中,相对于总重量,过氧化氢的含量为10%~30%(质量分数,下同),蚀刻抑制剂的含量为0.1%~5%,螯合剂的含量为0.1%~5%,蚀刻添加剂的含量为0.1%~5%,氟化物的含量为0.01%~2%,侧蚀抑制剂的含量为0.01%~2%,及使总质量达到100%的水。

三星申请铝材料的表面处理方法专利实现对铝材料的高效处理

据国家知识产权局公告,三星电子株式会社申请一项名为“铝材料的表面处理方法”的专利,公开号CN117203379A,申请日期为2022年5月。专利摘要显示,根据本发明的实施例铝材料的表面处理方法包括:对铝材料进行脱脂的步骤;对经脱脂的铝材料进行蚀刻的步骤;将经蚀刻的铝材料浸入处于25~30℃的25 wt%~35 wt%硝酸溶液中60 s或更长时间的第一除灰步骤;将经第一除灰的铝材料浸入处于25~30℃的5 wt%~15 wt%硝酸溶液中30~60 s的第二除灰步骤;对经第二除灰的铝材料进行阳极氧化的步骤;对经阳极氧化的铝材料进行着色的步骤;以及对经着色的铝材料进行封孔的步骤。

一种厚度为3.0mm^6.0mm普碳钢/半工艺电工钢的酸洗方法

专利号:ZL201210143914.4发明人:王智炎;李光辉;聂建新;田飞;李辉若本发明公开了一种厚度为3.06.0mm普碳钢/半工艺电工钢的酸洗方法,当盐酸酸洗液中游离酸浓度从180200g/L降低到110120g/L及Fe2+浓度上升到5070g/L时向盐酸酸洗液中加入酸洗促进剂。