平面研磨中磁粒刷运动轨迹规划的试验研究

在磁力研磨工艺中,磁粒刷的运动轨迹直接影响工件的表面精度和均匀性。在自行设计的试验装置上,通过施加公转运动方式优化磁粒刷运动轨迹并进行试验研究,对研磨前后工件的表面粗糙度、横截面形状及3D微观形貌等进行检测与对比。结果表明:优化研磨轨迹后,表面质量和平面均匀性均较传统工艺有不同程度的提高,且当磁粒刷公转半径大于自转半径时效果最好。另外,还建立了研磨粒子的轨迹表达式,通过Graph软件对轨迹仿真分析,与试验结果相一致,因此可以针对工件形状和表面质量要求,预先规划合理研磨轨迹。

CBN砂轮在双面研磨机上的应用

CBN砂轮推动了研磨加工的进程,分析CBN砂轮的特性及优势,重点介绍了CBN砂轮在双面研磨机上应用时的选择和修整方法,并通过实例验证了在套圈端面研磨加工中的应用效果。

回转对称非球面气囊抛光控制算法研究

介绍一种新型的非球面光学零件抛光方法———气囊抛光,这种方法可以得到高质量的光学表面。针对气囊抛光加工回转对称非球面的特点,进行抛光路径规划,对去除函数进行降维处理,提出抛光驻留时间的计算方法。最后,给出抛光算法的实现框图,并按照实现框图指导实际的玻璃非球面加工,取得满意结果,验证了算法的有效性。

面向转速优化的轴承外圆磨削振动检测方法

轴承外圆磨削过程中,砂轮旋转引起的振动干扰是影响轴承外圆表面质量的关键因素。对此,提出了面向转速优化的轴承外圆磨削振动检测方法。对轴承外圆磨削系统进行动力学建模,在此基础上分析检测方法的原理,并设计了与检测方法相配套的检测系统硬件、软件。应用这一检测方法,通过试验得到轴承外圆磨削时的较优的砂轮转速范围,并通过对比轴承外圆表面质量,验证这一检测方法的有效性。

浮动离心式深孔抛光装置的设计与分析

浮动离心式深孔抛光装置的设计解决了大型不对称零件深孔抛光的加工难题,其设计原理是利用物体高速回转时产生的离心力。浮动离心式深孔抛光装置的结构特点就是其结构既能让抛光物有一定的浮动范围以充分利用高速回转时的离心力作为抛光力,又能限制抛光物不至于在离心力的作用下被甩出。该装置结构简单、制造成本低,有较高的推广应用价值,并已获得多项实用新型专利。