基于8098单片机的磁参数测量仪预处理电路研究

介绍了基于８０９８单片机的磁性参数测量仪预处理电路，包括计算机接口对预处理电路的要求、Ｂｍ ／Ｈｍ 预处理电路、Ｂ（ｔ）／Ｈ（ｔ） 预处理电路等。针对磁参仪的结构特点和测试要求，对接口电路的电平转换与匹配、参数选择和抗干扰措施做了详尽的分析。实验结果表明，该电路稳定可靠。

硫酸钡比浊法测定氧化铁中硫酸根

在盐酸介质中 ,钡离子与硫酸根离子生成难溶的硫酸钡 ,使溶液混浊 ,采用乙醇作稳定剂 ,利用分光光度计进行比色 ,可测定氧化铁中硫酸根。该法手续简便 。

MnZn铁氧体磁性材料的X射线光谱熔融片法分析测定

提出了一种用Ｘ射线荧光光谱分析测量ＭｎＺｎ铁氧体磁性材料组份的方法。测量样片用熔融法制备。

MnZn铁氧体磁性材料的X射线光谱粉末压片直接测定

提出了用Ｘ射线光谱仪粉末压片法测定ＭｎＺｎ铁氧体各组份浓度的方法．用数据说明了该方法优越的精确性及长期稳定性并对生产单位提出了建议。

MgZn铁氧体(偏转)磁性材料的X射线光谱测定与研究

提出了用Ｘ射线光谱仪粉末压片法及熔融片法测定ＭｇＺｎ铁氧体各组分浓度的方法。对粉料的制备、均匀性状态颗粒度进行了一系列试验。

颗粒尺寸对铁氧体比饱和磁化强度的影响及有关理论计算

研究了软磁铁氧体预烧粉料颗粒大小及粉末颗粒大小对样品比饱和磁化强度的影响。结果表明,样品比饱和磁化强度σ_■′将随颗粒尺寸大小而显著地变化,对应于某一颗粒尺寸,将存在一个比饱和磁化强度的最大值。文中根据必要的物理模型对此进行了详细的理论探讨,并作了定量计算。

过量PbO对PLZT（14／0／100）薄膜结构和性能的影响

采用Ｘ射线结构分析方法，对磁控溅射法制备的含过量ＰｂＯ的ＰＬＺＴ（１４／０／１００）薄膜在退火过程中的晶化行为进行了研究。结果表明，薄膜中过量的ＰｂＯ具有促进钙钛矿结构形成，降低晶化温度，并且抑制焦绿石相生长的作用。铁电性能测试结果表明，ＰｂＯ的过量能改善铁电薄膜的耐击穿性，但过量太多的ＰｂＯ会导致薄膜铁电性能变坏。

用扫描电镜(SEM)和能谱仪(EDS)对国内外铁氧体磁芯的检测与分析

本文根据国产高频铁氧体磁芯存在一些质量问题,借助扫描电镜、X 射线能谱仪等仪器,对国产与进口两种铁氧体磁芯进行对比分析,发现这两种磁芯的微区结钩以及化学成分的组成有显著的差异,以铁磁学理论分析和讨论了产生这些差异的原因,从而为生产厂家提供了提高磁芯质量的依据。

基于 8098 单片机的磁参数测量仪研究

介绍了一种基于单片机的新型磁参数测量仪的测量原理、系统结构、软件功能和误差分析与消除。该测量仪可实现磁性参数测试过程自动化。

磁性材料的磁性参数测量问题与质量保证方案

讨论了铁氧体磁性材料磁性参数磁性测量的准确度和测量结果可对比性的问题 。

EDTA滴定法测定锰锌铁氧体中锌的研究

研究了锰锌铁氧体中沉淀分离锰，ＥＤＴＡ络合滴定锌的方法．比萃取分离（１）测定锌的方法操作简便，重现性好，不使用有机试剂，是对锰锌铁氧体中锌的测定方法的一大改进．

环耦合旋磁铁氧体小球等效电路参数及小球参数测量方法

给出了简单易行的方法,可以在宽频范围内,在实际应用情况下、测量环耦合旋磁铁氧体小球等效电路参数(L_x值、视在Q值、R_p值、L_p值、f_o值)、也可以测量出铁氧体小球的参数(小球Q值的近似值,Ms值和H_k值)。运用这种方法还可判明:小球定向状况良好与否,器件磁路性能怎样,小球恒温加热器效能如何。这种方法还提供了一种手段来实验研究假响应。

测量软磁铁氧体磁芯的三次谐波畸变的低阻抗法

本文介绍了按照 IEC 标准第367-1号建立的三次谐波畸变的测试系统。叙述了建立此系统所依据的基本理论,并通过实验数据得以证实本系统的可行性和可靠性。

多孔磁芯磁参数及测试方法研究

确定了多孔磁芯磁参数及测试方法，推荐了测试仪器，建立了测试系统，给出了基本测试误差。

铅硼无机粘结剂对轧制取向铁氧体磁性能的影响

本文论述了在轧制取向制备各向异性铁氧体永磁中添加Pb-B无机粘结剂的试验过程,并对其结果进行了分析讨论。试验证明加入一定量的Pb-B无机粘结剂。不仅具有粘结作用,而且能提高磁体的磁性能和密度,

单分散磁性单晶铁氧体纳米颗粒的制备

近年来，小尺寸单分散磁性材料在磁流体、先进磁性器件、催化剂、颜料、高密度磁记录介质以及医学诊断等方面应用中显示出许多独特的性能及广泛的应用前景。因此，关于单分散纳米磁性颗粒的制备成为了基础科学技术方面学者们研究的热点课题。其中，尖晶石结构铁氧体纳米材料被广泛应用于电子器件、信息存储、核磁共振成像以及靶向释药等诸多方面，纳米Fe3O4更是在生物标的、

永磁铁氧体瓦型磁体测试问题的研讨

介绍了几种常用的瓦型各向异性磁体的测量方法,并作了对比讨论。

软磁铁氧体磁性测量技术及其发展

讨论了软磁铁氧体材料的Ｂ～Ｈ特性、低磁通密度及高磁通密度下的交流磁特性测量技术中的许多值得注意的问题，并讨论了一些测量技术的发展方向。