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脉冲激光沉积(PLD)法制备NiZn铁氧体多晶薄膜研究 被引量:6
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作者 奚小网 陈亚杰 周雪琴 《磁性材料及器件》 CAS CSCD 2001年第6期9-13,共5页
采用脉冲激光沉积 (PLD)法分别在硅和玻璃基片上沉积了 Ni Zn铁氧体多晶薄膜。实验表明 :基片温度、氧气压以及热处理对薄膜的沉积速率。
关键词 脉冲激光沉积法 NiZn铁氧体薄膜 磁性能 基片温度 氧气压 沉积速率
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