溅射在金属氧化膜电阻器制作中的应用

随着物理气相沉积技术的进展,使薄膜阻容元件得到了进一步的发展。其中溅射工艺已占主导地位。本文简述了溅射的原理及工艺特点。并提供了以溅射工艺制作的薄膜电阻元件发展动态及特性。