ZrMnFe基吸气合金吸附二氧化碳气体的性能和机理

本文采用电弧熔炼法制备具有单一C14 Laves相结构的Ti_(x)Zr_(1−x)MnFe(x=0、0.25,摩尔分数)吸气合金,在660~700℃下用自制的简易Sieverts型恒容设备对ZrMnFe进行CO_(2)气体吸附反应测试,研究其吸附性能及其吸附CO_(2)气体的行为。结果表明:随温度升高,CO_(2)吸附量先增大后减小,在680℃时的最大吸附量为3.869 mmol/g,此时吸附性能最好。进行Ti掺杂获得Ti_(x)Zr_(1−x)MnFe吸气合金后,吸附量较掺杂前提升19.2%,但前8 h的吸附速率从0.301 mmol/(g∙h)降低到0.119 mmol/(g∙h)。结合第一性原理对吸附机理进行研究,通过吸附能比较得出最佳吸附位置为ZrMnFe(110)表面水平取向的空位,吸附能为5.531 eV。对态密度进行研究发现,ZrMnFe(110)表面和CO_(2)气体分子之间的相互作用主要由O的2s轨道和Zr原子的4p、4d轨道的杂化导致。

表面氧污染影响钛膜吸氢量的机理

表面氧污染的钛膜，其吸氢能力比清洁钛膜降低达数倍之多。在厚度d为40nm，表面氧污染的钛膜表面上，重新蒸镀一层极薄的（约1．2nm）清洁钛膜，吸氢、释氢的测量表明其吸氢能力得到恢复。另外，还对其他四块不同厚度的钛膜，在表面清洁及氧污染的条件下，分别进行了吸氢能力实验。实验结果证实：氧污染降低钛膜吸氢能力的原因是使钛膜上氢分子解离的位置减少，而不是扩散阻挡层的作用。

蒸散型吸气剂的出现电势谱研究

本文介绍运用俄歇电子出现电势谱和共振光电子与俄歇电子出现电势谱复合分析技术对蒸散型吸气剂的蒸散镜面所作的表面分析,其中主要是对不同质量吸气剂蒸散镜面的表面态作了一定比较,对吸气剂所含的杂质成分作了分析研究,并介绍了检测分析管的基本结构和检测电路方框图.这对出现电势谱在吸气剂生产上的开发应用,具有一定的实用价值.

掺氮吸气剂的电镜分析研究

主要介绍运用扫描电子显微镜和透射电子显微镜对进口羰基Ni粉与国产羰基Ni粉及吸气剂蒸散后各部位表面形貌及组分进行分析研究,获得了羰基Ni粉质量比较的重要信息,且从物理机理上解释了产生“拱起’质量问题的缘由.本文还介绍了掺氮吸气剂蒸散后残体的X光电子能谱分析结果,从而更进一步印证和充实了上述质量问题的物理机理解释.

掺氮吸气剂的俄歇能谱分析

文[1]认为掺氮吸气剂蒸散时产生的“拱起”现象是由于蒸散残体产物的膨胀系数差异引起的。然而,这只是产生“拱起”质量问题的一方面,即产生原动力的一面,应该说蒸散残体表面生成物的差异是绝对的,而造成这些差异的大小则是相对的,对于“拱起”现象的研究,除了原动力的一面,还应该存在产生抑制作用的另一面,正由于抑制作用的存在,才有避免“拱起”产生的可能,这就是指蒸散残体与不锈钢基环之间的结合情况,运用俄歇能谱的分析将能揭开其界面的结合之谜。

场发射显示器中消气剂使用的若干问题

在场发射显示器 (FED)中使用消气剂 ,是维持FED内部真空度的最主要的手段 ,对延长FED的工作寿命起着重要作用。本文首先从抽气平衡方程推导得到了检验FED漏率是否合格的判别公式 ,并从此判别公式出发 ,对真空环境和FED工作寿命之间的关系进行了计算。文中提出了一种新型的器件封装结构的方案 ,实现了蒸散型和非蒸散型消气剂 (NEG)的同时使用 ,对延长FED ,特别是大屏幕FED的工作寿命 。

吸气材料的研究现状及进展

简要阐述了吸气材料的重要性及发展现状,并从获得吸气材料活性表面的两种不同方式,综述了蒸散型吸气剂和非蒸散型吸气剂的吸气理论和应用研究情况,并着重介绍了新型钛基非蒸散型吸气剂的发展现状和应用前景。

非蒸散型吸气剂的研究进展

首先从Zr基非蒸散型吸气剂和Ti基非蒸散型吸气剂这两大分类介绍了非蒸散型吸气剂的发展历程,并比较了Zr、Ti基非蒸散型吸气剂的优缺点,然后从制备与改性方法两个方面,对非蒸散型吸气剂的研究现状进行系统性的介绍,并对非蒸散型吸气剂未来的研究方向进行了展望。研究发现,Zr、Ti基非蒸散型吸气剂的特性导致两者在主要的应用领域有所不同,两者的改性研究方向也有所不同。Zr基非蒸散型吸气剂未来的研究方向应集中在多种改性相结合的方法来扩展锆钒铁合金的应用领域和探索新型锆钒铁合金,Ti基非蒸散型吸气剂未来的研究重点应集中在改进其成膜工艺,或者探究新型的成膜法以代替传统的成膜法。值得注意的是降低Zr、Ti非蒸散型吸气剂的平台压没有引起足够的重视。

Ni/Zr-Co-Re堆栈层薄膜吸气剂的吸气性能及Ni作用机理研究

采用磁控溅射的方法制备了带有Ni保护层和Zr-Co-Re(Re代表稀土元素)主体层的堆栈层薄膜吸气剂。通过X射线光电子能谱仪(XPS)分析了薄膜吸气剂内部O元素的含量分布,研究了薄膜吸气剂中Ni层的防氧化作用和机理。研究表明:(1)Ni/Zr-CoRe堆栈层薄膜吸气剂在160℃保温3h的条件下可以有效激活,并具有高于Zr-Co-Ni单层薄膜吸气剂的吸气性能;(2)Ni保护层降低了吸气剂的被氧化程度,促进了表面吸附的H2分子的解离和扩散。

纳米晶锆粉对材料吸气性能的影响

采用高能球磨的方法制备出纳米级超细锆粉 ,并将细化锆粉应用在吸气材料制备上。结果表明 ,经一定时间高能球磨后粉末粒度达到纳米级 ,粉末颗粒形状不规则 ,在球磨过程中有少量铁杂质带入。将球磨12h的锆粉应用在吸气材料制备上 ,发现能有效地提高材料的吸气速率和吸气容量 ,但粉末粒度过细反而使吸气性能下降。

钙吸气剂

自显像管发明以来，一直使用铋作为吸气剂，但是，钡有污染环境、钡膜在高能电子轰击下会产生X射线等缺点，所以吸气剂研制者们一直在潜心研究取代钡吸气剂的材料。本文介绍了一种可以与B副诚-Ni吸气剂吸气能力相当的CaAl2-i吸气剂。这种吸气剂对环境污染影响小，不会产生有害的X射线，所以业界内期待着将它开发成实用的品种。

Ti-Ta吸气丝的SIMS分析

本文给出两种Ti-Ta吸气丝的SIMS分析,比较其结果,对其吸气性能的差异予以讨论,指出其中一种Ti-Ta吸气丝吸气性能差的原因。

锆钒铁吸气剂

本文主要介绍了一种低温激活、常温使用的锆钒铁吸气剂的研制过程，并阐述了锆钒铁吸气剂吸气性能的测试方法。同时，介绍了锆钒铁吸气剂在电子器件、真空技术和科学研究中的应用。

用钛吸气和壁碳化改善SWIP－RFP装置的等离子体性能

用钛吸气方法制备清洁表面净化环形反场箍缩（ＳＷＩＰ－ＲＦＰ）装置内真空室以及原位壁碳化改善ＳＷＩＰ－ＲＦＰ装置器壁状态，减少了该装置等离子体中的杂质水平，提高了等离子体性能。

A new depsidone from Usnea diffracta

A new depsidone, diffractione A （1）, as well as six known phenolic compounds （2-7） were isolated from Usnea diffracta. Their structures were elucidated by 1D and 2D NMR spectroscopy together with HRESIMS analysis. All components were obtained for the first time from U. diffracta.

吸气材料的应用现状与前景

本文论述了吸气材料有四大类几十种产品，其应用领域日益广泛，需求量不断增加；呼吁有关部门应对吸气材料的研究投入一定的人力和物力，开发更高更新的产品。

现代吸气剂及其应用技术

近年来，新型叹气剂的开发和应用均取得长足的进步。吸气剂在真空技术领域内愈加显示出它的重要性。本文介绍了吸气剂的吸气机理，吸气材料对氢及其同位素之间的吸附、解吸的平衡理论问题，蒸散型吸气剂和非蒸散型吸气剂的最新发展和应用等．

Ti基吸气剂制备及其在MEMS晶圆级真空封装中的应用

采用倾斜溅射工艺制备了一种Cr/Ti/Ni三层金属吸气剂薄膜,其中Ti薄膜作为主吸气层,Cr薄膜为沉积在Ti下方的阻挡层,Ni薄膜为覆盖在Ti上方的保护层。在350℃高温激活后,吸气剂初始吸气速率大于100 cm^(3)·s^(-1)·cm^(-2),30 min内吸气容量大于40 Pa·cm^(3)·cm^(-2),接近国外先进吸气剂的吸气性能指标。利用一种特殊的立体掩膜在微电子机械系统(MEMS)盖帽深腔内制备吸气剂,并将盖帽用于陀螺仪的晶圆级真空封装。对封装好的陀螺仪芯片进行微腔室残余气体分析,陀螺仪内部封装真空度达到1 Pa量级,气体成分均为惰性气体,表明吸气剂在真空封装中发挥了重要作用。

锂硼基吸气剂对不同气体的常温自激活吸气特性

考察了锂硼基吸气剂在室温下对H_2、N_2、O_2、湿空气和干空气的长期吸气特性,采用XRD和SEM研究了锂硼基吸气剂在吸气后的物相及表面形貌的变化,分析了吸气机制。结果表明,室温下锂硼基吸气剂在H_2、O_2、N_2环境中吸气960h后,吸气量分别为QH=13._20Pa·m3/g、QO=4.35Pa·m^3/g、QN=_2.73Pa·m^3/g。锂硼基吸气剂关于纯气体的吸气模型主要分为3个阶段:Ⅰ阶段为表面锂反应控制阶段;Ⅱ阶段为Li和气体原子互扩散控制阶段;Ⅲ阶段为LiB中Li释出扩散或气体原子经产物层向内扩散控制阶段。锂硼基吸气剂在干空气和湿空气下的吸气过程不存在明显的3个阶段。封闭环境中一定量的水蒸气与吸气剂相互作用后,生成物有阻碍作用,使吸气量大大降低。