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题名热处理工艺对ACPDP中MgO保护膜性能的影响
被引量:1
- 1
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作者
任红霞
胡江峰
郑德修
孙鉴
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机构
西安电子科技大学微电子研究所
西安交通大学电子物理与器件研究所
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出处
《真空电子技术》
1999年第1期38-42,54,共6页
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文摘
保护膜的表面特性严重影响ACPDP的性能。本文以电子束蒸发法制得的MgO保护膜为例,有关热处理条件对保护膜表面基本特性,如结晶结构、表面形貌及成分等的影响进行了研究。
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关键词
介质保护膜
热处理工艺
表面特性
AC
PDP
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Keywords
Protecting film overcoating the dielectric layer,Baking process,Surface characteristic
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分类号
TN141.505
[电子电信—物理电子学]
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题名等离子体显示板(PDPs)的封接工艺
被引量:1
- 2
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作者
胡文波
姚宗熙
王绪绪
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机构
西安交通大学电子物理与器件研究所
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出处
《真空电子技术》
1998年第5期48-50,共3页
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文摘
本文介绍了用于PDPs封接的低溶玻璃材料的选择方法和PDPs的封接工艺。我们按照此工艺封接出的PDPs的质量令人满意。
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关键词
等离子体
显示板
封接
低熔玻璃
PDPs
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Keywords
Plasma display panel (PDP) ,Sealing technique ,Low fusing point glass
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分类号
TN141.505
[电子电信—物理电子学]
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题名对PDP清洗工艺的探索
被引量:2
- 3
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作者
赵志明
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机构
西安交通大学电子物理与器件研究所
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出处
《真空电子技术》
2000年第4期41-42,共2页
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文摘
本文介绍了用于 2 1英寸 PDP清洗的工艺流程及解决各种对清洗质量造成影响的因素的办法。
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关键词
PDP
清洗工艺
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Keywords
PDP
Washing technology
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分类号
TN141.505
[电子电信—物理电子学]
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题名保护膜制备参数对其性能影响的实验研究
- 4
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作者
任红霞
胡江峰
郑德修
孙鉴
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机构
西安电子科技大学微电子研究所
西安交通大学物理与器件研究所
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出处
《真空电子技术》
1999年第2期44-50,26,共8页
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文摘
以电子束蒸发法制得的MgO保护膜为例,对保护膜制备参数,例如基板温度、沉积速率等对保护膜表面结晶结构、形貌及成分等基本特性的影响进行了研究,为保护膜制备工艺的优化提供了指导。
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关键词
介质保护膜
工艺参数
表面特性
ACPDP
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Keywords
Protecting film overcoating the dielectric layer, Technical parameter, Surface characteristics
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分类号
TN141.505
[电子电信—物理电子学]
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题名PDP上,下基板清洗工艺的探索
- 5
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作者
赵志明
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机构
西安交通大学电子物理与器件研究所
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出处
《彩色显像管》
1999年第2期8-9,共2页
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文摘
本文阐述了彩色等离子体显示板(PDP)用上、下基板的清洗工艺流程,针对清洗过程遇到的问题,找出相应的解决办法;针对清洗过程中遇到的:A、基板玻璃本身的质量及被污染情况;B、清洗剂的选择及其浓度与温度、水质、;C、环境的清洁程度;D1清洗后的干燥温度等因素对清洗质量的影响,逐条做了详尽的论述,找出较为合理、有效的工艺流程。
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关键词
彩色PDP
基板玻璃
清洗
超净
浓度
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分类号
TN141.505
[电子电信—物理电子学]
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题名发光效率提高1.5倍的PDP生产技术
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作者
水吟
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出处
《广播电视信息》
1998年第6期62-62,61,共2页
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文摘
日本京色拉公司在把彩色PDP的发光效率提高1.5倍的同时,开发出降低生产成本的技术。它将雕刻成沟的模具压在基板上,形成隔膜图形。 目前彩色等离子体显示屏(PDP)存在图像质量低和成本高这两个因素。
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关键词
PDP
彩色
发光效率
等离子体
显示屏
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分类号
TN141.505
[电子电信—物理电子学]
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题名等离子平板显示器工艺研究
- 7
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作者
马萍
田力
王德勇
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机构
黑龙江省电子技术研究所
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出处
《黑龙江电子技术》
1999年第5期3-4,共2页
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文摘
系统介绍了多色交流等离子体模块显示板的结构、工作原理及制作工艺。
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关键词
等离子平板显示
MACPDP
制造工艺
显示器件
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分类号
TN141.505
[电子电信—物理电子学]
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