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热处理工艺对ACPDP中MgO保护膜性能的影响 被引量:1
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作者 任红霞 胡江峰 +1 位作者 郑德修 孙鉴 《真空电子技术》 1999年第1期38-42,54,共6页
保护膜的表面特性严重影响ACPDP的性能。本文以电子束蒸发法制得的MgO保护膜为例,有关热处理条件对保护膜表面基本特性,如结晶结构、表面形貌及成分等的影响进行了研究。
关键词 介质保护膜 热处理工艺 表面特性 AC PDP
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等离子体显示板(PDPs)的封接工艺 被引量:1
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作者 胡文波 姚宗熙 王绪绪 《真空电子技术》 1998年第5期48-50,共3页
本文介绍了用于PDPs封接的低溶玻璃材料的选择方法和PDPs的封接工艺。我们按照此工艺封接出的PDPs的质量令人满意。
关键词 等离子体 显示板 封接 低熔玻璃 PDPs
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对PDP清洗工艺的探索 被引量:2
3
作者 赵志明 《真空电子技术》 2000年第4期41-42,共2页
本文介绍了用于 2 1英寸 PDP清洗的工艺流程及解决各种对清洗质量造成影响的因素的办法。
关键词 PDP 清洗工艺
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保护膜制备参数对其性能影响的实验研究
4
作者 任红霞 胡江峰 +1 位作者 郑德修 孙鉴 《真空电子技术》 1999年第2期44-50,26,共8页
以电子束蒸发法制得的MgO保护膜为例,对保护膜制备参数,例如基板温度、沉积速率等对保护膜表面结晶结构、形貌及成分等基本特性的影响进行了研究,为保护膜制备工艺的优化提供了指导。
关键词 介质保护膜 工艺参数 表面特性 ACPDP
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PDP上,下基板清洗工艺的探索
5
作者 赵志明 《彩色显像管》 1999年第2期8-9,共2页
本文阐述了彩色等离子体显示板(PDP)用上、下基板的清洗工艺流程,针对清洗过程遇到的问题,找出相应的解决办法;针对清洗过程中遇到的:A、基板玻璃本身的质量及被污染情况;B、清洗剂的选择及其浓度与温度、水质、;C、环境... 本文阐述了彩色等离子体显示板(PDP)用上、下基板的清洗工艺流程,针对清洗过程遇到的问题,找出相应的解决办法;针对清洗过程中遇到的:A、基板玻璃本身的质量及被污染情况;B、清洗剂的选择及其浓度与温度、水质、;C、环境的清洁程度;D1清洗后的干燥温度等因素对清洗质量的影响,逐条做了详尽的论述,找出较为合理、有效的工艺流程。 展开更多
关键词 彩色PDP 基板玻璃 清洗 超净 浓度
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发光效率提高1.5倍的PDP生产技术
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作者 水吟 《广播电视信息》 1998年第6期62-62,61,共2页
日本京色拉公司在把彩色PDP的发光效率提高1.5倍的同时,开发出降低生产成本的技术。它将雕刻成沟的模具压在基板上,形成隔膜图形。 目前彩色等离子体显示屏(PDP)存在图像质量低和成本高这两个因素。
关键词 PDP 彩色 发光效率 等离子体 显示屏
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等离子平板显示器工艺研究
7
作者 马萍 田力 王德勇 《黑龙江电子技术》 1999年第5期3-4,共2页
系统介绍了多色交流等离子体模块显示板的结构、工作原理及制作工艺。
关键词 等离子平板显示 MACPDP 制造工艺 显示器件
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