期刊文献+
共找到2篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
硅片研磨表面状态的改善和研磨液的改进 被引量:7
1
作者 张伟 周建伟 +1 位作者 刘玉岭 刘承霖 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2006年第10期758-761,765,共5页
在硅片研磨过程中,由于应力的积累和剧烈的机械作用,硅片表面损伤严重,碎片率增加。介绍了一种改进的研磨液,不但把剧烈的机械作用转变为比较缓和的化学-机械作用,还能起到其他较好的辅助作用并对其各成分作用,进行了理论分析。硅片表... 在硅片研磨过程中,由于应力的积累和剧烈的机械作用,硅片表面损伤严重,碎片率增加。介绍了一种改进的研磨液,不但把剧烈的机械作用转变为比较缓和的化学-机械作用,还能起到其他较好的辅助作用并对其各成分作用,进行了理论分析。硅片表面状态得到了一定程度的改善,提高了生产效率。 展开更多
关键词 硅片 研磨 研磨液 应力
下载PDF
用电子回旋共振分子束外延法在(0001)蓝宝石衬底上外延生长GaN
2
作者 周华 《发光快报》 CSCD 1995年第5期40-41,共2页
关键词 氮化镓 外延生长 分子束 电子回旋共振
下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部