期刊文献+
共找到6篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
逆阻式IGBT的应用与驱动保护
1
作者 刘智超 周大宁 黄立培 《变频器世界》 2004年第6期113-116,共4页
新型电力半导体器件一逆阻式IGBT(Reverse Blocking IGBT,RBIGBT)正逐渐应用于大功率电力变换器特别是矩阵变换器中,本文主要比较了这种器件与普通GBT之间相似与不同的特点。同时,文章介绍了逆阻式IGBT的静动态特性,并针对其特性... 新型电力半导体器件一逆阻式IGBT(Reverse Blocking IGBT,RBIGBT)正逐渐应用于大功率电力变换器特别是矩阵变换器中,本文主要比较了这种器件与普通GBT之间相似与不同的特点。同时,文章介绍了逆阻式IGBT的静动态特性,并针对其特性对驱动电路的设计做了详细的说明。本文还对逆阻式IGBT的过流保护电路做了一些必要的分析。 展开更多
关键词 逆阻式IGBT 电力半导体器件 驱动保护 过流保护电路
下载PDF
我国电力电子技术发展展望 被引量:2
2
作者 肖元真 张良 《中国科技信息》 1994年第3期15-16,共2页
以电力半导体器件为核心,加上电力变流技术、计算机技术等科学技术的移植渗透,开创了电力电子技术。电力电子器件的不断推陈出新,使电力电子技术的应用领域不断扩大,成为机电工业的基础技术和改造传统产业的有力手段。 随着电力半导体... 以电力半导体器件为核心,加上电力变流技术、计算机技术等科学技术的移植渗透,开创了电力电子技术。电力电子器件的不断推陈出新,使电力电子技术的应用领域不断扩大,成为机电工业的基础技术和改造传统产业的有力手段。 随着电力半导体器件的发展,电力电子技术不但从整流发展到逆变,而且从低频发展到高频。应用领域扩展到国民经济和国防建设各部门。为合理高效的使用电能。 展开更多
关键词 电力电子技术 半导体器件 电子器件
下载PDF
基于MSP430超低功耗海洋漂流浮标采集器的设计 被引量:6
3
作者 孔卫奇 杨志勇 马尚昌 《现代电子技术》 北大核心 2017年第20期146-149,共4页
为了满足远海气象水文监测需要,设计一种基于MSP430MCU海洋气象水文漂流浮标采集器;重点研究采集器电路设计及程序设计。为了最大限度提高采集器运行时长,采用超低功耗微处理器,供电系统采用锂电池与太阳能电池板,充电控制采用最大功率... 为了满足远海气象水文监测需要,设计一种基于MSP430MCU海洋气象水文漂流浮标采集器;重点研究采集器电路设计及程序设计。为了最大限度提高采集器运行时长,采用超低功耗微处理器,供电系统采用锂电池与太阳能电池板,充电控制采用最大功率点跟踪(MPPT),并为所有部件设置独立电源控制;采集器运用国内自主研发的北斗通信方式,实现深远海气象水文数据采集。实际测试结果验证了系统的合理性和实用性,对于深远海洋气象水文观测意义重大。 展开更多
关键词 MSP430MCU 超低功耗 北斗通信 数据采集
下载PDF
新型GalnNAs系低功耗HBT研究进展
4
作者 顾卫东 李献杰 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2002年第9期4-8,共5页
介绍了新型GaInNAs系低功耗异质结双极晶体管(HBT)的设计思想和最新研究进展,并展望了其在低功耗高速集成电路和长波长光电集成电路方面的应用前景。
关键词 HBT 能带结构 纵向外延层结构 GAINNAS 低功耗 异质结双极晶体管
下载PDF
表层漂流浮标系统超低功耗改进设计及实现 被引量:4
5
作者 王辉 丁军航 +1 位作者 兰勇 王岩峰 《现代电子技术》 2021年第12期115-120,共6页
针对目前国内外表层漂流浮标系统工作时间有限的问题,设计一种基于STM32单片机的表层漂流浮标系统,对浮标系统进行低功耗设计,主要表现在系统硬件改进设计、低功耗器件选型、RTC的研究使用、数据最优采样存储等,另外进行软件优化,包括... 针对目前国内外表层漂流浮标系统工作时间有限的问题,设计一种基于STM32单片机的表层漂流浮标系统,对浮标系统进行低功耗设计,主要表现在系统硬件改进设计、低功耗器件选型、RTC的研究使用、数据最优采样存储等,另外进行软件优化,包括系统工作方式优化、卫星发射策略优化等。从而获得超低功耗的浮标系统,有效提升海上工作时间。实际测试结果表明,此系统满足实用性,并且漂流浮标低功耗系统有了可观的实验效果,对长时间海洋数据稳定获取具有重大意义。 展开更多
关键词 表层漂流浮标 超低功耗 硬件改进 数据存储 软件优化 节能设计 RTC
下载PDF
在65nm工艺线开发低功耗晶体管
6
作者 孙再吉 《半导体信息》 2003年第6期22-22,共1页
据日本《电子材料》2003年第8期报道,日本东芝公司在65nm CMOS工艺线成功地开发了世界最低功耗的晶体管。该晶体管采用氮化铪(HfSiON)作为高介电率栅氧化膜,控制了Si衬底的界面反应,确保了界面稳定性;此外采用等离子体氮化技术用HfSiON... 据日本《电子材料》2003年第8期报道,日本东芝公司在65nm CMOS工艺线成功地开发了世界最低功耗的晶体管。该晶体管采用氮化铪(HfSiON)作为高介电率栅氧化膜,控制了Si衬底的界面反应,确保了界面稳定性;此外采用等离子体氮化技术用HfSiON材料形成了高介电率膜。与Si氧化膜相比,栅漏电流降低至其1/1000的水平。 展开更多
关键词 NM 工艺线 氮化铪 界面反应 界面稳定性 均一性 日本东芝公司 电子材料 氮化铅 界面性能
原文传递
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部