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硅双极型高速工艺和与其相容的硅PIN探测器 被引量:3
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作者 余宽豪 刘毓成 陈学良 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 1995年第3期265-268,共4页
文章描述硅双极高速工艺,和一种能与双极工艺相容的硅PIN探测器的结构及设计,从而提出一套易于实现两者集成的相容工艺。研制的单片集成光接收机,其中硅PIN探测器的光电响应为0.43A/W,整机的响应度为4.4×10... 文章描述硅双极高速工艺,和一种能与双极工艺相容的硅PIN探测器的结构及设计,从而提出一套易于实现两者集成的相容工艺。研制的单片集成光接收机,其中硅PIN探测器的光电响应为0.43A/W,整机的响应度为4.4×103V/W,工作频率250MHz。 展开更多
关键词 光电子集成电路 双极晶体管 探测器
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电力半导体器件的现状及发展趋势 被引量:4
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作者 吴济均 《电力电子技术》 CSCD 北大核心 1995年第3期77-83,共7页
电力半导体器件的现状及发展趋势PresentStatusandDevelopmentTendencyofPowerSemiconductorDevices西安电力电子技术研究所吴济均(西安710061)1前言电力半导... 电力半导体器件的现状及发展趋势PresentStatusandDevelopmentTendencyofPowerSemiconductorDevices西安电力电子技术研究所吴济均(西安710061)1前言电力半导体器件的特性直接影响到电力电子系统... 展开更多
关键词 电力半导体器件 制造 发展
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双极晶体管的杂质扩散行为及其BiCMOS工艺优化
3
作者 王界平 《微电子学》 CAS CSCD 1994年第4期60-61,共2页
双极晶体管的杂质扩散行为及其BiCMOS工艺优化王界平编译1 引言各种仪器、设备性能的改进,要求集成电路进一步提高其集成度。随着集成度的提高,一方面可以改善性能、提高可靠性;另外也能降低成本、方便维修。提高集成度可以... 双极晶体管的杂质扩散行为及其BiCMOS工艺优化王界平编译1 引言各种仪器、设备性能的改进,要求集成电路进一步提高其集成度。随着集成度的提高,一方面可以改善性能、提高可靠性;另外也能降低成本、方便维修。提高集成度可以着眼于以下三个方面:(1)缩小器件... 展开更多
关键词 双极晶体管 杂质 扩散 BICMOS
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SO封装晶体管的功率
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作者 DaveHollander C.S.Mitter 杜尚 《电子产品世界》 1998年第7期77-78,共2页
便携式电子产品的技术革新令人眼花缭乱。当你减小产品的体积时,你必须集成更多的功能,而且肯定会寻找一种取代分立元件的方法。一种单电路解决方案将是理想的解决方案。一个分立元件占优势的领域是电源管理。在便携式产品中。
关键词 晶体管 SO封装技术 双极功率晶体管
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氧化物墙隔离E、B、C的双极高速晶体管制造工艺
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作者 徐爱华 《微电子技术》 1995年第1期29-33,共5页
本文介绍了一种IC中使用的双极高速晶体管制造工艺,该工艺制造的晶体管的E、B、C均由氧化物墙隔离,消除了pn结的侧壁结,使双极晶体管的两个pn结基本上成为平面结,提高晶体管的fT。本文介绍了该工艺的工艺流程。分析了该工艺结构晶... 本文介绍了一种IC中使用的双极高速晶体管制造工艺,该工艺制造的晶体管的E、B、C均由氧化物墙隔离,消除了pn结的侧壁结,使双极晶体管的两个pn结基本上成为平面结,提高晶体管的fT。本文介绍了该工艺的工艺流程。分析了该工艺结构晶体管的特点,介绍了关键工艺步骤的工艺过程及工艺参数。并给出该工艺制造的晶体管的电参数及该工艺的应用前景。 展开更多
关键词 双极高速晶体管 制造 工艺 氧化物 墙隔离
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在低温炉中退火和高温RTA情况下双极晶体管的杂质扩散行为及0.5μ…
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作者 潘荔伟 张文金 《山东半导体技术》 1994年第3期55-64,共10页
关键词 双极晶体管 杂质扩散 退火 高温 快速热退火
全文增补中
隔离门极两极晶体管工艺的最新进展
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作者 Yilma.,H 俞平 《国外电力电子技术》 1989年第2期8-11,共4页
关键词 隔离门极 两极晶体管 工艺
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