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氢化非晶硅的低温输运
1
作者
朱美芳
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
1996年第3期499-505,共7页
从低温跳跃电导模型出发,计算低温下的跳跃频率,热发射率及输运能级随温度变化,分析讨论了非晶硅热激电导的低温峰。认为输运机制的变化是氢化非晶硅热激电导低温峰T_M独立于起始温度T_o的主要原因,T_M相应于输运机制变化的温度。
关键词
氢化非晶硅
低温
输运
跳跃频率
热发射率
原文传递
题名
氢化非晶硅的低温输运
1
作者
朱美芳
机构
中国科学技术大学研究生院物理系
出处
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
1996年第3期499-505,共7页
基金
国家自然科学基金
文摘
从低温跳跃电导模型出发,计算低温下的跳跃频率,热发射率及输运能级随温度变化,分析讨论了非晶硅热激电导的低温峰。认为输运机制的变化是氢化非晶硅热激电导低温峰T_M独立于起始温度T_o的主要原因,T_M相应于输运机制变化的温度。
关键词
氢化非晶硅
低温
输运
跳跃频率
热发射率
分类号
TN340.12 [电子电信—物理电子学]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
氢化非晶硅的低温输运
朱美芳
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
1996
0
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