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MOS控制晶闸管的三重扩散工艺研究 被引量:3
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作者 李学宁 唐茂成 +2 位作者 李肇基 李原 刘玉书 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第5期63-66,共4页
本文对MCT的核心工艺──三重扩散工艺进行了详细研究。通过SUPREM—Ⅲ计算机工艺仿真,获得了三重扩散的工艺条件。对三重扩散实验样品进行的扩展电阻、磨角以及四探针方块电阻测试表明:获得了优化的器件设计和研制条件。本... 本文对MCT的核心工艺──三重扩散工艺进行了详细研究。通过SUPREM—Ⅲ计算机工艺仿真,获得了三重扩散的工艺条件。对三重扩散实验样品进行的扩展电阻、磨角以及四探针方块电阻测试表明:获得了优化的器件设计和研制条件。本文设计并成功研制的新结构DOFM-CT器件,其电流可控能力达134A/cm2。 展开更多
关键词 三重扩散 MOS控制晶闸管 工艺 场效应器件
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