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PTC-BaTiO_3射频溅射用靶材的制备
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作者 邵刚勤 李世普 +2 位作者 罗志平 潘牧 苏武大 《材料科学与工艺》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第4期44-47,共4页
研究了用于射频溅射PTC-BaTiO_3薄膜的厚大靶材制备工艺,所制成的靶材的室温电阻率为800Ω·cm,PTC效应>105,平均粒径为1~3μm,讨论了配方中TiO_2品种的选择。
关键词 靶材 射频溅射 PTC 薄膜 集成电路
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