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PTC-BaTiO_3射频溅射用靶材的制备
1
作者
邵刚勤
李世普
+2 位作者
罗志平
潘牧
苏武大
《材料科学与工艺》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1995年第4期44-47,共4页
研究了用于射频溅射PTC-BaTiO_3薄膜的厚大靶材制备工艺,所制成的靶材的室温电阻率为800Ω·cm,PTC效应>105,平均粒径为1~3μm,讨论了配方中TiO_2品种的选择。
关键词
靶材
射频溅射
PTC
薄膜
集成电路
下载PDF
职称材料
题名
PTC-BaTiO_3射频溅射用靶材的制备
1
作者
邵刚勤
李世普
罗志平
潘牧
苏武大
机构
武汉工业大学
出处
《材料科学与工艺》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1995年第4期44-47,共4页
文摘
研究了用于射频溅射PTC-BaTiO_3薄膜的厚大靶材制备工艺,所制成的靶材的室温电阻率为800Ω·cm,PTC效应>105,平均粒径为1~3μm,讨论了配方中TiO_2品种的选择。
关键词
靶材
射频溅射
PTC
薄膜
集成电路
Keywords
PTC-BaTiO3
Target
Rf-sputtering
分类号
TN405.092 [电子电信—微电子学与固体电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
PTC-BaTiO_3射频溅射用靶材的制备
邵刚勤
李世普
罗志平
潘牧
苏武大
《材料科学与工艺》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1995
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