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利用SILVACO TCAD软件改进集成电路实践教学的研究
被引量:
8
1
作者
朱筠
《数字技术与应用》
2012年第7期114-116,共3页
日益成熟的集成电路工艺与器件计算机辅助设计工具有助于缩短半导体工艺和器件的开发周期、降低开发成本,因而越来越被广泛应用。通过模拟软件Silvaco TCAD对工艺进行仿真,了解实际集成电路生产涉及的氧化、扩散、淀积、光刻、刻蚀、平...
日益成熟的集成电路工艺与器件计算机辅助设计工具有助于缩短半导体工艺和器件的开发周期、降低开发成本,因而越来越被广泛应用。通过模拟软件Silvaco TCAD对工艺进行仿真,了解实际集成电路生产涉及的氧化、扩散、淀积、光刻、刻蚀、平坦化等一系列工艺过程;对器件的仿真,熟悉专业基础课程内容如器件的基本结构、材料的性能、载流子的浓度和工作电压等对器件各种性能的影响。并可以加深学生对课程理论的理解,同时提高学习兴趣,从而获得良好教学效果。
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关键词
Silvaco
TCAD
工艺仿真
器件仿真
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职称材料
3d过渡族金属杂质在硅中的行为
2
作者
张溪文
杨德仁
阙端麟
《材料科学与工程》
CSCD
1997年第4期19-21,共3页
本文综述了3d过渡族金属在直拉硅单晶中的扩散、溶解、沉淀及间隙位演变等性质,介绍了国际上在此领域的研究进展,为进一步开展这方面的工作提供了有益的借鉴。
关键词
3d过渡族金属
内吸杂
氧沉淀
硅
IC
扩散
下载PDF
职称材料
题名
利用SILVACO TCAD软件改进集成电路实践教学的研究
被引量:
8
1
作者
朱筠
机构
西安邮电学院电子工程学院
出处
《数字技术与应用》
2012年第7期114-116,共3页
文摘
日益成熟的集成电路工艺与器件计算机辅助设计工具有助于缩短半导体工艺和器件的开发周期、降低开发成本,因而越来越被广泛应用。通过模拟软件Silvaco TCAD对工艺进行仿真,了解实际集成电路生产涉及的氧化、扩散、淀积、光刻、刻蚀、平坦化等一系列工艺过程;对器件的仿真,熟悉专业基础课程内容如器件的基本结构、材料的性能、载流子的浓度和工作电压等对器件各种性能的影响。并可以加深学生对课程理论的理解,同时提高学习兴趣,从而获得良好教学效果。
关键词
Silvaco
TCAD
工艺仿真
器件仿真
Keywords
Silvaco TCAD process simulation device simulation
分类号
TN405.4 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
3d过渡族金属杂质在硅中的行为
2
作者
张溪文
杨德仁
阙端麟
机构
浙江大学硅材料国家重点实验室
出处
《材料科学与工程》
CSCD
1997年第4期19-21,共3页
文摘
本文综述了3d过渡族金属在直拉硅单晶中的扩散、溶解、沉淀及间隙位演变等性质,介绍了国际上在此领域的研究进展,为进一步开展这方面的工作提供了有益的借鉴。
关键词
3d过渡族金属
内吸杂
氧沉淀
硅
IC
扩散
Keywords
3d transition metals,\ internal gettering,\ oxygen precipitation
分类号
TN405.4 [电子电信—微电子学与固体电子学]
TN304.12 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
利用SILVACO TCAD软件改进集成电路实践教学的研究
朱筠
《数字技术与应用》
2012
8
下载PDF
职称材料
2
3d过渡族金属杂质在硅中的行为
张溪文
杨德仁
阙端麟
《材料科学与工程》
CSCD
1997
0
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职称材料
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