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输运和化学组分对CVD的影响—硅淀积的三维分析
1
作者
GOKO.,SA
娄建中
《电子通讯》
1989年第41期2-14,共13页
关键词
硅淀积
三维分析
化学组分
CVD
下载PDF
职称材料
题名
输运和化学组分对CVD的影响—硅淀积的三维分析
1
作者
GOKO.,SA
娄建中
出处
《电子通讯》
1989年第41期2-14,共13页
关键词
硅淀积
三维分析
化学组分
CVD
分类号
TN405.786 [电子电信—微电子学与固体电子学]
下载PDF
职称材料
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作者
出处
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1
输运和化学组分对CVD的影响—硅淀积的三维分析
GOKO.,SA
娄建中
《电子通讯》
1989
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