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AlN基片的薄膜金属化 被引量：7
1
作者 高能武 陆吟泉 +1 位作者 秦跃利 吴云海 《电子元件与材料》 CAS CSCD 1999年第5期22-23,共2页
讨论了ＡｌＮ基片的薄膜金属化。通过试验，确定了有效的清洗方法及优化溅射参数。实验证明，ＴｉＷ－Ａｕ 是ＡｌＮ的优良金属化体系。ＡｌＮ材料经激光划片后出现导电物质，
关键词 AlN基片 薄膜 金属化 混合集成电路
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