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集成电路发展前景──下一步的技术进展
被引量:
2
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作者
王家祺
解思深
《物理》
CAS
北大核心
1993年第4期229-230,共2页
关键词
集成电路
发展
生产工艺
原文传递
题名
集成电路发展前景──下一步的技术进展
被引量:
2
1
作者
王家祺
解思深
机构
美国Nanodynamics
中国科学院物理研究所
出处
《物理》
CAS
北大核心
1993年第4期229-230,共2页
关键词
集成电路
发展
生产工艺
分类号
TN47-13 [电子电信—微电子学与固体电子学]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
集成电路发展前景──下一步的技术进展
王家祺
解思深
《物理》
CAS
北大核心
1993
2
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