镀钴溶液中硼酸的快速分析

研究了镀钴溶液中硼酸的快速分析方法。用亚铁氰化钾沉淀钴离子,消除钴对测定硼酸的干扰,用甘露醇与硼酸反应生成较强的络合物,以酚酞作指示剂,用氢氧化钠标准溶液滴定。实验表明,本法测定结果的相对平均偏差为0.29%。方法简单、快速,能够满足监控镀钴溶液中硼酸的要求。

氰化镀铜槽液分析故障处理一例

在对氰化镀铜槽液分析化验过程中,出现氰化亚铜含量偏低及氢氧化钠出现黑色沉淀的故障。采用原子吸收光谱法分析铜含量,结合原理分析,确定氰化亚铜含量偏低是因为过硫酸铵失效。通过与标准镀液对比试验,确定氢氧化钠分析中出现黑色沉淀是由于游离氰化钠含量过高,分析中加入的硝酸银过量太多的原因。通过调整分析方法后,该现象得到解决,分析正常。

钕铁硼永磁材料电镀液检测技术与展望

分析了钕铁硼材料电镀镀锌液、镀铜液和镀镍液中检测项目的常用方法,针对方法的局限性,介绍了一些新开发的检测技术。通过对NdFeB永磁材料上电镀所用镀液检测技术的研究,阐明了建立自动提供分析结果的在线分析(on-line)技术,同时依托现有设备开发多元素同时测定的方法,以及建立电镀液检测项目国家标准或行业标准,是钕铁硼材料电镀镀液检测未来发展方向。

原子吸收测定高含量铜的探讨

主要探讨在原子吸收分光光度计上用铜的次灵敏线测定高含量铜.

酸性电镀铜溶液中氯离子的电位滴定法

酸性电镀铜溶液中,氯离子的分析属于痕量分析,在多种分析方法中,电位滴定法检测氯离子具有测量仪器简单,操作简便,终点明显易于观察,误差小,且只需一种AgNO3试剂配制标准溶液,节约成本等多种优点。