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氧化铟基气敏材料的研究进展
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作者 李玉琦 徐英 梁士明 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2024年第6期930-946,共17页
本文系统回顾了氧化铟(In_(2)O_(3))基气敏材料的研究进展,并着重探讨了其在环境监测和安全领域的潜在应用。通过对氧化铟的结构、性质及其气敏传感机制的深入分析,详细介绍了不同合成方法(如水热法、化学气相沉积法等)对材料微观结构... 本文系统回顾了氧化铟(In_(2)O_(3))基气敏材料的研究进展,并着重探讨了其在环境监测和安全领域的潜在应用。通过对氧化铟的结构、性质及其气敏传感机制的深入分析,详细介绍了不同合成方法(如水热法、化学气相沉积法等)对材料微观结构及性能的影响。本文还讨论了元素掺杂、材料负载、半导体复合等改性手段在提高气敏性能方面的应用,并分析了当前的研究挑战及未来发展方向,为氧化铟基气敏材料的进一步研究和应用提供了重要的视角和方向。 展开更多
关键词 氧化铟 气敏性能 气体传感器 掺杂改性 结构修饰
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铝掺杂对硒化铟晶体结构与性能的影响
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作者 郑权 刘学超 +8 位作者 王浩 朱新峰 潘秀红 陈锟 邓伟杰 汤美波 徐浩 吴鸿辉 金敏 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2024年第9期1528-1535,共8页
硒化铟(InSe)是一种新型的窄禁带(1.3 eV)层状半导体,具有优异的塑性和电学性能,在新型电子和光电子器件中具有广泛应用前景。采用布里奇曼(Bridgman)法生长了未掺杂和铝掺杂的InSe晶体,通过能谱仪(EDS)和扫描电子显微镜(SEM)对制备材... 硒化铟(InSe)是一种新型的窄禁带(1.3 eV)层状半导体,具有优异的塑性和电学性能,在新型电子和光电子器件中具有广泛应用前景。采用布里奇曼(Bridgman)法生长了未掺杂和铝掺杂的InSe晶体,通过能谱仪(EDS)和扫描电子显微镜(SEM)对制备材料的化学成分和表面形貌进行了表征。本文研究发现,铝掺杂可调节InSe晶体的塑性和光电性能。X射线衍射(XRD)分析表明晶体具有六方结构,结合拉曼光谱表征证实晶体结构为ε-InSe。纳米压痕测量表明,随着铝掺杂量的增加,InSe晶体的硬度和模量降低,材料的塑性提高。霍尔效应测量和光学吸收谱结果表明,铝掺杂可提升载流子浓度和禁带宽度。 展开更多
关键词 InSe∶Al 布里奇曼法 力学性能 电学性能 第一性原理 晶体结构
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质子入射Al_(x)Ga_(1-x)N材料的位移损伤模拟
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作者 何欢 白雨蓉 +5 位作者 田赏 刘方 臧航 柳文波 李培 贺朝会 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第5期92-99,共8页
氮化镓材料由于优良的电学特性以及耐辐照性能,其与不同含量Al_(x)Ga_(1-x)N材料组成的电子器件,有望应用于未来空间电子系统中.然而目前关于氮化镓位移损伤机理研究多关注于氮化镓材料,对于Al_(x)Ga_(1-x)N材料位移损伤研究较少.本文... 氮化镓材料由于优良的电学特性以及耐辐照性能,其与不同含量Al_(x)Ga_(1-x)N材料组成的电子器件,有望应用于未来空间电子系统中.然而目前关于氮化镓位移损伤机理研究多关注于氮化镓材料,对于Al_(x)Ga_(1-x)N材料位移损伤研究较少.本文通过两体碰撞近似理论模拟了10 keV-300 MeV质子在不同Al元素含量的Al_(x)Ga_(1-x)N材料中的位移损伤机理.结果表明质子在Al_(x)Ga_(1-x)N材料中产生的非电离能损随质子能量增大而下降,当质子能量低于40 MeV时,非电离能损随着Al含量的增大而变大,当质子能量升高时该趋势相反;分析由质子导致的初级撞出原子以及非电离能量沉积,发现不同Al_(x)Ga_(1-x)N材料初级撞出原子能谱虽然相似,然而Al元素含量越高,由弹性碰撞产生的自身初级撞出原子比例越高;对于质子在不同深度造成的非电离能量沉积,弹性碰撞导致的能量沉积在径迹末端最大,而非弹性碰撞导致的能量沉积在径迹前端均匀分布,径迹末端减小,并且低能质子主要是通过弹性碰撞造成非电离能量沉积,而高能质子恰好相反.本研究揭示了不同Al元素含量的Al_(x)Ga_(1-x)N材料质子位移损伤机理,为GaN器件在空间辐射环境下的应用提供参考依据. 展开更多
关键词 Al_(x)Ga_(1-x)N 质子 位移损伤 两体碰撞近似
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GaAsBi半导体材料的制备及应用研究进展
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作者 马玉麟 郭祥 丁召 《人工晶体学报》 北大核心 2024年第1期25-37,共13页
稀铋Ⅲ-Ⅴ半导体材料在电子和光电子领域具有广泛的应用前景,其制备方法主要有分子束外延法(MBE)和金属有机物气相外延法(MOVPE)。本文聚焦于具有较大带隙收缩、温度不敏感以及强自旋轨道分裂等特殊物理特性的GaAs_(x)Bi_(1-x)半导体材... 稀铋Ⅲ-Ⅴ半导体材料在电子和光电子领域具有广泛的应用前景,其制备方法主要有分子束外延法(MBE)和金属有机物气相外延法(MOVPE)。本文聚焦于具有较大带隙收缩、温度不敏感以及强自旋轨道分裂等特殊物理特性的GaAs_(x)Bi_(1-x)半导体材料,对其制备方法和研究进展进行了综述。研究人员对GaAsBi材料的研究主要集中在薄膜、多量子阱、纳米线和量子点材料的制备。在薄膜材料方面,侧重于研究制备工艺条件对GaAsBi薄膜的影响,例如低衬底温度、低生长速率和非常规的Ⅴ/Ⅲ束流比;在多量子阱材料方面,采用双衬底温度技术有效减少Bi偏析问题;对于纳米线和量子点材料,金属Bi作为表面活性剂可以改善材料的形貌和光学性能。然而,目前在该材料研究和应用方面仍存在挑战,如薄膜材料的结晶质量恶化和金属Bi分凝团聚,以及量子点材料中Bi的均匀性和形成机制的争议。解决这些问题对于提高GaAs_(x)Bi_(1-x)半导体材料的质量和促进器件发展具有重要意义。 展开更多
关键词 稀铋Ⅲ-Ⅴ半导体材料 GaAsBi薄膜 多量子阱材料 量子点材料 MBE MOVPE
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Phase composition,conductivity,and sensor properties of cerium-doped indium oxide
5
作者 M.I.Ikim G.N.Gerasimov +2 位作者 V.F.Gromov O.J.Ilegbusi L.I.Trakhtenberg 《Nano Materials Science》 EI CAS CSCD 2024年第2期193-200,共8页
The hydrothermal synthesis of In_(2)O_(3)and CeO_(2)–In_(2)O_(3)is investigated as well as the properties of sensor layers based on these compounds.During the synthesis of In_(2)O_(3),intermediate products In(OH)_(3)... The hydrothermal synthesis of In_(2)O_(3)and CeO_(2)–In_(2)O_(3)is investigated as well as the properties of sensor layers based on these compounds.During the synthesis of In_(2)O_(3),intermediate products In(OH)_(3)and InOOH are formed,which are the precursors of stable cubic(c-In_(2)O_(3))and metastable rhombohedral(rh-In_(2)O_(3))phases,respectively.A transition from c-In_(2)O_(3)to rh-In_(2)O_(3)is observed with the addition of CeO_(2).The introduction of cerium into rh-In_(2)O_(3)results in a decrease in the sensor response to hydrogen,while it increases in composites based on c-In_(2)O_(3).The data on the sensor activity of the composites correlate with XPS results in which CeO_(2)causes a decrease in the concentrations of chemisorbed oxygen and oxygen vacancies in rh-In_(2)O_(3).The reverse situation is observed in composites based on c-In_(2)O_(3).Compared to In_(2)O_(3)and CeO_(2)–In_(2)O_(3)obtained by other methods,the synthesized composites demonstrate maximum response to H_(2)at low temperatures by 70–100℃,and have short response time(0.2–0.5 s),short recovery time(6–7 s),and long-term stability.A model is proposed for the dependence of sensitivity on the direction of electron transfer between In_(2)O_(3)and CeO_(2). 展开更多
关键词 Cerium oxide Indium oxide NANOCOMPOSITE Hydrothermal method Cubic phase Rhombohedral phase Sensor response CONDUCTIVITY HYDROGEN Response/recovery time
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基于β-Ga_(2)O_(3)/NiO异质结日盲光电探测器性能研究
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作者 关幼幼 陈海峰 +2 位作者 郭天翔 陆芹 刘祥泰 《电子元件与材料》 CAS 北大核心 2024年第5期528-537,共10页
采用原子层沉积法(ALD)在氧化硅衬底上沉积厚度为60 nm的氧化镓(Ga_(2)O_(3))薄膜,制备基于β-Ga_(2)O_(3)/NiO异质结结构的日盲光电探测器,研究器件的电极间距(d)、薄膜退火温度和欧姆退火温度对其光电性能的影响。研究结果显示,随着d... 采用原子层沉积法(ALD)在氧化硅衬底上沉积厚度为60 nm的氧化镓(Ga_(2)O_(3))薄膜,制备基于β-Ga_(2)O_(3)/NiO异质结结构的日盲光电探测器,研究器件的电极间距(d)、薄膜退火温度和欧姆退火温度对其光电性能的影响。研究结果显示,随着d从30μm缩短至10μm时,器件的光电流(Iphoto)、暗电流(Idark)、光响应度(R)、外部量子效率(EQE)和比探测率(D^(*))增大,上升时间(τr)和下降时间(τd)缩短。随着薄膜退火温度从500℃升至900℃时,器件的Iphoto、Idark、R、 EQE和D^(*)增大,τr和τd缩短。随着欧姆退火温度从350℃升至550℃时,Iphoto、Idark、R和EQE增大,τr和τd缩短。研究表明器件的光电性能在d为10μm、薄膜退火温度为900℃且欧姆退火温度为550℃的条件下最优,在10 V偏压时对应的光暗电流比(PDCR)为1802.63,R为5.27×10^(2)A/W,EQE为257587.76%,D^(*)为5.45×10^(13)Jones。 展开更多
关键词 β-Ga_(2)O_(3) 原子层沉积 NIO 异质结 光电探测器 退火温度
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多晶金刚石对硅基氮化镓材料的影响 被引量:1
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作者 刘庆彬 蔚翠 +6 位作者 郭建超 马孟宇 何泽召 周闯杰 高学栋 余浩 冯志红 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2023年第9期339-346,共8页
氮化镓(GaN)器件的自热问题是目前限制其性能的关键因素,在GaN材料上直接生长多晶金刚石改善器件的自热问题成为研究的热点,多晶金刚石距离GaN器件工作有源区近,散热效率高,但多晶金刚石和GaN材料热失配可能会导致GaN电特性衰退.本文采... 氮化镓(GaN)器件的自热问题是目前限制其性能的关键因素,在GaN材料上直接生长多晶金刚石改善器件的自热问题成为研究的热点,多晶金刚石距离GaN器件工作有源区近,散热效率高,但多晶金刚石和GaN材料热失配可能会导致GaN电特性衰退.本文采用微波等离子体化学气相沉积法,在2 in (1 in=2.54 cm)Si基GaN材料上生长多晶金刚石.测试结果显示,多晶金刚石整体均匀一致,生长金刚石厚度为9—81 μm,随着多晶金刚石厚度的增大, GaN (002)衍射峰半高宽增量和电性能衰退逐渐增大.通过激光切割和酸法腐蚀,将Si基GaN材料从多晶金刚石上完整地剥离下来.测试结果表明:金刚石高温生长过程中,氢原子对氮化硅外延层缺陷位置有刻蚀作用形成孔洞区域,刻蚀深度可达本征GaN层;在降温过程,孔洞周围形成裂纹区域.剥离下来的Si基GaN材料拉曼特征峰峰位, XRD的(002)衍射峰半高宽以及电性能均恢复到本征状态,说明多晶金刚石与Si基GaN热失配产生应力,引起GaN晶格畸变,导致GaN材料电特性衰退,这种变化具有可恢复性,而非破坏性. 展开更多
关键词 多晶金刚石 氮化镓 微波等离子体化学气相沉积法 电性能
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Ni掺杂β-Ga_(2)O_(3)单晶的光、电特性研究 被引量:1
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作者 陈绍华 穆文祥 +4 位作者 张晋 董旭阳 李阳 贾志泰 陶绪堂 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2023年第8期1373-1377,共5页
本文使用导模(EFG)法生长了Ni掺杂β-Ga_(2)O_(3)单晶,并通过粉末X射线衍射(PXRD)和劳厄衍射(Laue diffraction)分别验证了其晶体结构和晶体质量。进一步通过紫外-可见-近红外透过光谱及红外透过光谱研究了Ni^(2+)掺杂对β-Ga_(2)O_(3)... 本文使用导模(EFG)法生长了Ni掺杂β-Ga_(2)O_(3)单晶,并通过粉末X射线衍射(PXRD)和劳厄衍射(Laue diffraction)分别验证了其晶体结构和晶体质量。进一步通过紫外-可见-近红外透过光谱及红外透过光谱研究了Ni^(2+)掺杂对β-Ga_(2)O_(3)光学特性的影响,发现其(100)面的紫外截止边为252.9 nm,对应的光学带隙为4.74 eV。此外,阴极荧光(CL)光谱测试结果显示,Ni^(2+)掺杂β-Ga_(2)O_(3)单晶在600~800 nm具有宽带近红外发光特性,有望拓宽β-Ga_(2)O_(3)单晶材料在宽带近红外方面的应用。 展开更多
关键词 氧化镓 宽禁带半导体 光电性能 宽带近红外发光 导模法 Ni掺杂
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太赫兹时域光谱技术研究S掺杂GaSe晶体的电导率特性 被引量:1
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作者 李高芳 殷文 +5 位作者 黄敬国 崔昊杨 叶焓静 高艳卿 黄志明 褚君浩 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2023年第4期272-282,共11页
本文采用透射式太赫兹时域光谱技术研究0.3—2.5 THz范围内本征GaSe,S掺杂质量分数为2.5%GaSe(GaSe:S(2.5%))和S掺杂质量分数为7%GaSe(GaSe:S(7%))晶体的电导率特性,并利用Drude-SmithLorentz模型对复电导率进行拟合.研究发现GaSe晶体... 本文采用透射式太赫兹时域光谱技术研究0.3—2.5 THz范围内本征GaSe,S掺杂质量分数为2.5%GaSe(GaSe:S(2.5%))和S掺杂质量分数为7%GaSe(GaSe:S(7%))晶体的电导率特性,并利用Drude-SmithLorentz模型对复电导率进行拟合.研究发现GaSe晶体的电导率实部随S掺杂浓度的增大而减小,主要是由于S掺杂使GaSe晶体的费米能级逐渐向电荷中性能级转移,载流子浓度下降引起的.本征GaSe和GaSe:S(2.5%)在约0.56 THz处有明显的晶格振动峰,而GaSe:S(7%)在0.56 THz附近无晶格振动峰,这主要是由于S掺杂提高了晶体的结构硬度,减弱了晶体的层间刚性振动.且3个样品均在约1.81 THz处存在明显的窄晶格振动峰,强度随S掺杂浓度的增大先减小再增大,主要是由于S掺杂降低了GaSe的局部结构缺陷,减弱了窄晶格振动峰强度,而过量的S掺杂生成β型GaS晶体,进而增加晶体的局部结构缺陷,窄晶格振动峰强度随之增强.GaSe晶体约在1.07 THz和2.28 THz处的宽晶格振动峰强度随S掺杂浓度的增大而减弱甚至消失,主要是由于S掺杂产生替位杂质(S取代Se)和GaS间隙杂质,降低了基频声子振动强度,从而减弱了晶体二阶声子差模引起的晶格振动.结果表明,S掺杂可以有效抑制GaSe晶体的晶格振动,降低电导率,减少在THz波段的功率损耗.此研究为低损耗THz器件的设计和制作提供重要的数据支撑和理论依据. 展开更多
关键词 太赫兹时域光谱 S掺杂硒化镓 电导率 Drude-Smith-Lorentz模型
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基于HfO_(2)插层的Ga_(2)O_(3)基金属-绝缘体-半导体结构日盲紫外光电探测器 被引量:1
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作者 董典萌 汪成 +5 位作者 张清怡 张涛 杨永涛 夏翰驰 王月晖 吴真平 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2023年第9期161-170,共10页
作为一种新兴的超宽带隙半导体, Ga_(2)O_(3)在开发高性能的日盲紫外光电探测器方面具有独特的优势.金属-半导体-金属结构因其制备方法简单、集光面积大等优点在Ga_(2)O_(3)日盲紫外光电探测器中得到了广泛的应用.本文在传统的金属-半导... 作为一种新兴的超宽带隙半导体, Ga_(2)O_(3)在开发高性能的日盲紫外光电探测器方面具有独特的优势.金属-半导体-金属结构因其制备方法简单、集光面积大等优点在Ga_(2)O_(3)日盲紫外光电探测器中得到了广泛的应用.本文在传统的金属-半导体-金属结构Ga_(2)O_(3)日盲紫外光电探测器的基础上,利用原子层沉积技术引入高介电性和绝缘性的氧化铪(HfO_(2))作为绝缘层和钝化层,制备出带有HfO_(2)插层的金属-绝缘体-半导体结构的Ga_(2)O_(3)日盲紫外光电探测器,显著降低了暗电流,提升了光暗电流比,同时提高了器件的比探测率和响应速度,为未来Ga_(2)O_(3)在高性能弱光探测器件制备提供了一种新通用策略. 展开更多
关键词 氧化镓 紫外探测 金属-绝缘体-半导体 表面钝化
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多晶金刚石衬底范德瓦耳斯外延GaN薄膜
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作者 白玲 宁静 +6 位作者 张进成 王东 王博宇 武海迪 赵江林 陶然 李忠辉 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2023年第5期901-908,共8页
随着氮化镓(GaN)在高功率领域的广泛应用,GaN基器件的散热性能成为了制约其功率密度的主要因素,因此开辟新的热管理方案至关重要。具有高热导率的金刚石衬底可以用于改善GaN器件的散热问题。然而,由于金刚石和GaN之间的天然晶格失配,在... 随着氮化镓(GaN)在高功率领域的广泛应用,GaN基器件的散热性能成为了制约其功率密度的主要因素,因此开辟新的热管理方案至关重要。具有高热导率的金刚石衬底可以用于改善GaN器件的散热问题。然而,由于金刚石和GaN之间的天然晶格失配,在金刚石衬底上GaN的直接外延仍然是一个难以克服的问题。本工作以二维材料/Al组分渐变的AlGaN异质结作为衬底与外延层之间的成核层,在多晶金刚石衬底上实现了单晶GaN薄膜的范德瓦耳斯外延。其中,二维材料可以有效屏蔽掉衬底与外延层晶格不匹配带来的不良影响,而Al组分渐变的AlGaN缓冲层结构可实现Ga原子和N原子的有序迁移,进而精确地控制GaN薄膜的生长。本工作为异质衬底上高质量生长氮化物提供新思路。实验结果表明,成核层的引入有效地消除晶格失配的影响,从而打破了金刚石衬底上难以直接外延单晶GaN薄膜的瓶颈。本工作为GaN基器件的功率密度的进一步提升提供了基础。 展开更多
关键词 GAN 金刚石 范德瓦耳斯外延生长 高散热 Al组分渐变 二维材料
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斜切角对β-Ga_(2)O_(3)(100)面衬底加工的影响研究
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作者 李信儒 侯童 +5 位作者 马旭 王佩 李阳 穆文祥 贾志泰 陶绪堂 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2023年第9期1570-1575,共6页
本文研究了斜切角的引入对β-Ga_(2)O_(3)(100)面衬底加工的影响,分析了斜切角分别为0°、1°、6°时,(100)面衬底在加工过程中的形貌变化及不同抛光参数对衬底抛光的影响。实验结果表明,随着斜切角的增大,(100)面衬底在加... 本文研究了斜切角的引入对β-Ga_(2)O_(3)(100)面衬底加工的影响,分析了斜切角分别为0°、1°、6°时,(100)面衬底在加工过程中的形貌变化及不同抛光参数对衬底抛光的影响。实验结果表明,随着斜切角的增大,(100)面衬底在加工过程中的解理损伤问题得以改善,加工后表面粗糙度降低,材料去除方式出现了脆性去除-脆塑性混合去除-塑性去除的转变。较小的抛光压力可以有效减少解理损伤,改善表面质量。斜切角为6°时的(100)面衬底抛光效率高,抛光后表面粗糙度可达到Ra≤0.2 nm。 展开更多
关键词 β-Ga_(2)O_(3) 解理 斜切角 抛光 表面粗糙度
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Cu掺杂β-Ga_(2)O_(3)薄膜的制备及紫外探测性能
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作者 刘玮 冯秋菊 +5 位作者 †宜子琪 俞琛 王硕 王彦明 隋雪 梁红伟 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2023年第19期292-298,共7页
β-Ga_(2)O_(3)作为第三代宽禁带半导体材料,具有禁带宽度大(4.9 eV)、击穿电场强,吸收边正好位于日盲紫外波段(波长200—280 nm)内,且在近紫外以及整个可见光波段具有较高的透过率,使得β-Ga_(2)O_(3)是一种非常适合制作日盲紫外光电... β-Ga_(2)O_(3)作为第三代宽禁带半导体材料,具有禁带宽度大(4.9 eV)、击穿电场强,吸收边正好位于日盲紫外波段(波长200—280 nm)内,且在近紫外以及整个可见光波段具有较高的透过率,使得β-Ga_(2)O_(3)是一种非常适合制作日盲紫外光电探测器的材料.目前在p型β-Ga_(2)O_(3)材料方面的研究还较少,但p型β-Ga_(2)O_(3)材料的制备对于其光电器件的应用至关重要,因此成功制备p型β-Ga_(2)O_(3)材料就显得尤为关键.采用化学气相沉积法在蓝宝石衬底上生长出不同Cu掺杂量的β-Ga_(2)O_(3)薄膜,并对薄膜的形貌、晶体结构和光电特性进行了测试.发现随着Cu掺杂量的增加,样品(201)晶面的衍射峰向小角度方向发生了移动,这说明Cu2+替代了Ga3+进入到了Ga2O3晶格中.此外,在Cu掺杂β-Ga_(2)O_(3)薄膜上蒸镀Au作为叉指电极,制备出了金属-半导体-金属结构光电导型日盲紫外探测器,并对其紫外探测性能进行了研究.结果表明,在10 V偏压、254 nm波长紫外光下,器件的光暗电流比约为3.81×102,器件的上升时间和下降时间分别是0.11 s和0.13 s.此外,在光功率密度为64μW/cm2时,器件的响应度和外部量子效率分别是1.72 A/W和841%. 展开更多
关键词 化学气相沉积法 p型β-Ga_(2)O_(3) CU掺杂 紫外光电探测器
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氮化镓纳米片的制备及测试表征 被引量:1
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作者 蔡晓平 沈鹏飞 +2 位作者 崔真 李恩玲 高春昱 《计量与测试技术》 2023年第11期13-16,共4页
二维GaN纳米结构的制备对二维GaN基电子、光电子等纳米器件具有重要意义。本文采用化学气相沉积(CVD)制备二维GaN纳米片时,使用液态金属催化剂,成功制备了二维GaN纳米片,得到制备GaN纳米片的最佳工艺条件。通过对制备的GaN纳米片进行扫... 二维GaN纳米结构的制备对二维GaN基电子、光电子等纳米器件具有重要意义。本文采用化学气相沉积(CVD)制备二维GaN纳米片时,使用液态金属催化剂,成功制备了二维GaN纳米片,得到制备GaN纳米片的最佳工艺条件。通过对制备的GaN纳米片进行扫描电子显微镜(SEM)、能谱仪(EDS)以及X射线衍射仪(XRD)测试表征,结果表明:制备的GaN纳米片是表面光滑、大小薄厚均匀、结晶度良好的六方钎锌矿结构GaN纳米片。 展开更多
关键词 二维材料 GAN 化学气相沉积(CVD) 液态金属
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斜切蓝宝石衬底上GaN薄膜的位错降低机制
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作者 徐爽 许晟瑞 +7 位作者 王心颢 卢灏 刘旭 贠博祥 张雅超 张涛 张进成 郝跃 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2023年第19期188-194,共7页
GaN材料以其宽禁带、高击穿电场、高热导率、直接带隙等优势被广泛应用于光电子器件、大功率器件以及高频微波器件等方面.由于GaN材料异质外延带来的大晶格失配和热失配问题,GaN在生长过程中会产生大量位错,降低了GaN材料晶体质量,导致... GaN材料以其宽禁带、高击穿电场、高热导率、直接带隙等优势被广泛应用于光电子器件、大功率器件以及高频微波器件等方面.由于GaN材料异质外延带来的大晶格失配和热失配问题,GaN在生长过程中会产生大量位错,降低了GaN材料晶体质量,导致器件性能难以进一步提升.为此,研究人员提出使用斜切衬底来降低位错密度,但是关于斜切衬底上外延层的位错湮灭机制的研究还不充分.所以,本文采用金属有机化合物化学气相淀积技术在不同角度的斜切蓝宝石衬底上生长了GaN薄膜,采用原子力显微镜、高分辨X射线衍射仪、光致发光测试、透射电子显微镜详细地分析了斜切衬底对GaN材料的影响.斜切衬底可以显著降低GaN材料的位错密度,但会导致其表面形貌发生退化.并且衬底斜切角度越大,样品的位错密度越低.通过透射电子显微镜观察到了斜切衬底上特殊的位错终止现象,这是斜切衬底降低位错密度的主要原因之一.基于上述现象,提出了斜切衬底上GaN生长模型,解释了斜切衬底提高GaN晶体质量的原因. 展开更多
关键词 斜切蓝宝石衬底 GAN 位错终止 透射电子显微镜
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Effects of preparation parameters on growth and properties of β-Ga_(2)O_(3) film 被引量:3
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作者 陈子豪 王永胜 +8 位作者 张宁 周兵 高洁 吴艳霞 马永 黑鸿君 申艳艳 贺志勇 于盛旺 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2023年第1期440-447,共8页
The Ga_(2)O_(3) films are deposited on the Si and quartz substrates by magnetron sputtering, and annealing. The effects of preparation parameters(such as argon–oxygen flow ratio, sputtering power, sputtering time and... The Ga_(2)O_(3) films are deposited on the Si and quartz substrates by magnetron sputtering, and annealing. The effects of preparation parameters(such as argon–oxygen flow ratio, sputtering power, sputtering time and annealing temperature)on the growth and properties(e.g., surface morphology, crystal structure, optical and electrical properties of the films) are studied by x-ray diffractometer(XRD), scanning electron microscope(SEM), and ultraviolet-visible spectrophotometer(UV-Vis). The results show that the thickness, crystallization quality and surface roughness of the β-Ga_(2)O_(3) film are influenced by those parameters. All β-Ga_(2)O_(3) films show good optical properties. Moreover, the value of bandgap increases with the enlarge of the percentage of oxygen increasing, and decreases with the increase of sputtering power and annealing temperature, indicating that the bandgap is related to the quality of the film and affected by the number of oxygen vacancy defects. The I–V curves show that the Ohmic behavior between metal and β-Ga_(2)O_(3) films is obtained at 900℃. Those results will be helpful for the further research of β-Ga_(2)O_(3) photoelectric semiconductor. 展开更多
关键词 β-Ga_(2)O_(3) magnetron sputtering growth parameters optical and electrical properties
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Self-healing wearable self-powered deep ultraviolet photodetectors based on Ga_(2)O_(3) 被引量:2
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作者 Chao Wu Huaile He +4 位作者 Haizheng Hu Aiping Liu Shunli Wang Daoyou Guo Fengmin Wu 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2023年第7期54-59,共6页
Gallium oxide(Ga_(2)O_(3))based flexible heterojunction type deep ultraviolet(UV)photodetectors show excellent solar-blind photoelectric performance,even when not powered,which makes them ideal for use in intelligent ... Gallium oxide(Ga_(2)O_(3))based flexible heterojunction type deep ultraviolet(UV)photodetectors show excellent solar-blind photoelectric performance,even when not powered,which makes them ideal for use in intelligent wearable devices.How-ever,traditional flexible photodetectors are prone to damage during use due to poor toughness,which reduces the service life of these devices.Self-healing hydrogels have been demonstrated to have the ability to repair damage and their combination with Ga_(2)O_(3) could potentially improve the lifetime of the flexible photodetectors while maintaining their performance.Herein,a novel self-healing and self-powered flexible photodetector has been constructed onto the hydrogel substrate,which exhibits an excellent responsivity of 0.24 mA/W under 254 nm UV light at zero bias due to the built-in electric field originating from the PEDOT:PSS/Ga_(2)O_(3) heterojunction.The self-healing of the Ga_(2)O_(3) based photodetector was enabled by the reversible property of the synthesis of agarose and polyvinyl alcohol double network,which allows the photodetector to recover its original configu-ration and function after damage.After self-healing,the photocurrent of the photodetector decreases from 1.23 to 1.21μA,while the dark current rises from 0.95 to 0.97μA,with a barely unchanged of photoresponse speed.Such a remarkable recov-ery capability and the photodetector’s superior photoelectric performance not only significantly enhance a device lifespan but also present new possibilities to develop wearable and intelligent electronics in the future. 展开更多
关键词 Ga_(2)O_(3) hydrogels SELF-POWERED SELF-HEALING UV photodetector
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Suitable contacting scheme for evaluating electrical properties of GaN-based p-type layers 被引量:2
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作者 Siyi Huang Masao Ikeda +2 位作者 Minglong Zhang Jianjun Zhu Jianping Liu 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2023年第5期62-68,共7页
A suitable contacting scheme for p-(Al)GaN facilitating quick feedback and accurate measurements is proposed in this study.22 nm p^(+)-GaN followed by 2 nm p-In_(0.2)Ga_(0.8)N was grown on p-type layers by metal-organ... A suitable contacting scheme for p-(Al)GaN facilitating quick feedback and accurate measurements is proposed in this study.22 nm p^(+)-GaN followed by 2 nm p-In_(0.2)Ga_(0.8)N was grown on p-type layers by metal-organic chemical vapor deposition.Samples were then cut into squares after annealing and contact electrodes using In balls were put at the corners of the squares.Good linearity between all the electrodes was confirmed inⅠ–Ⅴcurves during Hall measurements even with In metal.Serval samples taken from the same wafer showed small standard deviation of~4%for resistivity,Hall mobility and hole concentration.The influence of contact layer on the electrical characteristics of bulk p-type layers was then investigated by step etching technique using inductively coupled plasma etching and subsequent Hall-effect measurements.Identical values could be obtained consistently when a 28 nm non-conductive layer thickness at the surface was taken into account.Therefore,the procedures for evaluating the electrical properties of GaN-based p-type layers just using In balls proposed in this study are shown to be quick and useful as for the other conventionalⅢ–Ⅴmaterials. 展开更多
关键词 GAN electrical properties ohmic contact
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用于合成气制高值产物的InZrO_(x)制备及性能
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作者 郭玉静 郑和平 +3 位作者 肖大强 任宇 冉龙腾 唐建华 《精细化工》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第9期2003-2012,2019,共11页
以四水合硝酸铟和五水合硝酸锆为原料,通过共沉淀法和水热法制备了InZrO_(x),并在最佳制备方法下探究煅烧温度对合成InZrO_(x)晶体结构和催化效果的影响。与SAPO-34分子筛结合为双功能催化剂用于合成气催化转化制高值产物。采用XRD、SEM... 以四水合硝酸铟和五水合硝酸锆为原料,通过共沉淀法和水热法制备了InZrO_(x),并在最佳制备方法下探究煅烧温度对合成InZrO_(x)晶体结构和催化效果的影响。与SAPO-34分子筛结合为双功能催化剂用于合成气催化转化制高值产物。采用XRD、SEM-EDS、HRTEM、XPS和BET对InZrO_(x)的织构性质、晶体结构、形貌特征及表面元素进行了表征与测试,并在固定床反应器中研究了空速、原料气H_(2)/CO物质的量比(简称氢碳比)、InZrO_(x)与分子筛质量比、反应温度及反应压力对催化效果的影响规律。结果表明,共沉淀法得到的In ZrO_(x)在各方面表现均优于水热法,最佳煅烧温度为550℃。在空速为2000 mL/(g_(cat)·h)、原料气氢碳比为3:1、m(InZrO_(x))∶m(SAPO-34)=1:1、400℃、3 MPa的反应条件下,得到了较高的CO转化率(67.58%)、高值产物选择性[低碳烯烃(C_(2~4))选择性为37.74%、液体燃料(C_(5+))烃类选择性为33.07%]和C_(2~4)收率(23.98%),副产物CO_(2)选择性仅为5.99%。 展开更多
关键词 合成气 轻烯烃 双功能催化剂 水热法 共沉淀法 催化技术
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Anisotropic optical and electric properties of β-gallium oxide 被引量:1
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作者 Yonghui Zhang Fei Xing 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2023年第7期8-22,共15页
The anisotropic properties and applications ofβ-gallium oxide(β-Ga_(2)O_(3))are comprehensively reviewed.All the anisotropic properties are essentially resulted from the anisotropic crystal structure.The process flo... The anisotropic properties and applications ofβ-gallium oxide(β-Ga_(2)O_(3))are comprehensively reviewed.All the anisotropic properties are essentially resulted from the anisotropic crystal structure.The process flow of how to exfoliate nanoflakes from bulk material is introduced.Anisotropic optical properties,including optical bandgap,Raman and photolumines-cence characters are comprehensively reviewed.Three measurement configurations of angle-resolved polarized Raman spec-tra(ARPRS)are reviewed,with Raman intensity formulas calculated with Raman tensor elements.The method to obtain the Raman tensor elements of phonon modes through experimental fitting is also introduced.In addition,the anisotropy in elec-tron mobility and affinity are discussed.The applications,especially polarization photodetectors,based onβ-Ga_(2)O_(3)were summa-rized comprehensively.Three kinds of polarization detection mechanisms based on material dichroism,1D morphology and metal-grids are discussed in-depth.This review paper provides a framework for anisotropic optical and electric properties ofβ-Ga_(2)O_(3),as well as the applications based on these characters,and is expected to lead to a wider discussion on this topic. 展开更多
关键词 gallium oxide ANISOTROPIC DICHROISM POLARIZATION MONOCLINIC
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