316L不锈钢电解抛光的MATLAB图像定量分析

基于机器视觉的不锈钢表面无损检测方法正受到工业界关注并得到研究人员的探索与开发。本研究使用MATLAB对电解抛光的316L不锈钢表面金相图进行图像二值化处理,保留区域点蚀和过抛腐蚀区的黑色像素点和黑色区域,除去浅色划痕和不明显的凹凸区域。图像腐蚀处理选取半径为3个像素点的圆形结构元素为参数,去除图像噪声,增强图像黑色像素区域边界和对比度。选取图像的黑色像素占比和点蚀区域数量作为特征变量,并通过对特征变量进行测量和计数来评估抛光效果。在此基础上,借助MATLABGUI编程平台开发了一个基于图像定量分析过程的抛光效果评估程序,应用该程序可快速获得316L不锈钢电解抛光材料点蚀定量数据,使金相图片分析数值化,弥补主观判断的不足。该方法得到的结果与基于探针式粗糙度测量的优化结果一致。

AAO模板制备中高纯铝电化学抛光工艺的研究

研究了高纯铝片在硫酸-磷酸-乙二醇体系中的电化学抛光工艺。确定了电化学抛光体系的配方。探讨了阳极电流密度、抛光温度、抛光时间和搅拌方式对抛光质量的影响。获得了最佳抛光工艺参数:Ja=25A/dm2,θ=85～93°C,t=10～15min,机械搅拌。新的环保型电化学抛光体系为制备优良的AAO模板奠定了基础。

不锈钢精密件电抛光工艺的研究

研究开发了磷酸含量低、无铬酐型的不锈钢电抛光溶液及工艺方法 ,并对溶液的配制、工艺参数的确定 ,以及溶液的保养、维护做了较全面介绍 ,此抛光溶液及工艺方法尤为适用于精密仪器 ,尤其是尺寸要求严格、薄壁的工件 ,抛光效果好 ,毒性小 。

电抛光

介绍电抛光原理及所需设备.详细介绍了铝、铜及铜合金、镍及镍合金、碳钢及不锈钢的电抛光工艺.

H_2O_2－H_2SO_4系黄铜化学抛光的研究

采用扫描电镜、光反射率法和电化学方法观测了黄铜在Ｈ２Ｏ２—Ｈ２ＳＯ４系化学抛光过程中的表面形貌、表面光亮度、电位时间曲线、电流时间曲线。结果表明，黄铜的化学抛光包括浸蚀、光亮和过腐蚀三个阶段，同时对黄铜化学抛光机理也进行了探讨。

不锈钢在硫酸-磷酸溶液中的电化学抛光行为

利用电化学方法采用线性伏安扫描、循环伏安和电化学阻抗测试研究了HR-1不锈钢在硫酸-磷酸溶液中的电化学抛光行为.实验结果表明,实验所得阳极极化曲线与理论阳极极化曲线吻合较好,证明了在抛光过程中钝化膜的存在,钝化膜形成的电压为0.75～1.25V,最佳的抛光电压区域为1.25～1.75V.通过分析研究,对优化电化学抛光参数,更好的将电化学抛光技术应用于实际生产具有指导意义.

铝装饰型材碱性化学抛光法探讨

探讨了碱性抛光的机理,研究了铝装饰型材碱性化学抛光的配方、工艺条件及抛光效果,讨论了其研究成果,提出以氯化钠作缓蚀添加剂以及操作时应注意的事项,该工艺无污染,工业化前景较好。

铝合金压铸件电化学抛光新工艺

简述电化学抛光原理,提出一种在常温条件下对铝合金压铸件的电化学抛光新工艺.

不锈钢电抛光添加剂的研究

通过添加ＢＰ光亮剂，使不锈钢电抛光的质量大大提高，抛光后的表面可达到镜面的光亮度。

酸性无铬铝合金电化学抛光技术研究

对铝合金的电化学抛光进行了研究,以H3PO4-H2SO4为基础液,加入适当添加剂后可以明显降低成本,改善工作环境,提高抛光表面质量。优化了抛光液配方和工艺条件。利用金相显微镜观测了抛光前、后及封膜后的铝合金的表面形貌,并对试样进行了质量损失测试。

加工小型零件的磁力抛光机的设计

介绍一种加工小型零件的磁力抛光机的结构及工作原理, 用磁场图法计算电磁感应器的磁路, 在磁极形状比较复杂或者气隙较大时, 该种方法在工程中用于计算磁路较为简捷。还计算了线圈的有关技术参数。

采用有机溶液做电抛光溶液的探索

本文介绍用有机溶液电抛光时的溶剂选择、溶液配方、机理探讨和工艺参数。

抛光技术的现状

简要介绍了目前各种抛光技术的原理、特点，并提出了选用的原则。

铝材及铝制品的电解抛光处理（1）铝的抛光处理系列文章之六

电解抛光又称电化学抛光，以被抛光的材料或工件为阳极，以不溶性金属为阴极，利用直流电在电解液中进行电解的过程。较为详经车地论述了电解抛光处理，但此种处理是一种复杂技电化学过程，任一种机理都不能完全解释所有的现象。电解抛光可分为两类：一是在机械抛光后进行，以获得光亮的镜面；另一是取代机械抛光或化学抛光。

铝材及铝制品的电解抛光处理（2）（铝的抛光处理系列文章之七）

阐述了碳酸钠磷酸钠溶液电解抛光法（布赖塔法）的溶液成分、处理工艺参数、产品的应用、产品缺陷及其产生原因等等。该法是最老的铝材电解抛光工艺之一，至今仍在应用，特别适合处理高纯铝及用高纯铝配制的ＡｌＭｇ与ＡｌＭｇＳｉ合金。槽液中的氯离子应严加控制，含氯较多时，处理的材料会产生点腐蚀。全面地阐述了其他碱性溶液电解抛光法。

电化学抛光机制研究与进展

结合纯金电化学抛光表面增亮机制研究,综述了电化学抛光主要机制与进展.在此基础上,给出了电化学抛光不同阶段的合理机制解释.

X射线法测残余应力的表面处理技术研究

本文研究了Ｘ射线残余应力测试中，表面处理所形成的附加应力层的分布，对去除该应力层所用的电解抛光工艺参数进行了探讨，回归了电解抛光方程式；并结合现场测试条件，提供了最佳抛光电流密度。

铜合金光亮化学抛光新工艺

铜合金在仪器仪表、家庭用品、工艺品、标牌等方面有着广泛的应用。通过化学抛光得到的光亮表面提高了铜合金的装饰效果和表面性能。近年来，国内外学者对铜及铜合金的抛光技术进行了大量的研究。国内大多使用铬酐型和硝酸型的酸洗剂，铬酐有毒而硝酸在使用过程中产生大量...

电解抛光法制备超细钼丝及其表征

研究利用交流电解抛光技术制备用于惯性约束聚变Z-pinch物理实验的超细钼丝.实验研究了电解液浓度、温度、电解电压和腐蚀时间对制备超细钼丝的直径、表面状态和钼丝抗拉强度的影响,并用电阻法和扫描电镜、原子力显微镜表征了钼丝直径和表面形貌,用数字测力仪测定了钼丝的强度.测试结果表明,采用该技术能制备出5～15 μm的超细钼丝.